包含镧系金属的聚杂硅氧烷组合物制造技术

本发明专利技术公开了一种聚杂硅氧烷组合物，所述组合物包含(A)第一金属(M1)、(B)第二金属(M2)和(C)具有式(R13SiO1/2)、(R12SiO2/2)、(R1SiO3/2)和/或(SiO4/2)的甲硅烷氧基单元。R1独立地为包含1至30个碳原子的烃基或卤代烃基。(A)、(B)和(C)相对于彼此的摩尔分数由式[(M1)]a[(M2)]b[R13SiO1/2]m[R12SiO2/2]d[R1SiO3/2]t[SiO4/2]q表示，其中a和b各自独立地为0.001至0.9，m、d、t和q中的每一个独立地为0至0.9，前提条件是m、d、t和q不都为0，并且a+b+m+d+t+q的和≈1。(M1)和(M2)中的至少一者为镧系金属。所述组合物具有至少0.05%的量子产率，并用包括使(A’)金属(M3)醇盐、(B’)任选的可水解金属(M4)盐、(C’)含硅材料和(D)水反应的方法形成。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：大卫·德沙泽尔，马丁·格拉斯曼，刘立志，刘南国，E·麦克奎斯顿，S·K·米利，R·施密特，
申请(专利权)人：道康宁公司，
类型：
国别省市：