用于密封涡轮中的气体路径的系统和方法技术方案

本发明专利技术涉及一种用于密封涡轮中的气体路径的系统和方法。用于密封涡轮中的气体路径的系统包括定子环段、与定子环段相邻的护罩段和在定子环段与护罩段之间的第一承载表面。第一非金属垫片与在定子环段与护罩段之间的第一承载表面接触。用于密封涡轮中的气体路径的方法包括将非金属垫片放置在定子环段、护罩段和外壳中的任何两个之间。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于密封涡轮中的气体路径的系统，其包括：a.?定子环段；b.?护罩段，其与所述定子环段相邻；c.?第一承载表面，其位于所述定子环段与所述护罩段之间；和d.?第一非金属垫片，其与在所述定子环段与所述护罩段之间的所述第一承载表面接触。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：DW韦伯，VJ摩根，
申请(专利权)人：通用电气公司，
类型：发明
国别省市：