【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及加热装置(heater)、系统及加热方法,特别是,涉及氢氯化反应(hydrochlorination)或氢化(hydrogenation)加热装置,且涉及加热系统中的流体(stream)及产生三氯娃烧(trichlorosilane)的过程。
技术介绍
三氯娃烧能通过根据下列反应方程式氢化四氯化娃(silicon tetrachloride)而产生:Si+2H2+3SiCl4 — 4HSiCl3 (I)反应方程式(I)通常于高压下完成,介于约250磅每平方吋表压(psig)至500磅每平方吋表压(psig),且反应温度介于约500°C至约550°C的范围中。三氯硅烷也能通过根据下列反应方程式氢化硅而产生:3Hi+Si — HSiCl3+H2 (2) 反应方程式(2)通常于低压下完成,约50磅每平方吋表压(psig),且反应温度介于约300°C至约350°C的范围中。
技术实现思路
本案能包括加热装置、系统、及加热一或多个反应物流(reactant stream)以产生例如二氣娃烧。本案一方面或多方面能指代为一加热装置,包括具有一中空圆柱形加热腔(cyl ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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