一种胶囊内窥镜病灶组织深度和三维尺寸的测量方法技术

技术编号:9161942 阅读:221 留言:0更新日期:2013-09-19 11:47
本发明专利技术公开了一种胶囊内窥镜病灶组织深度和三维尺寸的测量方法,其利用磁定位的方法得到胶囊内窥镜的位置参数,然后相对于某一起点,根据胶囊内窥镜的位置参数得到胶囊内窥镜的轨迹,将该轨迹分割成多段直线,通过计算每一段直线来确定病灶组织相对于某一起点的深度;并利用胶囊内窥镜运动前和运动后分别拍摄到的图像得到胶囊内窥镜运动后的胶囊内窥镜绕中心主轴的旋转角度,结合磁定位方法获得的胶囊内窥镜的位置参数和方向参数,计算病灶组织内特征点的三维位置,然后根据特征点的三维位置得到病灶组织的三维尺寸,优点在于能够减弱或消除人体运动对胶囊内窥镜在人体内工作时的影响,且能够准确实现病灶组织的深度和三维尺寸的测量。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种胶囊内窥镜病灶组织深度的测量方法,其特征在于:包括以下步骤:①通过安置磁体以及磁阻传感器来获取胶囊内窥镜的准确的位置参数,具体过程如下:①?1、在人体外建立一个空间坐标系作为参考坐标系,在人体内安置一个在外周套上设置有圆环型薄磁套的胶囊内窥镜,在获取胶囊内窥镜的位置参数之前,在人体表面安置M?1个磁体,该M?1个磁体和胶囊内窥镜的圆环型薄磁套共同构成M个磁体,再在人体外布置F个磁阻传感器,每个磁阻传感器采集M个磁体的磁场信号并将采集到的每个磁体的磁场信号转换为电压信号V,其中,KV为一个常数;①?2、利用ARM嵌入式系统对每个磁阻传感器各自输出的M个电压信号进行采样,得到每个电压信号各自对应的采样信号,再利用磁定位的方法,根据所有的采样信号获取胶囊内窥镜的位置参数;②根据得到的胶囊内窥镜的位置参数计算病灶组织深度,具体过程如下:②?1、在人体内选择一个部位作为参考点,将此参考点作为起点,采用一次线性拟合或二次抛物线拟合的方法,对步骤①中得到的胶囊内窥镜的位置参数进行去噪处理,得到起点到胶囊内窥镜的轨迹;②?2、将步骤②?1得到的轨迹分割成N段直线段,然后根据N段直线段,计算病灶组织深度D,其中,N≥100。FDA00003244957200011.jpg,FDA00003244957200012.jpg,FDA00003244957200013.jpg...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:胡超苗厚想何小其冯忠晴袁小英陈建可王永辉
申请(专利权)人:浙江大学宁波理工学院
类型:发明
国别省市:

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