【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种玻璃基板的制造方法。
技术介绍
如专利文献I (日本专利特开2009-196879)所示,已有人提出使用下拉法制造TFT (ThinFilmTransistor,薄膜电晶体)型的显示器的方法。于下拉法中,在使熔融玻璃流入成形体中之后,使该熔融玻璃自成形体的顶部溢流。溢流的熔融玻璃沿着成形体的两侧面流下,并于成形体的下端部合流,藉此制成平板状的玻璃(平板玻璃)。之后,一面利用拉伸辊将平板玻璃向下拉伸,一面加以冷却。将经冷却的平板玻璃切割成所需的长度,而制成玻璃基板。
技术实现思路
专利技术要解决的课题在液晶显示器等平板显示器用的玻璃基板上形成有薄膜电晶体(TFT:ThinFilmTransistor)等半导 体元件。在TFT形成时,由于玻璃基板是于高温下进行热处理,故而会引起玻璃基板的结构松弛,并因热收缩而使体积收缩。此时,若热收缩率较大,则会产生形成于玻璃基板上的电路图案错位的问题。作为解决该问题的方法,有专利文献I中所披露的方法。于该方法中,在下拉法的缓冷步骤中,使自缓冷点至「缓冷点_50°C」的温度为止的平均冷却速度低于自「缓冷点+100°C」 ...
【技术保护点】
一种玻璃基板制造方法,其包括如下步骤:成形步骤,其藉由下拉法将熔融玻璃成形为平板玻璃,以及冷却步骤,其将上述平板玻璃冷却;并且,上述冷却步骤包括如下步骤:第1冷却步骤,其以第1平均冷却速度将上述平板玻璃的中央区域的温度冷却至缓冷点,第2冷却步骤,其以第2平均冷却速度将上述中央区域的温度自上述缓冷点冷却至应变点?50℃,以及第3冷却步骤,其以第3平均冷却速度将上述中央区域的温度自上述应变点?50℃冷却至上述应变点?200℃;上述第1平均冷却速度为5.0℃/秒以上,上述第1平均冷却速度高于上述第3平均冷却速度,上述第3平均冷却速度高于上述第2平均冷却速度。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:苅谷浩幸,
申请(专利权)人:安瀚视特控股株式会社,
类型:发明
国别省市:
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