一种用于环行抛光机的校正板，该校正板由上盘和下盘以及处于上盘和下盘之间的空腔内的多个位移调节件固定在一起而构成，在所述的上盘上还结合一中心具有凸形轴套的轴套板，该轴套板的凸起中心位置通过推力轴承套设一调压轴，该调压轴固定在一可在桁架上移动的溜板上。经试用表明本发明专利技术校正板使工件的被抛光表面平整化过程更容易控制，可有效控制工件面形精度并提高抛光效率。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学抛光设备，特别是一种用于环行抛光机的校正板。
技术介绍
已知的环行光学抛光(如专利号99109433.6)是在大理石台面上附上沥青和松香等混合物的抛光盘，在抛光盘上相对固定有工作环和校正板，在工作环内放入被抛光的工件，加入抛光液，由驱动机构带动大理石台面使抛光盘转动，由于工作环和校正板由支撑轮把持，只能在相对固定的位置上作被动转动，工作环内的工件由于工作环的把持在工作环内被动转动。通过工件和抛光盘的相对运动以及工件自重产生的压力使工件和抛光盘之间产生摩擦，在抛光液的作用下使工件被抛光表面材料产生去除，达到抛光的目的。在已知的如图1和图2所示的环行抛光机部分示意图中，抛光盘1粘结到大理石台面8上，上面放置两个工作环5和一个校正板2，工作环5和校正板2由框架7上固定的支架3上的滚轮4支撑。工件6放置在抛光盘1上的工作环5内。大理石台面8的主轴801由驱动机构驱动。大理石台面8带动抛光盘1转动。抛光盘1上的工作环5、校正板2和工件6对抛光盘1施加由于自重产生的压力，由抛光盘1的转动产生摩擦力带动工作环5、校正板2和工件6运动。由于工作环5和校正板2由固定的滚轮4支撑，只能在相对固定的位置上转动，工件6由于工作环5的位置不动，也只能在工作环5内进行转动。由于工件6和抛光盘1的相对运动使得工件6被抛光表面与抛光液中的抛光粉相互摩擦以及工件6表面与抛光盘1表面相互作用使工件6表面被不断抛光。抛光过程中需要根据工件6的被抛表面面形调整校正板2的位置。当工件6的被抛光表面凹下时，需要将校正板2沿径向方向向内推，以使抛光盘1变凹从而将工件6被抛光表面磨平；当工件6表面变凸时，需要将校正板2沿径向方向向外拉，以使抛光盘1变凸从而将工件6被抛光表面磨平。但在抛光加工过程中，工件6更易变凸而不是变凹，校正板2在可调范围内完全拉出也不能使工件6被抛光表面磨平。
技术实现思路
本专利技术的目的提供一种用于环行抛光机的校正板，该校正板应不但能调整抛光盘面形，而且能更好的控制抛光盘的面形，获得想要的抛光面面形，使工件被抛光表面更容易被磨平。本专利技术的技术解决方案是一种用于环行抛光机的校正板，该校正板由上盘和下盘以及处于上盘和下盘之间的空腔内的多个位移调节件固定在一起而构成，在所述的上盘上还结合一中心具有凸形轴套的轴套板，该轴套板的凸起中心位置通过推力轴承套设一调压轴，该调压轴固定在一可在桁架上移动的溜板上。所述的位移调节件由调节螺栓、锁紧螺母和支撑垫片三部分组成，所述的调节螺栓的尾端具有旋转手柄，或调节螺栓的尾端具有可供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽，或调节螺栓的尾端既有旋转手柄手柄，又有供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽。所述的位移调节件也可以只由调节螺栓和锁紧螺母两部分组成，但该调节螺栓底端应倒角或制成球冠形状，所述的调节螺栓的尾端具有旋转手柄，或调节螺栓的尾端具有可供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽，或调节螺栓的尾端既有旋转手柄手柄，又有供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽。所述的多个位移调节件在所述的轴套板上中心对称地成环带分布，在所述的轴套板和上盘上对应于所述的位移调节件的位置开有螺纹孔，供所述位移调节件的调节螺栓装设。所述的上盘下底面的中心装有支撑垫片，该支撑垫片与下盘接触的一面为平面。所述的轴套板上表面有均匀对称分布的多根加强筋。该校正板通过位移调节件控制下盘表面的面形。在抛光过程中，校正板表面与抛光盘表面在相互运动过程中相吻合，这样的抛光盘面形与工件在相互运动过程中相吻合，从而影响到工件被抛光表面面形。由于校正盘面形可以通过位移调节件量化控制，因此抛光面的面形控制等效于校正板的推进或拉出。而且由于位移调节件可以量化控制，因此校正板的面形可以更容易控制到所需的面形，工件更容易获得要求的平整表面。