一种测试单元以及阵列基板制造技术

技术编号:8787993 阅读:190 留言:0更新日期:2013-06-10 01:24
本实用新型专利技术提供一种测试单元,该测试单元包括用于与探针相接触的末端模块,所述末端模块为分叉结构。其中,所述末端模块包括与所述探针接触的衬底以及测试信号线,所述测试信号线的一端与所述衬底连接,另一端与待测试对象连接。还包括一种采用该测试单元的阵列基板。采用该测试单元,既能保证探针与测试单元点接触成功率,又能避免在后续摩擦工艺中该测试单元与摩擦绒毛接触面积过大而产生静电放电,提高了产品良率。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术属于液晶显示器领域,涉及液晶显示器制作过程中对薄膜晶体管进行检测过程中用到的测试单元以及采用该测试单元的阵列基板。
技术介绍
液晶显示器(IXD)是目前主流的显示器。液晶显示器主要由阵列基板、彩膜基板、周边电路及背光组件等部分构成。其中,阵列基板是采用特定规格的玻璃基板(例如:2.2m*2.5m),在该玻璃基板上经过镀膜、曝光、刻蚀等一系列工艺制成一定数量的薄膜晶体管(TFT),该TFT是液晶显示器中控制液晶偏转方向的控制开关。液晶显示器的生产工艺,尤其是阵列基板的制造工艺非常复杂,所以在制造过程中,不可避免的会因为工艺误差而发生各种缺陷。为了尽可能的降低缺陷发生率从而提高产品良率,在制造过程中的关键工艺后通常会设置相应的检测工序,以便能及时地发现缺陷并采取相应措施杜绝缺陷大范围扩散或将缺陷带入下一工艺步骤。其中,阵列基板工艺完成后,在继续进行后续工艺之前一般需要进行阵列检测,即对按矩阵规则排列的多个薄膜晶体管的性能进行检测。检测方式之一是通过设置测试单元,为阵列中的TFT加入电信号,从而检测玻璃基板上的所有TFT是否都有效。如图1所示,为了提高生产效率,在一张玻璃基板7上,通常会根据不同尺寸要求形成一定数量的单元阵列基板1,不同单元阵列基板I之间预留有一定间隙区域,在该间隙区域中测试单元对阵列基板进行测试,例如:引入测试信号线对TFT的性能进行检测。如图2所示为现有技术中通过探针为TFT加载测试信号的测试单元的局部放大示意图。所述测试单元包括有接收电信号的衬底6与测试信号线5,所述衬底6与测试信号线5连接,所述测试信号线5与TFT的信号输入端连接,所述测试电信号经由衬底6、测试信号线5加载到TFT相应的管脚上,从而进行TFT性能的测试。目前,为TFT加入测试电信号一般采用点接触的方式,即,通过探针将测试电信号经测试信号线加载到衬底6上。在通常情况下,衬底6的面积仅为l_2mm2,相比整块玻璃基板的大小使得对衬底6的识别并非易事,因此在实际检测过程中采用具有相同测试电信号的两根探针同时接触同一衬底,以确保探针能准确地定位到衬底6上,保证测试电信号能有效输入,图2中还同时示出了所述测试信号线和衬底与探针4的位置关系。在检测过程中,所需的测试信号通过探针4先传输至所述衬底6,继而通过所述测试信号线5将测试电信号输入到数据信号线2及扫描信号线3,实现对TFT性能的测试。一般的,阵列基板在组装成液晶面板之前一般还需通过摩擦工艺形成配向膜,以使组装后的液晶面板中液晶的排列规则有序。但是,为了保证探针4与作为测试信号输入端的衬底6之间点接触的成功率,要求衬底6具有足够大的面积,且面积越大越好。由于衬底6是由金属薄膜制成的,衬底6的面积越大,在后续摩擦工艺中测试单元与摩擦绒毛接触面积越大,引起静电放电几率也就越高,尤其是在阵列基板的配向膜(PI)的摩擦工艺中,一旦发生静电放电现象,大面积的金属薄膜引起的静电会导致摩擦用的绒毛排布发生异常,最终使阵列基板出现严重的摩擦工艺缺陷。