导电膜、导电膜的制造方法及其触摸屏技术

一种导电膜，包括：基片，第一表面和第二表面相对设置；第一导电层，设于所述基片的第一表面，所述第一导电层包括第一导电区及第一绝缘区，所述第一导电区包括由金属所形成的金属网格；第一抗氧化层，覆盖于所述第一导电层；第一导电层表面覆盖有第一抗氧化层，若在生产过程中第一导电区金属网格线被氧化，所述第一抗氧化层中可以将被氧化的金属网格线还原，维持导电层方阻的稳定，保持导电层的导电性维持一致，同时还可以吸收经过氧化反应生成的金属氧化物分解产生的氧气，避免氧气在成型基质层中形成气泡，防止导电膜透光率降低。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及触摸屏
，特别是涉及一种导电膜、导电膜的制造方法及其应用该导电膜的触摸屏。
技术介绍
触摸屏是可接收触摸等输入信号的感应式装置。触摸屏赋予了信息交互崭新的面貌，是极富吸引力的全新信息交互设备。触摸屏技术的发展引起了国内外信息传媒界的普遍关注，已成为光电行业异军突起的朝阳高新技术产业。目前，导电层是触摸屏模组中至关重要的组成部分。一般的触摸屏中的导电层通常采用真空蒸镀或者磁控溅射方式将透明导电材料氧化铟锡(ITO)镀制在PET基板上形成。然而，铟元素是一种稀土元素，在大自然中储量比较小，价格比较昂贵，从而使得导电薄膜的成本较高，因此，近年来以金属作为导电层来产生触摸屏的研究热潮异军突起。但是以金属作为导电层也有一系列的问题，表现较突出的是金属在空气中容易氧化，在生产过程中或是触摸屏经过长时间使用后，导电层金属表面部分会被氧化成金属氧化物，故而会影响导电层的导电性，当应用到触摸屏和触摸显示屏上时，还会降低其感应灵敏度。
技术实现思路
基于此，有必要针对导电层的导电性变差的问题，提供一种导电膜、导电膜的制造方法以及应用该导电膜的触摸屏。—种导电膜,包括:基片，包括第一表面和第二表面，所述第一表面和所述第二表面相对设置；第一导电层，设于所述基片的第一表面，所述第一导电层包括第一导电区及第一绝缘区，所述第一导电区包括由金属所形成的金属网格；第一抗氧化层，覆盖于所述第一导电层。在其中一个实施例中，所述第一导电层直接形成于所述基片的第一表面，所述抗氧化层覆盖于所述第一导电层的第一导电区。在其中一个实施例中，所述基片的第一表面设有第一基质层，所述第一基质层远离所述基片的表面设有第一凹槽，所述第一导电层收容于所述第一凹槽中，所述第一基质层中含有化学还原剂。在其中一个实施例中，所述基片的第一表面设有第一凹槽，所述第一导电层收容于所述第一凹槽中。在其中一个实施例中，所述第一绝缘区包括由金属化合物所形成的金属网格，其中所述不导电金属化合物由所述金属反应产生。在其中一个实施例中，所述第一导电区的金属网格和所述第一绝缘区的不导电金属化合物网格形状互补。在其中一个实施例中，所述第一导电区包括第一轴向导电列及第二轴向导电列；所述第一轴向导电列包括第一轴向导电单元及电连接第一轴向导电单元的第一连接部，所述第二轴向导电列包括第二轴向导电单元及电连接第二轴向导电单元的第二连接部，所述第一连接部与第二连接部之间设有绝缘件，所述绝缘件使所第一连接部与所述第二连接部相互绝缘。在其中一个实施例中，还包括第二导电层，与所述第一导电层在所述基片的厚度方向上相互间隔且绝缘，所述第二导电层包括第二导电区及第二绝缘区，所述第二导电区包括由金属所形成的金属网格，所述第二导电层覆盖有第二抗氧化层。在其中一个实施例中，所述第二抗氧化层覆盖于所述第二导电区。在其中一个实施例中，还包括第二基质层，所述第二导电层嵌设于所述第二基质层中，所述第二基质层中掺有化学还原剂。在其中一个实施例中，所述第二基质层覆盖所述第一导电层，所述第二基质层位于所述第一导电层与所述第二导电层之间，且所述第二基质层、第一导电层及所述第二导电层其同位于该基片的同侧。在其中一个实施例中，所述第二基质层设于所述基片的第二表面。在其中一个实施例中，所述第二基质层远离所述基片的表面设有第二凹槽，所述第二导电层收容于所述第二凹槽中。