【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：在基板上形成包括栅极、栅线、对位区的对位栅层和像素测试区的测试栅层的图形；沉积栅绝缘层，并通过构图工艺去除所述对位栅层上的绝缘层和所述测试栅层上的绝缘层；形成包括源极、漏极和数据线的源漏极金属层和半导体层的图形；沉积钝化层并通过构图工艺形成用来连接漏极与像素电极的过孔；沉积像素电极层，并通过构图工艺形成像素电极、对位像素电极和测试像素电极。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：冀新友，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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