一种对准装置和方法制造方法及图纸

一种对准装置，包括：光源；用于承载硅片的工件台，可6自由度精确定位；具有硅片对准光栅的硅片；反射镜，使所述光源发出的光入射到所述硅片对准光栅上并遮挡由所述硅片对准光栅衍射的0级光；投影系统，可收集由硅片对准光栅衍射的非0级光，并投射到参考光栅上；其上具有参考光栅的参考标记板，所述参考光栅对经由所述投影系统的非0级光进行再次衍射；用于收集由参考光栅透过的衍射光所形成的干涉条纹的图像的面阵探测器；图像抓取和信号处理系统，从探测器获取干涉条纹图像并对其进行信号处理。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻领域，尤其涉及用于投影式光刻机的对准装置及对准方法。
技术介绍
目前，光刻设备的对准系统多采用两种方式，一种是基于光栅衍射的扫描探测方式，一种是基于成像的静态探测方式。两种方式各有优劣，光栅衍射方式分辨率较高，特别是利用较高级次的衍射光进行探测，但由于是扫描探测，对工件台的运动控制精度提出了很高的要求，且衍射高级次光的能量较低，探测上有一定难度。成像探测方式原理、结构较为简单，但其精度依赖于面阵探测器的分辨率。现有采用光栅衍射、扫描探测方式进行硅片对准，其基本原理是入射光辐射到硅片对准光栅上发生衍射，通过4f光学系统将衍射光收集，利用楔板组将不用衍射级次的光进行分离，并令+/_n级次光相干形成干涉条纹，干涉条纹的相位反映了硅片对准光栅的位置，令干涉条纹与同周期的固定参考光栅进行相位比较，从而确定对准光栅的位置。由于该系统为了能利用分立两个波长的色光进行探测，引入了偏振分束棱镜，为了分离不同衍射级次的光，引入了楔板组，且对折射正、负相同级次的两楔块的面型和楔角一致性要求很高，所以其结构较为复杂，加工、装调难度较大；其次该系统的多级衍射光在像面干涉，在对准标记反射率不本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对准装置，包括：光源；用于承载硅片的工件台，可6自由度精确定位；具有硅片对准光栅的硅片；反射镜，使所述光源发出的光入射到所述硅片对准光栅上并遮挡由所述硅片对准光栅衍射的0级光；投影系统，可收集由所述硅片对准光栅衍射的非0级光，并投射到一参考光栅上；参考标记板，具有所述参考光栅，所述参考光栅对经由所述投影系统的非0级光进行再次衍射；面阵探测器，用于收集经由所述参考光栅再次衍射的非0级光所形成的干涉条纹的图像；图像抓取和信号处理系统，从所述面阵探测器获取所述干涉条纹图像并对其进行信号处理。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：徐文，王帆，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：