【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种图形化衬底,尤其是一种混合型不等间距图形化衬底。
技术介绍
使用图形化衬底替代传统平面衬底,是目前较常见的一种提升LED芯片外量子效率的方法。如图1所示,因外延层2a的材料与外延层2a下的衬底Ia的材料、外延层2a上(出光面)的环氧树脂材料或空气的光折射系数不同,因此当外延层2a的PN结发光时,其发出的光在到达与环氧树脂或空气的接触面(出光面)时有一部分光会因入射角度太大导致在此界面出现全反射而在此射向外延层2a下表面,外延层2a下表面又会将光以原来的角度再反射回上表面,多次的反射导致光在外延层内反复运动减少了光量子从外延层射出的比例即降低了外量子效率。图形化衬底提升外量子效率的原理是,将外延层与衬底的交接面作为一个光学的反射面来看,将原本平面的交接面制作为具有规律性的凸起的表面形态,使光在到达外延层下表面发生反射时其反射后出射方向的光线与上表面的夹角角度发生变化,从而达到减少全反射、减少光在外延层内的反射次数进而减少光自身损耗等效果。其最终目标是减少光在外延层内运动的损失,提升光穿透外延层的几率,提升LED芯片的外量子效率,最终提升LED芯片的发光效率。如图2、图3所示,现有技术中有一种图形化衬底,是在基本衬底3a的表面形成若干以阵列形式排列的凸起4a,凸起4a的大小相同、间距相等的均匀排列,这种结构的图形化衬底虽然一定程度上可以避免全反射的产生,但效果不是很明显。
技术实现思路
本技术的目的是 克服现有技术中存在的不足,提供一种混合型不等间距图形化衬底,可以更大程度地改变光在反射后外延出光面的夹角,最大限度地减少全反射的产生。按照本技术提供 ...
【技术保护点】
一种混合型不等间距图形化衬底,包括基本衬底(1),其特征是:在所述基本衬底(1)的正面刻蚀形成以阵列形式排列的凸起周期(2),所述每个凸起周期(2)包括至少两个大小、形状不一的凸起(2b)。
【技术特征摘要】
1.一种混合型不等间距图形化衬底,包括基本衬底(1),其特征是:在所述基本衬底(I)的正面刻蚀形成以阵列形式排列的凸起周期(2),所述每个凸起周期(2)包括至少两个大小、形状不一的凸起(2b)。2.如权利要求1所述的混合型不等间距图形化衬底,其特征是:所述凸起(2b)的形状为半球状、半椭球状、圆锥状或角锥状。3.如权利要求1所述的混合型不等间距图形化衬底,其特征是:所述凸起(2b)的直径为 0.1 100 μ m。4.如权...
【专利技术属性】
技术研发人员:张帆,吴永胜,
申请(专利权)人:江苏新广联科技股份有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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