一种工件台平衡质量质心测试校准方法技术

一种工件台平衡质量质心测校方法，包含以下步骤：以平衡质量作为测校对象，其水平X、Y自由度开环，Rz自由度闭环；给平衡质量注入运动轨迹，采集平衡质量零速段位移测量输出，将平衡质量的位移数据处理后得到平衡质量的水平向三自由度的位移值；将处理得到的数据代入到质心测校方法中，得到平衡质量质心相对形心的偏心量。通过平衡质量物理传感器的测量值来确定平衡质量质心相对物理传感器测量中心的质心偏差，该方法简单实用，不需要增加额外的测试装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻技术，尤其涉及。
技术介绍
光刻设备是一种将掩模图案曝光成像到硅片上的设备。已知的光刻设备包括步进重复式和步进扫描式光刻设备。衡量这些光刻设备的一个重要的方面就是准确度，即在照射期间要移动的部件能够移动的准确度，所述要移动的部件有:承载掩模图案的掩模台，承载硅片的硅片台。一般情况下，都会采用位置反馈，利用标准的基于PID (比例-积分-微分)的控制系统进行控制。同时，为了获得纳米级别的位置准确度，以及快速的响应时间，就要求光刻设备有较大的加速度和对测量基准框架较小的冲击，而这两项指标往往是相互矛盾的，所以，在许多光刻设备中，都采用硅片台-平衡质量的结构，硅片台电机产生较大的加速度来满足快速响应的要求，硅片台电机的反力作用到平衡质量上，平衡质量反向运动来吸收硅片台的冲击，来满足对测量基准框架较小冲击的要求。硅片台-平衡质量系统在运动过程中，满足质心守恒。实际中,平衡质量电机驱动中心为质心点,但是测量中心往往取形心点，这样，在实现控制的时候，就存在控制信号从形心位置到质心位置的转换，这个转换和质心和形心的位置偏差密切相关，如果质心和形心位置没有很好的测校，偏差较大的话本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种工件台平衡质量质心测试校准方法，具有以下步骤：步骤一、针对平衡质量生成N组Rz轨迹，设定最大测试次数M；步骤二、假设初始时质心偏差????????????????????????????????????????????????、为零，设定XY向质心的搜索阈值spec_x和spec_y；步骤三、选择X、Y、Rz轴的测试模型，将此时的、值代入到测试模型中，选择一组Rz轨迹，注入到测试模型；步骤四、运行测试模型，得到平衡质量零速段位移测量输出，进而得到XYRz三自由度的位移输出、和，根据公式：计算出此时的、值并记录；步骤五、输入下一组Rz轨迹，重复步骤三和步骤四，得到不同的、值并记录；步骤六、记...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴立伟，董俊清，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：