【技术实现步骤摘要】
是集成电路辅助设计软件工具中版图验证(DRC)中的一种检查方法。本专利技术属于集成电路辅助设计软件工具中版图验证领域。
技术介绍
集成电路(IC)设计的后期包括版图设计和版图验证，而这两项功能是EDA工具中的重要环节；版图验证是根据版图设计规则、电学规则和原始输入的逻辑关系对版图设计进行正确性的验证并且可以通过对电路和参数的提取，产生电路模拟的输入文件进行后模拟，以进一步检查电学性能。版图验证规则文件是用来验证版图设计是否符合工艺加工约束条件的重要文件，这个文件的正确与否直接关系着芯片加工成败。为了验证该规则文件的正确性，需要构造很多测试向量，然后分析测试向量的计算结果是否与版图验证规则文件一致。这里测试向量指的一般是一组版形，用来反映是否违反设计规则的测试用例。在版图验证规则文件中，有一 类规则比较特殊，它的基本含义是:当被检查图形与辅助层符合某种拓扑关系时，需要检查该图形是否违反设计规则；否则不去检查该规则。为了构造这类规则的测试向量，传统的方法是:在合法单元的测试向量中，增加辅助层图形，使得其拓扑结构符合规则的描述，这样生成的图形就可以满足测试需求了。但是，上述方法有一个弱点:无法检查如果用户在设计规则文件中是否忘了写辅助层的约束，而直接用被检查图形来检查设计规则。为了解决上述问题，本专利技术提出了一种负向对比检查的方法，该方法不仅检查图形的设计规则数值是否符合条件，还检查辅助层的图形拓扑关系是否正确书写，从而保证了规则检查的完备性和正确性。
技术实现思路
假设一个设计规则的描述如下:某个图形层MEl的图形，当其不被另外一个辅助层MarkG覆盖的时候，...
【技术保护点】
版图验证规则的测试向量辅助层生成方法，它的基本含义是在版图验证规则的测试向量生成过程中，针对被检查图形的规则检查，往往需要在被检查图形的区域内增加辅助层图形，从而实现图形检查的完整性。本专利针对辅助层图形的生成，提出了一种负向对比检查的方法，从而保证了检查的完备性。具体步骤如下：(1)如果版图验证规则检查完全被辅助层覆盖(Inside)的某个图形的设计规则，在合法单元(Good?Cell)中除了构造有辅助层覆盖的该图形Pattern外，还故意构造2类负向对比检查的Pattern，一类是在被检查图形上没有覆盖辅助层，而且其规则故意违反了检查规则的数值，这类Pattern认为是合法单元的图形；另外一类是在被检查图形上覆盖了一小部分但没有完全覆盖辅助层，而且其规则故意违反了检查规则的数值，这类Pattern也认为是合法单元的图形。(2)如果版图验证规则检查不完全被辅助层覆盖(Not?Inside)的某个图形的设计规则，在合法单元(Good?Cell)中除了构造没有辅助层覆盖的该图形Pattern外，还故意构造1类负向对比检查的Pattern，其结构是在被检查图形上故意覆盖辅助层，而且其规则故...
【技术特征摘要】
1.版图验证规则的测试向量辅助层生成方法，它的基本含义是在版图验证规则的测试向量生成过程中，针对被检查图形的规则检查，往往需要在被检查图形的区域内增加辅助层图形，从而实现图形检查的完整性。本专利针对辅助层图形的生成，提出了一种负向对比检查的方法，从而保证了检查的完备性。具体步骤如下: (1)如果版图验证规则检查完全被辅助层覆盖(Inside)的某个图形的设计规则，在合法单元(Good Cell)中除了构造有辅助层覆盖的该图形Pattern外,还故意构造2类负向对比检查的Pattern，一类是在被检查图形上没有覆盖辅助层，而且其规则故意违反了检查规则的数值，这类Pattern认为是合法单元的图形；另外一类是在被检查图形上覆盖了一小部分但没有完全覆盖辅助层，而且其规则故意违反了检查规则的数值，这类Pattern也认为是合法单元的图形。(2)如果版图验证规则检查不完全被辅助层覆盖(NotInside)的某个图形的设计规贝U，在合法单元(Good Cell)中除了构造没有辅助层覆盖的该图形Pattern外，还故意构造...
【专利技术属性】
技术研发人员：侯劲松，王勇，张萍，李宁，
申请(专利权)人：天津蓝海微科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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