用于密封涡轮中的气体路径的装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及用于密封涡轮中的气体路径的装置和方法。一种用于密封涡轮中的气体路径的装置包括在第一护罩区段和第一护罩区段的表面中的槽道。阻挡件在槽道内部延伸，并且槽道中的旁通通路提供在阻挡件和槽道之间到涡轮中的气体路径的流体连通。一种用于密封涡轮中的气体路径的方法包括：将阻挡件放置于第一护罩区段中的第一槽道和第二护罩区段中的第二槽道之间，并且使流体在阻挡件和第一槽道之间流动到涡轮中的气体路径，其中流体流动穿过第一槽道中的第一旁通通路。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于密封涡轮中的气体路径的装置，包括：a.?第一护罩区段；b.?在所述第一护罩区段的表面中的槽道；c.?在所述槽道内部延伸的阻挡件；和d.?在所述槽道中的旁通通路，其中所述旁通通路提供在所述阻挡件和所述槽道之间到所述涡轮中的气体路径的流体连通。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：AG温，R米纳克施森达拉姆，KT麦戈文，
申请(专利权)人：通用电气公司，
类型：发明
国别省市：