一种针锥微纳双级阵列结构材料及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种新材料及其制备方法，特别涉及一种针锥微纳双级阵列结构材料及其制备方法。本发明专利技术的针锥微纳双级阵列结构材料，包括微米级针锥和纳米级针锥，所述微米级针锥垂直于金属基材表面生长，所述纳米级针锥生长在所述微米级针锥表面上，所述纳米级针锥呈放射状排列。与现有技术相比，本发明专利技术的针锥微纳双级阵列结构材料的针锥尺寸可达到纳米尺度，且制备方法简单、成本低廉，对底材形状、材质无特殊要求，有利于该材料的广泛应用和规模化生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种新材料及其制备方法，特别涉及。
技术介绍
目前，制备针锥晶阵列材料的方法主要有光刻技术(Tan BJY, Sow C H，Koh TS, etal.Fabrication of size-tunable gold nanoparticles array with nanospherelithography, reactive ion etching, and thermal annealing[J].JournM of PhysicalChemistry B，2005，109 (22):11100-11109.),模板法(Cao H, Xu Ζ, Sang H, et al.Template synthesis and magnetic behav ior of an array of cobalt nanowiresencapsulated in polyaniline nanotubules[J].Advanced Materials,2001,13(2):121—122.)、电子束、离子束加工(BaiA, Hu c C.1ron-cobah and iron本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种针锥微纳双级阵列结构材料，其特征在于，包括微米级针锥和纳米级针锥，所述微米级针锥生长在金属基材表面，所述纳米级针锥生长在所述微米级针锥表面上。

【技术特征摘要】
1.一种针锥微纳双级阵列结构材料，其特征在于，包括微米级针锥和纳米级针锥，所述微米级针锥生长在金属基材表面，所述纳米级针锥生长在所述微米级针锥表面上。2.如权利要求1所述的针锥微纳双级阵列结构材料，其特征在于，所述微米级针锥垂直生长在金属基材表面，所述纳米级针锥垂直生长在所述微米级针锥表面上，所述纳米级针锥呈放射状排列在所述微米级针锥表面。3.如权利要求1所述的针锥微纳双级阵列结构材料，其特征在于，所述微米级针锥的高度为1.0-10.0 μ m,其底部直径为0.1-1.0 μ m。4.如权利要求1所述的针锥微纳双级阵列结构材料，其特征在于，所述纳米级针锥的高度为50.0-500.0nm，其底部直径为5.0_50nm。5.一种如权利要求1所述的针锥微纳双级阵列结构材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤: (1)取金属基材，对所述金属基材进行表面除油、酸洗、活化处理； (2)将步骤(I)中处理过的金属基材放入电镀槽中，以金属基材作为阴极，不溶极板为阳极，用导线将阳极、阴极、电镀电源和电镀液构成电流回路； (3)设定电沉积参数，即设定电镀电流密度和电镀时间，进行电沉积，在金属基材上制备出微米级针锥； (4)调整电沉积参数和电镀液参数后进行再沉积，在所述微米级针锥上生长纳米级针锥，形成针锥微纳双级阵列结构材料。6.如权利要求5所述的针锥微纳双级阵列结构材料的制备方法，其特征在于，所述金属基材选自铜、铝、铁的其中一种。7.如权利要求5所述的针锥微纳双级阵列结构材料的制备方法，其特征在于，所述步骤(I)中的除油步骤是指将金属基材表面粘附的油污有机物质去除的处理工序；酸洗步骤是指将金属基材表面的氧化物层用酸液去除的处理工序。8.如权利要求5所述的针锥微纳双级阵列结构材料的制备方法，其特征在于，所述步骤(I)进一步包括:将金属基材先电解除油30s-60s，蒸馏水洗，之后在8-12%稀盐酸中进行酸洗15-25S，蒸馏水...

【专利技术属性】
技术研发人员：王红宾，吴杰飞，王宁，黄本成，杨超，李明，
申请(专利权)人：上海交通大学，
类型：发明
国别省市：