【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及调整装置，尤其涉及一种偏置平板的调整装置。
技术介绍
随着半导体工艺日益趋于精密化和生产力要求的不断提高，半导体制造设备的精密性不断提升，相应的，对产品的检测仪器的精密性要求也不断提高。在投影光刻系统中，为了对硅片的表面进行高精度的检测，需要调焦调平系统测量硅片上表面的高度与倾斜信肩、O在调焦调平系统的测量过程中，当投影物镜焦面发生漂移后，若不对其焦面位置进行校正补偿，会使调焦调平的测量点中心与投影物镜曝光视场不重合，引起测量误差。这种情况下为了校正补偿，采用在光路中加一个偏置平板，并通过对偏置平板旋转角度的调整来实现对焦面位置漂移的校正和补偿。目前所常用的两种偏置平板的调整装置的结构如图1和图2所不:如图1所示,旋转电机102直接带动偏置平板101旋转。该调整装置的不足之处在于，由于偏置平板101是直接由旋转电机102带动做旋转运动，此种方式直接导致目前的一般电机无法满足调整偏置平板所需的旋转精度。如图2所示，偏置平板201与杠杆202连接，杠杆202的一端架设在凸轮203顶端，杠杆202的另一端与弹簧205连接，通过步进电机(未图示)驱动凸轮2...
【技术保护点】
一种偏置平板的调整装置，设于调焦调平主框架板上用于调整偏置平板的角度，其特征在于，包括平面连杆机构和旋转电机，所述旋转电机固定设置于调焦调平主框架板上，所述偏置平板与所述调焦调平主框架板活动连接，所述旋转电机经所述平面连杆机构带动所述偏置平板旋转。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：章富平，鲁武旺，李志丹，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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