在其中一个实施例中，所述基片的第二表面设有第二收容槽，所述第二导电层收容于所述第二收容槽中。在其中一个实施例中，所述第二导电层直接形成于所述基片的第二表面。在其中一个实施例中，所述第二导电区的金属网格和所述第二绝缘区的不导电金属化合物网格形状互补。在其中一个实施例中，所述第二绝缘区包括由不导电金属化合物所形成的绝缘网格线，其中所述不导电金属化合物由所述金属反应产生。一种触摸屏，包括透明面板、电极引线和导电线路，还包括以上所述的导电膜，所述透明面板覆盖于所述第一导电层表面，所述电极引线与第一导电层所述第一导电区的金属网格连接，所述导电线路与电极弓I线连接。—种触摸屏，包括透明面板、电极引线和导电线路，还包括以上所述的导电膜，所述透明面板覆盖于所述第一导电层表面，所述电极引线包括第一电极引线及第二电极引线，所述第一电极引线与第二电极引线在所述基片的厚度方向上相互间隔，所述第一电极引线与第一导电层的金属网格线连接，所述第二电极引线与第二导电层的金属网格线连接，所述导电线路与电极引线连接。一种导电膜的制造方法，包括以下步骤:提供一基片，包括第一表面和第二表面，所述第一表面和第二表面相对设置；形成金属网格，在所述基片的第一表面形成金属网格，构成第一导电层；图形化遮蔽，以在所述第一导电层表面形成保护层，被所述保护层覆盖的为第一导电区，未被保护层覆盖的为第一绝缘区；氧化第一导电层，以使未被保护层覆盖的金属网格被氧化；置于H2S氛围中，使所述第一导电层未被保护层覆盖的金属网格反应生成不导电的金属化合物，形成不导电金属化合物网格，得到第一导电区由金属网格形成，第一绝缘区由不导电的金属化合物网格形成的导电膜；涂布，以形成第一抗氧化层，防止所述第一导电层在使用中被氧化。在其中一个实施例中，所述形成金属网格具体包括以下步骤:压印，在所述基片开设凹槽第一凹槽；填充金属衆至所述第一凹槽并烧结，形成金属网格，构成第一导电层。在其中一个实施例中，所述形成金属网格具体包括以下步骤:涂布，在所述基片的第一表面进行涂布，形成第一基质层；添加化学还原剂，使所述第一基质层中分布有化学还原剂；压印，在所述第一基质层开设第一凹槽；填充金属浆至所述第一凹槽并烧结，形成嵌入第一基质层中的金属网格，构成第一导电层。在其中一个实施例中，所述形成金属网格具体包括以下步骤:涂布，在所述基片的第一表面涂布纳米金属浆；烘烤，以烘干第一表面涂布的纳米金属浆中溶剂，使纳米金属浆中纳米金属线相互搭接，形成第一导电层；压实，对第一导电层进行压实，使纳米金属浆中纳米金属线相互连接形成金属网格。在其中一个实施例中，在所述置于H2S氛围中步骤后，还包括形成第二导电层的步骤，具体包括以下步骤:形成金属网格，在所述基片的第一导电层表面或者所述基片的第二表面得到金属网格，构成第二导电层；图形化遮蔽，在所述第二导电层表面形成保护层，被所述保护层覆盖的为第二导电区，未被保护层覆盖的为第二绝缘区；氧化第二导电层，以使未被保护层覆盖的金属网格被氧化；置于H2S氛围中，使所述第二导电层未被保护层覆盖的金属网格反应生成不导电的金属化合物，形成不导电金属化合物网格，得到第二导电区由金属网格形成，第二绝缘区由不导电的金属化合物网格形成的导电膜；涂布，以形成第二抗氧化层，防止所述第二导电层在使用中被氧化。在其中一个实施例中，对图形化遮蔽后的第一导电层和第二导电层进行氧化的方式包括:将第一导电层和第二导电层置于氧化氛围中，所述氧化氛围包括过氧化氢、稀硝酸、热浓硫酸或者盐酸；或者在第一导电层和第二导电层表面涂布氧化材料，形成第一绝缘区和第二绝缘区。在其中一个实施例中，所述保护层通过光刻胶、喷墨打印或者图形化丝网印刷形成。上述导电膜，通过在基片的第一表面或者基质层压印形成凹槽，并使凹槽中填充有金属材料，形成嵌入基质层中的金属网格线；第一导电层表面覆盖有第本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种导电膜，其特征在于，包括：基片，包括第一表面和第二表面，所述第一表面和所述第二表面相对设置；第一导电层，设于所述基片的第一表面，所述第一导电层包括第一导电区及第一绝缘区，所述第一导电区包括由金属所形成的金属网格；第一抗氧化层，覆盖于所述第一导电层。

