一种显示装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种显示装置，用以解决现有技术中显示装置色域窄、光效低的问题。本实用新型专利技术实施例提供的一种显示装置，包括蓝光背光源和液晶显示面板，所述液晶显示面板包括上基板、下基板以及位于上基板和下基板之间的液晶层；所述上基板或下基板包括彩膜层，所述彩膜层包括黑矩阵图形，以及红像素图形和绿像素图形；所述红像素图形所在层或所述绿像素图形所在层与黑矩阵图形所在层之间设置有第一钝化层；所述红像素图形所在层和所述绿像素图形所在层之间设置有第二钝化层；所述红像素图形为蓝光激发下发射红光的量子点材料薄膜图形，绿像素图形为蓝光激发下绿光的量子点材料薄膜图形。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

Display device

The utility model discloses a display device, which is used for solving the problems that the color gamut of the display device is narrow and the light efficiency is low in the prior art. A display device provided by the embodiment of the utility model, including blue backlight and liquid crystal display panel, the liquid crystal display panel includes upper and lower substrates and is located between the upper substrate and the lower substrate of the liquid crystal layer; the substrate or substrate includes a color film, the color film includes a black matrix pattern. The red and green pixels and pixel graphics graphics; the red pixels where the graphic layer or the green pixel graphics layer and a black matrix pattern where the layer is provided with a first passivation layer; the red pixels where the graphic layer and the green pixel graphics in the layer is arranged between the second passivation layer; quantum dot films the red pixel graphics graphics under blue light emitting red, green pixel graphics graphics for quantum dots film green under blue light.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及液晶显示
，尤其涉及一种显示装置。
技术介绍
现有的IXD显示屏是将TFT基板与彩膜基板互相贴合，如图1所示包括背光源I’和液晶显不面板2’，其中液晶显不面板2’包括上基板21’、下基板22’和液晶材料23’，在上基板21’上包括有黑矩阵201’、黑矩阵图案包围的红像素区202’、绿像素区203’、蓝像素区204’。所使用的白色背光是用蓝色芯片激发钇铝石榴石晶体YAG荧光粉发出黄光与蓝光混合而成，发光效率低，色彩不纯，再经过彩膜层CF的R\G\B过滤后所得到的色域比较低，颜色不够鲜艳真实。因此如何提高功效是现有技术面临的一个问题。而量子点(Quantum Dot)通常是一种由I1-VI族或II1-V族元素组成的纳米颗粒，受激后可以发射荧光，发光光谱可以通过改变量子点的尺寸大小来控制，且其荧光强度和稳定性都很好，是一种很好的光致发光材料。量子点的种类很多，代表性的有I1-VI族的CdS/CdSe/CdTe/ZnO/ZnS/ZnSe/ZnTe 等和 II1-V 族 GaAs、GaP、GaAs、GaSb、HgS、HgSe、HgTe、InAs, InP, InSb、AlAs、A1P、AlSb等。其中同一物质的量子点，根据其制备出的尺寸不同，所发射出来的光也不同。目前，现有技术已经出现将量子点材料应用于背光源的技术方案，能够在一定程度上提高发光效率，但是如何能够获得一个色域宽，光效高的显示装置，仍是现有技术面临的问题。
技术实现思路
本技术实施例提供了 一种显示装置，用以解决现有技术中显示装置色域窄、光效低的问题。本技术实施例提供的一种显示装置，包括蓝光背光源和液晶显示面板，所述液晶显示面板包括上基板、下基板以及位于上基板和下基板之间的液晶层；所述上基板或下基板包括彩膜层，所述彩膜层包括黑矩阵图形，以及红像素图形和绿像素图形；所述红像素图形所在层或所述绿像素图形所在层与黑矩阵图形所在层之间设置有第一钝化层；所述红像素图形所在层和所述绿像素图形所在层之间设置有第二钝化层；所述红像素图形为蓝光激发下发射红光的量子点材料薄膜图形，绿像素图形为蓝光激发下绿光的量子点材料薄膜图形。本技术提供的显示装置，通过将蓝光作为背光源，将量子点材料引入彩膜层，分别在彩膜层中设置受蓝光激发发射红光的红像素图形和受蓝光激发发射绿光的绿像素图形，由于量子点材料受激发出的光线单色性好，强度和稳定性高，因此相对传统的显示屏，色域更广，光效更高。同时，由于采用了蓝光作为背光源，因此在彩膜层中省去了蓝像素图形的制备，从而也减少了工艺过程，降低了成本。附图说明图1为现有技术中IXD显示屏的结构示意图；图2为本技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图；图3为本技术实施例提供的另一种显示装置的结构示意图；图4为图3所示的结构中显示面板的结构示意图。