基板定位装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种基板定位装置，所述基板定位装置包括：支承单元，所述支承单元用于将基板支承就位；光发射单元和光接收单元，所述光发射单元和所述光接收单元分别布置在所述基板的主面两侧并彼此相对；发光控制单元，所述发光控制单元被配置为依据控制值控制所述光发射单元的发光量；以及检测单元，所述检测单元用于检测由所述光接收单元接收到的光接收量。所述基板定位装置还包括调节单元，所述调节单元用于在所述基板没有被所述支承单元支承时依据所述光接收量来控制所述控制值。

【技术实现步骤摘要】

本文所公开的实施方式涉及基板定位装置。
技术介绍
日本专利申请公开第2004-200643号公开了一种对准装置(在下文中称为“基板定位装置”)，这种对准装置当由机器人在限定于被称为EFEM (设备前端模块)的本地清洁装置内的空间中转移基板时执行诸如晶圆等基板的定位。这种基板定位装置基于(例如)当基板的外围部分截断由发光元件和光接收元件所形成的光轴时所检测到的光量变化来对基板执行定位，其中，发光元件和所述光接收元件被布置为在它们中间从主面两侧插入基板的外围部分。然而，传统的基板定位装置在长时间使用时可能会经历基板检测性能的下降。这是因为发光元件随着时间的推移而劣化，因此即使向发光元件施加与之前相同的电流量，输出光量也会减少。
技术实现思路
鉴于以上内容，本文所公开的实施方式提供了一种能够长时间地保持基板检测性能的基板定位装置。根据实施方式，提供了一种基板定位装置，所述基板定位装置包括:支承单元，所述支承单元用于将基板支承就位；光发射单元和光接收单元，所述光发射单元和所述光接收单元分别布置在所述基板的主面两侧并彼此相对；发光控制单元，所述发光控制单元被配置为依据控制值控制所述光发射单元的发本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板定位装置，所述基板定位装置包括：支承单元，所述支承单元用于将基板支承就位；光发射单元和光接收单元，所述光发射单元和所述光接收单元分别布置在所述基板的主面两侧并彼此相对；发光控制单元，所述发光控制单元被配置为依据控制值控制所述光发射单元的发光量；检测单元，所述检测单元用于检测由所述光接收单元接收到的光接收量；以及调节单元，所述调节单元用于在所述基板没有被所述支承单元支承时依据所述光接收量来控制所述控制值。

【技术特征摘要】
2012.01.26 JP 2012-0140891.一种基板定位装置，所述基板定位装置包括: 支承单元，所述支承单元用于将基板支承就位； 光发射单元和光接收单元，所述光发射单元和所述光接收单元分别布置在所述基板的主面两侧并彼此相对； 发光控制单元，所述发光控制单元被配置为依据控制值控制所述光发射单元的发光量; 检测单元，所述检测单元用于检测由所述光接收单元接收到的光接收量；以及 调节单元，所述调节单元用于在所述基板没有被所述支承单元支承时依据所述光接收量来控制所述控制值。2.根据权利要求1所述的装置，所述装置还包括: 存储单元，所述存储单元用于存储控制值信息和光接收量信息，其中，所述控制值信息包括由所述发光控制单元输出的所述控制值的上限值，所述光接收量信息包括由所述检测单元检测到的所述光接收量的下限值， 所述调节单元被配置为控制所述控制值，使得与变为所述上限值或更小值的控制值相对应的光接收量变成等于或大于所述下限值。3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述控制值信息还包括小于所述上限值的第一阈值，所述光接收量信息还包括大于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：胜田信一，
申请(专利权)人：株式会社安川电机，
类型：发明
国别省市：