【技术特征摘要】
1.一种导电膜，其特征在于，包括: 基片，包括第一表面和第二表面，所述第一表面和所述第二表面相对设置； 第一导电层，设于所述基片的第一表面，所述第一导电层包括第一导电区及第一绝缘区，所述第一导电区包括由金属所形成的金属网格； 第一抗氧化层，覆盖于所述第一导电层。2.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述第一导电层直接形成于所述基片的第一表面，所述抗氧化层覆盖于所述第一导电层的第一导电区。3.根据权利要求2所述的导电膜，其特征在于，所述基片的第一表面设有第一基质层，所述第一基质层远离所述基片的表面设有第一凹槽，所述第一导电层收容于所述第一凹槽中，所述第一基质层中含有化学还原剂。4.根据权利要求2所述的导电膜，其特征在于，所述基片的第一表面设有第一凹槽，所述第一导电层收容于所述第一凹槽中。5.根据权利要求1至4中任意一项所述的导电膜，其特征在于，所述第一绝缘区包括由金属化合物所形成的金属网格，其中所述不导电金属化合物由所述金属反应产生。6.根据权利要求5所述的导电膜，其特征在于，所述第一导电区的金属网格和所述第一绝缘区的不导电金属化合物网格形状互补。7.根据权利要求6所述的导电膜,其特征在于,所述第一导电区包括第一轴向导电列及第二轴向导电列；所述第一轴向导电列包括第一轴向导电单元及电连接第一轴向导电单元的第一连接部，所述第二轴向导电列包括第二轴向导电单元及电连接第二轴向导电单元的第二连接部，所述第一连接部与第二连接部之间设有绝缘件，所述绝缘件使所第一连接部与所述第二连接部相互绝缘。8.根据权利要求6所述的导电膜，其特征在于，还包括第二导电层，与所述第一导电层在所述基片的厚度方向上相互间隔且绝缘，所述第二导电层包括第二导电区及第二绝缘区，所述第二导电区包括由金属所形成的金属网格，所述第二导电层覆盖有第二抗氧化层。9.根据权利要求8所述的导电膜，其特征在于，所述第二抗氧化层覆盖于所述第二导电区。10.根据权利要求9所述的导电膜，其特征在于，还包括第二基质层，所述第二导电层嵌设于所述第二基质层中，所述第二基质层中掺有化学还原剂。11.根据权利要求10所述的导电膜，其特征在于，所述第二基质层覆盖所述第一导电层，所述第二基质层位于所述第一导电层与所述第二导电层之间，且所述第二基质层、第一导电层及所述第二导电层其同位于该基片的同侧。12.根据权利要求10所述的导电膜，其特征在于，所述第二基质层设于所述基片的第二表面。13.根据权利要求11或12所述的导电膜，其特征在于，所述第二基质层远离所述基片的表面设有第二凹槽，所述第二导电层收容于所述第二凹槽中。14.根据权利要求12所述的导电膜，其特征在于，所述基片的第二表面设有第二收容槽，所述第二导电层收容于所述第二收容槽中。15.根据权利要求12所述的导电膜，其特征在于，所述第二导电层直接形成于所述基片的第二表面。16.根据权利要求13所述的导电膜，其特征在于，所述第二导电区的金属网格和所述第二绝缘区的不导电金属化合物网格形状互补。17.根据权利要求13所述的导电膜，其特征在于，所述第二绝缘区包括由不导电金属化合物所形成的绝缘网格线，其中所述不导电金属化合物由所述金属反应产生。18.一种触摸屏，包括透明面板、电极引线和导电线路，其特征在于，还包括权利要求1至7中任意一项所述的导电膜，所述透明面板覆盖于所述第一导电层表面，所述电极引线与第一导电层所述第一导电区的金属网格连接，所述导电线路与电极引线连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：高育龙，何钊，
申请(专利权)人：南昌欧菲光科技有限公司，
类型：发明
国别省市：