【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种从酸性废蚀刻液中回收铜的方法,所述酸性废蚀刻液为印制电路板蚀刻工序过程中蚀刻了铜的废液,该废液的H+浓度为0.01~3mol/L,铜离子5~160g/L及氯离子,其特征是步骤如下:(1)采用体积比为5~20%Lix?系列萃取剂?80~95%煤油或200#溶剂油的有机相;(2)将上述有机相与酸性废蚀刻液按体积比1~30∶1萃取铜;(3)将步骤(2)所得的负载有机相与纯净水按体积比0.1~10∶1进行洗涤;(4)将步骤(3)洗涤后的负载有机相与含硫酸130~250g/L、铜离子5~50g/L的硫酸铜溶液按体积比1~10∶1进行反萃取,反萃取后的有机相返回步骤(2)重复使用;水相为硫酸铜溶液;(5)采用金属阴极,在电流密度50~400A/m2下电沉积步骤(4)所得硫酸铜溶液,得到电沉积铜,电沉积铜后的硫酸铜溶液返回步骤(4)重复使用。
【技术特征摘要】
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