本专利技术的有益效果通过控制校正板内的位移调节件调节下盘表面的面形即校正板的面形以改变抛光盘面形，从而可以控制抛光工件的面形，经试用表明本专利技术校正板可有效控制工件面形精度并提高抛光效率。附图说明图1是现有环行抛光机的部分俯视示意图。图2是图1的A-A剖视示意图。图3是本专利技术校正板及其在环行抛光机上的关系示意图。图4是本专利技术校正板一个实施例的结构示意图。图5是安装板的俯视图。图6是位移调节件的放大示意图。具体实施例方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步说明，但不应以此限制本专利技术的变化范围。先请参阅图3和图4，图3是本专利技术校正板及其在环行抛光机上的关系示意图。图4是本专利技术校正板一个实施例的结构示意图。由图可见本专利技术用于环行抛光机的校正板，由上盘21和下盘22以及处于上盘21和下盘22之间的空腔内的多个位移调节件16固定在一起而构成，在所述的上盘21上还结合一中心具有凸形轴套的轴套板12，该轴套板12的凸起中心位置通过推力轴承13套设一调压轴11，该调压轴11固定在一可在桁架9上移动的溜板10上。所述的位移调节件16由调节螺栓1601、锁紧螺母1602和支撑垫片1603三部分组成，所述的调节螺栓1601的尾端具有旋转手柄，或调节螺栓1601的尾端具有可供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽，或调节螺栓1601的尾端既有旋转手柄手柄，又有供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽。所述的多个位移调节件16在所述的轴套板12上中心对称地成环带分布，在所述的轴套板12和上盘21上对应于所述的位移调节件16位置开有螺纹孔，供所述位移调节件16的调节螺栓1601装设。该实施例的轴套板12上有对称分布的8根加强筋15。如图4所示，将推力轴承13的外圈装入带有筋板15的轴套板12，8块筋板15对称分布在轴套板12上，增强轴套板12底面抗变形能力。然后装入调节轴11，调节轴11的轴肩和推力轴承13的内圈相贴合。位移调节件16安装点为对称环带分布，保证校正板面形的每个区域都可以调整。位移调节件16的结构如图6所示，由调节螺栓1601、锁紧螺母1602和支撑垫片1603组成。调节螺栓1601具有可供手动旋转的手柄，在手柄上开有一字槽可供使用螺丝刀旋转调节。安装时先将锁紧螺母1602装入调节螺栓1601，然后将调节螺栓1601装入轴套板12和上盘21。轴套板12开有螺孔14，其直径比调节螺栓1601的外径稍大上盘21在轴套板12相应的螺孔14位置亦开有螺纹孔，其螺纹孔的螺距和旋向和调节螺栓1601的螺距和旋向相配。将开有和调节螺栓1601的螺距和旋向相配的螺纹孔的支撑垫片1603和调节螺栓1601相固定。位移调节件16的调节通过调节螺栓1601的上升或下降使位移调节件16控制下盘22的面形，调节好后将锁紧螺母1602锁紧。位移调节件16的升降的精度由调节螺栓1601的螺距决定，大螺距精度低，小螺距精度高。将支撑垫片17装入上盘，可采用螺纹或胶结方式固定，保证支撑垫片17与下盘22接触时的表面为平面。通过调节校正板2腔内的位移调节件16位移，可以改变与抛光盘1表面接触的校正板2表面的面形2201A。所有的位移调节件16位移都一样时，校正板2的表面面形2201A为平面，如图4所示。位移调节件16增加位移的大小影响到校正板2表面面形的凸起程度。调节位移调节件16减小位移后，在抛光盘1的压力下，校正板2的表面面形会凹下。将上盘21和下盘22固定本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于环行抛光机的校正板，其特征是：该校正板由上盘（２１）和下盘（２２）以及处于上盘（２１）和下盘（２２）之间的空腔内的多个位移调节件（１６）固定在一起而构成，在所述的上盘（２１）上还结合一中心具有凸形轴套的轴套板（１２），该轴套板（１２）的凸起中心位置通过推力轴承（１３）套设一调压轴（１１），该调压轴（１１）固定在一可在桁架（９）上移动的溜板（１０）上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：樊全堂，朱健强，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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