固定待抛光元件的吸附性垫片和其制造方法技术

本发明专利技术涉及一种固定一待抛光元件的吸附性垫片，其包括一底材、一表层和一微凹凸层。所述底材具有一表面。所述表层位于所述底材的表面上，所述表层的内部无孔洞结构，所述表层具有一表面。所述微凹凸层位于所述表层的表面上，用以承载且固定所述待抛光元件，所述微凹凸层的内部无孔洞结构。藉此，当所述待抛光元件与所述微凹凸层接触时，其间的空气可以经由所述微凹凸层顺利排出，而不会产生包空气的现象，可提高所述待抛光元件与所述吸附性垫片间的吸附力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，具体而言，涉及一种 使用于化学机械抛光工艺的。
技术介绍
抛光一般是指化学机械研磨(CMP)工艺中，对于初为粗糙表面的磨耗控制，其是利 用含细粒子的研磨浆液平均分散于一研磨垫的上表面，同时将一待抛光元件抵住所述研 磨垫后以重复规律动作搓磨。所述待抛光元件是诸如半导体、存储媒介基材、集成电路、 LCD平板玻璃、光学玻璃与光电面板等物体。在抛光过程中，必须使用一吸附性垫片以 承载和固定所述待抛光元件，而所述吸附性垫片的质量则直接影响所述待抛光元件的抛 光效果。参考图l，显示美国专利第US5，781，393号专利所揭示的具有常规吸附性垫片的研磨 设备的示意图。所述研磨设备l包括一下基座(Lower Base Plate)ll、 一吸附性垫片 (Sheet)12、 一待抛光元件(Polishing Workpiece)13、 一上基座(Upper Base Plate)14、 一抛 光垫(Polishing Pad)15和一研磨浆液(Slurry)16。所述吸附性垫片12利用一粘胶层17粘附 于所述下基座ll上，且所述吸附性垫片12用以承载和固定所述待抛光元件13。所述抛光 垫15固定于所述上基座14。所述研磨设备l的致动方式如下。首先将所述待抛光元件13固定于所述吸附性垫片 12上，接着，转动所述上基座14和所述下基座11,且同时将所述上基座14向下移动，使 所述抛光垫15接触到所述待抛光元件13的表面，通过不断补充所述研磨桨液16以和所述 抛光垫15的作用，可对所述待抛光元件13进行抛光作业。参考图2，显示图l的吸附性垫片的局部示意图。所述吸附性垫片12为单层结构，且 其材质通常为PU(Polyurethane)，其为一种发泡材质，再者，所述吸附性垫片12由湿式工 艺所加工而成，因此所述吸附性垫片12的内部会具有复数个连续式的发泡孔洞121。其 缺点为，在抛光过程中所述发泡孔洞121容易将所述研磨浆液16吸入，造成所述吸附性 垫片12的软硬度和物性产生变化，而需重新调整研磨条件；再者，所述吸附性垫片12的 寿命也因此而减少。此外，所述吸附性垫片12是利用湿式工艺所制得，其不平坦度过大， 很难达到0.5mm以上全面均一厚度。最后，所述吸附性垫片12内的发泡孔洞121使得所述吸附性垫片12在吸附所述待抛光元件13时，会有包空气的现象产生，因而造成所述待抛 光元件13的附着不好且抛光过程中容易破裂，而且所述待抛光元件13在抛光后的抛光面不平坦。因此，有必要提供一种创新且具进步性的吸附性垫片和其制造方法，以解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种固定一待抛光元件的吸附性垫片，包括一底材、一 表层和一微凹凸层。所述底材具有一表面。所述表层位于所述底材的表面上，所述表层 的内部无孔洞结构，所述表层具有一表面。所述微凹凸层位于所述表层的表面上，用以 承载且固定所述待抛光元件，所述微凹凸层的内部无孔洞结构。藉此，当所述待抛光元 件与所述微凹凸层接触时，其间的空气可以经由所述微凹凸层顺利排出，而不会产生包 空气的现象，可提高所述待抛光元件与所述吸附性垫片间的吸附力，增加所述待抛光元 件的抛光效果。此外，由于所述表层和所述微凹凸层的内部均无孔洞结构，因此在抛光 过程中不会吸入研磨浆液，可提高所述吸附性垫片的寿命。本专利技术的另一目的在于提供一种固定一待抛光元件的吸附性垫片的制造方法，包括 以下步骤(a) 形成一表层于一离型纸上，所述表层的内部无孔洞结构；(b) 形成一底材于所述表层上； (C)烘干；(d) 移除所述离型纸；和(e) 印刷一微凹凸层于所述表层上，所述微凹凸层的内部无孔洞结构。 