具体实施方式本技术实施例提供了一种显示装置及制备方法，用以解决现有技术中显示装置色域窄、光效低的问题。以下结合附图对本技术进行说明。参见图2，本技术实施例提供的一种显示装置，包括蓝光背光源I和液晶显示面板2，所述液晶显示面板包括上基板21、下基板22以及位于上基板和下基板之间的液晶层23 ;所述上基板21包括彩膜层20，所述彩膜层20包括黑矩阵图形201，以及红像素图形202和绿像素图形203 ;所述红像素图形202所在层与黑矩阵图形所在层之间设置有第一钝化层241 ;所述红像素图形202所在层和所述绿像素图形203所在层之间设置有第二钝化层242 ;以及在所述绿像素图形203所在层之上设置的保护层243 ;其中，所述红像素图形为蓝光激发下发射红光的量子点材料薄膜图形，绿像素图形为蓝光激发下绿光的量子点材料薄膜图形。如图3所示，本技术实施例提供的一种显示装置的另一种结构，包括蓝光背光源I和液晶显示面板2，所述液晶显示面板上基板21、下基板22以及位于上基板和下基板之间的液晶层23 ;所述下基板22包括彩膜层20，所述彩膜层20包括黑矩阵图形201，以及红像素图形202和绿像素图形203 ;所述红像素图形202所在层与黑矩阵图形所在层之间设置有第一钝化层241 ;所述红像素图形202所在层和所述绿像素图形203所在层之间设置有第二钝化层242 ;以及在所述绿像素图形203所在层之上设置的保护层243 ;其中，所述红像素图形为蓝光激发下发射红光的量子点材料薄膜图形，绿像素图形为蓝光激发下绿光的量子点材料薄膜图形。通过将蓝光作为背光源，将量子点材料引入彩膜层，分别在彩膜层中设置受蓝光激发发射红光的红像素图形和受蓝光激发发射绿光的绿像素图形，由于量子点材料受激发出的光线单色性好，强度和稳定性高，因此相对传统的显示屏，色域更广，光效更高。同时，由于采用了蓝光作为背光源，因此在彩膜层中省去了蓝像素图形的制备，从而也减少了工艺过程，降低了成本。另一方面，相比现有技术中OLED有机发光层，由于量子点材料为无机发光材料，不会被氧化和水汽侵蚀，制备工艺无需在真空或惰性气体的保护下进行，从而降低了成本，提高了稳定性和寿命。较佳地，所述上基板包括上玻璃基板和彩膜层，所述下基板包括TFT阵列基板；其中，所述黑矩阵图形所在层位于所述红像素图形所在层和绿像素图形所在层的上方。采用此结构，需要将上基板和下基板以及液晶材料对盒形成液晶显示面板，现有技术中对盒的工艺流程较为成熟，容易实现。较佳地，所述上基板包括上玻璃基板，所述下基板包括TFT阵列基板和彩膜层；其中，所述黑矩阵图形所在层位于所述红像素图形所在层和绿像素图形所在层的下方。将彩膜层设置在下基板上，无需考虑上基板和下基板对盒的技术所带来的问题。例如，现有技术中在对盒的环节，有一定的偏差，比如，偏差在5 μ m以上，而制作黑矩阵图像的掩膜的工艺偏差在I μ m左右，因此，将彩膜层设置在下基板，省去了对盒可能带来的偏差的问题，因此相比对盒的工艺来讲，能够提高一定的开口率。较佳地，所述红像素图形和所述绿像素图形的上方设置有蓝光滤波层。本技术提供的技术方案中，蓝光背光源一方面作为激发光源，激发红像素图形和绿像素图形分别发射红光和绿光，另一方面，蓝光背光源作为蓝像素的来源，与红、绿光共同组成红、绿和蓝三基色，组合而进行画面的多彩显示。但是，由于制备工艺的限制，可能出现蓝光经过红像素图形和绿像素图形后，还有残余的蓝光出射，因此，在红像素图形和绿像素图形的上方设置蓝光滤波层，该蓝光滤波层采用的是蓝色滤光材料，滤光材料是一种能够改变光谱成分或限定光的振动面的材料。而蓝色滤光材料可以将波长在480nm (蓝光)以下的光吸收，而透过480nm以上的光的材料。因此经过红像素图形和绿像素图形以后，出射的红光和绿光能够完全的出射，而残余的蓝光将被吸收，不会出现在红像素图形和绿像素图形区域，因而能够获得单色性极高的红、绿、蓝三基色像素。例如:N-甲基-2-吡咯甲醛和若单宁为原料，在哌啶催化下合成了一种若单宁蓝光份菁染料，该若单宁蓝光份菁染料是现有的一种已经被合成使用的染料。另外，该蓝光滤波层可以设置在上基板与外层的上偏光片之间，也可以设置在其他位置，只要能够屏蔽残余的蓝光即可。较佳地，所述蓝光背光源为LED背光源。采用LED作为背光源，相本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括蓝光背光源和液晶显示面板，所述液晶显示面板包括上基板、下基板以及位于上基板和下基板之间的液晶层；?所述上基板或下基板包括彩膜层，所述彩膜层包括黑矩阵图形，以及红像素图形和绿像素图形；?所述红像素图形所在层或所述绿像素图形所在层与黑矩阵图形所在层之间设置有第一钝化层；?所述红像素图形所在层和所述绿像素图形所在层之间设置有第二钝化层；?其中，所述红像素图形为蓝光激发下发射红光的量子点材料薄膜图形，绿像素图形为蓝光激发下绿光的量子点材料薄膜图形。

【技术特征摘要】
1.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括蓝光背光源和液晶显示面板，所述液晶显示面板包括上基板、下基板以及位于上基板和下基板之间的液晶层； 所述上基板或下基板包括彩膜层，所述彩膜层包括黑矩阵图形，以及红像素图形和绿像素图形； 所述红像素图形所在层或所述绿像素图形所在层与黑矩阵图形所在层之间设置有第一钝化层； 所述红像素图形所在层和所述绿像素图形所在层之间设置有第二钝化层； 其中，所述红像素图形为蓝光激发下发射红光的量子点材料薄膜图形，绿像素图形为蓝光激发下绿光的量子点材料薄膜图形。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述上基板包括上玻璃基板和所述彩膜层，所述下基板包括TFT阵列基板；其中，所述黑矩阵图形所在层位于所述红像素图形所在层和绿像素图形所在层的上方。3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述上基板包括上玻璃基板，所述下基板包...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡佩芝，董学，陈希，杨东，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：