【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种真空溅射靶磁芯，尤其涉及一种结构简单，使用寿命长的真空溅射靶磁芯。
技术介绍
物理气相沉积(Physical Vapor Deposition),是一种利用物理方式在基材上沉积薄膜的技术，在PVD磁控溅射技术中，圆柱形靶是因其具有靶材利用率高、工艺稳定等明显的优势被广泛使用，圆柱靶磁芯对圆柱靶的整体性能起着至关重要的作用。但目前的圆柱靶磁芯结构复杂、加工成本高及使用寿命短。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提出一种结构简单，使用寿命长的真空溅射靶磁芯。一种真空溅射靶磁芯，该真空溅射靶磁芯包括一罩体和磁体固定板，该磁体固定板固定于罩体内，沿该磁体固定板上在竖直方向的平面上开设有安装槽，该安装槽内设有第一磁体，用以形成溅射磁场，在该磁体固定板的两端装设有第二磁体，用于对该溅射的第一磁体产生的磁场进行封磁。上述技术方案将磁体固定板固定于罩体内，这样可有效地保护了磁体，结构简单，使整个磁芯的使用寿命大幅提升。附图说明图1是本专利技术较佳实施例真空溅射靶磁芯整体图。图2是本专利技术较佳实施例真空溅射靶磁芯局分解图。图3是本专利技术较佳实施例真空溅射靶磁芯局部放大图。主要元件符号说明权利要求1.一种真空溅射靶磁芯，其特征在于:该真空溅射靶磁芯包括一罩体和磁体固定板，该磁体固定板固定于罩体内，沿该磁体固定板上在竖直方向的平面上开设有安装槽，该安装槽内设有第一磁体，用以形成溅射磁场，在该磁体固定板的两端装设有第二磁体，用于对该溅射的第一磁体产生的磁场进行封磁。2.如权利要求1所述的真空溅射靶磁芯，其特征在于:所述罩体分为底罩和罩盖，该上罩体通过焊接与底罩...
【技术保护点】
一种真空溅射靶磁芯，其特征在于：该真空溅射靶磁芯包括一罩体和磁体固定板，该磁体固定板固定于罩体内，沿该磁体固定板上在竖直方向的平面上开设有安装槽，该安装槽内设有第一磁体，用以形成溅射磁场，在该磁体固定板的两端装设有第二磁体，用于对该溅射的第一磁体产生的磁场进行封磁。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄登聪，徐华勇，刘振章，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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