附图说明图1显示美国专利第US5，781，393号专利所揭示的具有常规吸附性垫片的研磨设备的 示意图2显示图1的吸附性垫片的局部示意图3显示本专利技术固定待抛光元件的吸附性垫片的局部示意图；和图4至6显示本专利技术固定待抛光元件的吸附性垫片的制造方法的各个工艺步骤示意图。主要元件符号说明1 研磨设备2本专利技术的吸附性垫片11下基座12吸附性垫片13待抛光元件14上基座15抛光垫16研磨浆液17粘胶层21底材22表层23微凹凸层30离型纸121发泡孔洞211底材第一表面212底材第二表面213孔洞221表层的表面231突起结构232排气空间具体实施例方式参考图3，显示本专利技术固定待抛光元件的吸附性垫片的局部示意图。本专利技术的吸附 性垫片2为三层结构，其包括一底材21、 一表层22和一微凹凸层23。所述底材21具有一 第一表面211和一第二表面212，所述第二表面212用以粘附于一研磨设备的下基座(图 中未示)上。在本实施例中所述底材21的材质为高固成分(HighSolid)的PU，其内部具有 复数个连续式或非连续式的孔洞213，且其厚度可大于0.5mm。然而可以理解的是，所述 底材21的材质也可以是压克力树脂或是其它树脂。所述表层22位于所述底材21的第一表面211上，所述表层22的内部无孔洞结构，所 述表层22具有一表面221。所述表层22的材质为不发泡的高分子弹性体(例如PU、压克 力树脂或是其它树脂)，其具有均一的厚度，且其厚度小于所述底材21的厚度。所述表 层22的材质与所述底材21的材质可以是相同或是不同。所述微凹凸层23位于所述表层22的表面221上，用以承载且固定一待抛光元件(图 中未示)。所述微凹凸层23的内部无孔洞结构，且其材质为不发泡的高分子弹性体(例如PU、压克力树脂或是其它树脂)。所述微凹凸层23的材质与所述表层22的材质可以是 相同或是不同。所述微凹凸层23的任意二个突起结构231间形成一排气空间232，当所述 待抛光元件与所述微凹凸层23接触时，其间的空气可以经由所述排气空间232顺利排出， 而不会产生包空气的现象，可提高所述待抛光元件与所述吸附性垫片2间的吸附力，增 加所述待抛光元件的抛光效果。此外，由于所述表层22和所述微凹凸层23的内部均无孔 洞结构，因此在抛光过程中不会吸入研磨浆液，可提高所述吸附性垫片2的寿命。本专利技术另外涉及一种固定待抛光元件的吸附性垫片的制造方法，其包括以下步骤。 首先，参考图4，在一离型纸30上形成一表层22，所述表层22的内部无孔洞结构。 所述表层22具有一表面221。所述表层22的材质为不发泡的高分子弹性体(例如PU、压 克力树脂或是其它树脂)，其具有均一的厚度。优选地，所述表层22以涂布方式形成于 所述离型纸30上。接着，参考图5，形成一底材21于所述表层22上，所述底材21具有一第一表面211和 一第二表面212。在本实施例中所述底材21的材质为高固成分(High Solid)的PU，其内部 具有复数个连续式或非连续式的孔洞213，且其厚度可大于0.5mm。然而可以理解的是， 所述底材21的材质也可以是压克力树脂或是其它树脂。所述表层22的材质与所述底材21 的材质可以是相同或是不同。优选地，所述底材21以涂布方式形成于所述表层22上。因 此，比起常规湿式工艺，在所述底材21的厚度大于0.5mm时本专利技术的所述底材21还能保 持厚度均匀。接着，将所述底材21和所述表层22烘干约一天时间。之后，移除所述离型纸30。 最后，参考图6，将所述底材21和所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种固定一待抛光元件的吸附性垫片，包括：　　　　一底材，具有一表面；　　　　一表层，位于所述底材的表面上，所述表层的内部无孔洞结构，所述表层具有一表面；和　　　　一微凹凸层，位于所述表层的表面上，用以承载且固定所述待抛光元件，所述微凹凸层的内部无孔洞结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：冯崇智，姚伊蓬，赵征祥，
申请(专利权)人：三芳化学工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]