【技术实现步骤摘要】
:本专利技术属于光干涉计量领域,特别是一种可用于环抛机上的实现在线监测磨削量的装置以及基于该装置进行实时监测磨削量的方法。
技术介绍
高精度的光学元件,尤其是大口径高精度的光学元件经过成型、精磨和初抛工序后,一般都采用环形抛光(环抛)或者环抛与数控的组合加工来完成最终的精密抛光。在光学元件加工过程中,环抛是光学元件表面由精密到超精密的关键一步。目前,国内环抛阶段的磨削量检测全部采用离线方式,工件的环抛工序与面形检测工序是分离的。技术工人对工件进行环抛加工到一定阶段,将工件从环抛机上取下,利用面形检测装置(例如数字干涉仪)检测工件面形,依据检测结果调节环抛机参数继续环抛加工,如此交替进行环抛加工与面形检测直至工件达到加工要求。这种离线式面形检测方式,有以下缺陷:1.该检测方式使得环抛加工对操作者的经验依赖增强,工艺的自动化程度降低。测得工件面形数据后,磨削量与环抛机参数的设定以及环抛时间的关系很大程度上依赖于技术工人的经验,限制工艺的工程化发展。2.该检测方式降低了环抛加工质量的稳定性。由于镜片装夹姿态将导致面形变化,而环抛加工时工件的姿态与检测时不同,这样检测结 ...
【技术保护点】
一种环抛阶段磨削量在线监测装置,其特征在于:包括白光光源[1]、准直镜[2]、起偏器[3]、普通分光镜[4]、宽光谱偏振分光棱镜[5]、色散补偿镜[6]、参考反射镜[7],检偏器[8]、CCD[9]和显示屏[10];光路结构沿光路行进方向依次是光源[1]、准直镜[2]、起偏器[3]、普通分光镜[4]、宽光谱偏振分光棱镜[5],之后光束分为两路:一路经过色散补偿镜[6]、参考反射镜[7],为参考光;一路经过工件,为测试光,这两路光方向相互垂直;之后两束光原路返回,在宽光谱分光棱镜[5]出射合并回到普通分光镜[4];普通分光镜[4]反射面所在平面与光路系统光轴成45°,从宽光谱 ...
【技术特征摘要】
1.一种环抛阶段磨削量在线监测装置,其特征在于:包括白光光源[I]、准直镜[2]、起偏器[3]、普通分光镜[4]、宽光谱偏振分光棱镜[5]、色散补偿镜[6]、参考反射镜[7],检偏器[8]、CCD[9]和显示屏[10];光路结构沿光路行进方向依次是光源[I]、准直镜[2]、起偏器[3]、普通分光镜[4]、宽光谱偏振分光棱镜[5],之后光束分为两路:一路经过色散补偿镜[6]、参考反射镜[7],为参考光;一路经过工件,为测试光,这两路光方向相互垂直;之后两束光原路返回,在宽光谱分光棱镜[5]出射合并回到普通分光镜[4];普通分光镜[4]反射面所在平面与光路系统光轴成45° ,从宽光谱偏振分光棱镜[5]出射的合成光在普通分光镜[4]反射面反射,之后一起从检偏器[8]透射而出,最后入射到CCD [9] ;CCD[9]与显示屏[10]连接,输出干涉条纹。2.根据权利要求1所述的环抛阶段磨削量在线监测装置,其特征在于:色散补偿器件[6]采用与待磨工件厚度相同且基底材料相同的标准工件。3.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈磊,李金鹏,李博,何勇,王青,朱日宏,李建欣,乌兰图雅,郑东晖,
申请(专利权)人:南京理工大学,
类型:发明
国别省市:
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