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足,提供一种测试单元,能在保证测试信号有效输入的同时,有效地减小静电放电的产生。解决本技术技术问题所采用的技术方案是该测试单元,该测试单元包括用于与探针相接触的末端模块,所述末端模块为分叉结构。其中,所述末端模块包括与所述探针接触的衬底以及测试信号线,所述测试信号线的一端与所述衬底连接,另一端与待测试对象连接。一种优选方案是,所述衬底为由多个条状子衬底构成的栅状结构,所述测试信号线的所述一端与该多个子衬底的一端连接。一种优选方案是,所述衬底为由多个条状子衬底构成的树状结构,所述测试信号线的所述一端与该树状结构的根节点连接。一种优选方案是,所述测试信号线为单条线,该单条线的一端与所述衬底连接,另一端与待测试对象连接。一种优选方案是,所述测试信号线为多条子测试信号线,该多条子测试信号线的一端与所述衬底连接,另一端联结在一起并与待测试对象连接;其中,当所述衬底为由多个条状子衬底构成的栅状结构时,所述多条线的一端与所述多个子衬底一一连接。优选的是,相邻所述子衬底之间的间隔距离设置为:使得任意相邻的两个子衬底均能够同时与所述探针相接触。进一步优选的是,相邻所述子衬底之间的间隔距离相同。一种阵列基板,包括多个薄膜晶体管以及用于对所述多个薄膜晶体管进行测试的测试单元,所述测试单元采用上述的测试单元。本技术的有益效果是:采用这种测试单元,既能保证探针与测试单元点接触成功率,又能避免在后续摩擦工艺中该测试单元与摩擦绒毛接触面积过大而产生静电放电,提闻了广品良率。附图说明图1为现有技术中多个单元阵列基板与测试单元的示意图;图2为图1中测试单元的局部放大示意图;图3为本技术实施例1的测试单元的示意图;图4为本技术实施例2的测试单元的示意图;图5为本技术实施例3的测试单元的示意图。图中:1 一单兀阵列基板;2 —数据信号线;3 —扫描信号线;4 一探针;5 —测试信号线;6 —衬底;7 —玻璃基板;8 —子衬底;9_子测试信号线。具体实施方式为使本领域技术人员更好地理解本技术的技术方案,以下结合附图和具体实施方式对本技术测试单元以及阵列基板作进一步详细描述。一种测试单元,该测试单元包括与探针相接触的末端模块,所述末端模块为分叉结构。一种阵列基板,包括多个薄膜晶体管以及用于对所述多个薄膜晶体管进行测试的测试单元,所述测试单元采用上述的测试单元。本实施例中所述的阵列基板是形成有所述测试单元以待测试的阵列基板。实施例1:本实施例中,测试单元中的末端模块为分叉结构,所述末端模块包括与所述探针接触的衬底和测试信号线,所述测试信号的一端与所述衬底连接,另一端与待测试对象连接。如图3所示,所述衬底为由多个条状子衬底8构成的栅状结构,所述测试信号线的所述一端与该多个子衬底8的一端连接。其中,所述测试信号线为一条,各所述子衬底8的栅状结构与测试信号线5成垂直角度连接。即,各所述子衬底8的排列方向与所述测试信号线5的延伸方向垂直。应该理解的是,这里子衬底8的栅状结构与测试信号线5成垂直角度连接不是必须的。事实上,子衬底8的延伸方向与测试信号线5的延伸方向相同是最优的,即图3中所示的夹角a越大越利于信号的传输(当a=180°时即为二者延伸方向相同,最有利于信号传输)。图3所示的使所述子衬底8的栅状结构与测试信号线5成垂直角度连接是从工艺方便考量的。当然,本实施例所述的分叉结构,除了图3所示的衬底为由多个条状子衬底8构成的栅状结构,还可以采用衬底为由多个条状子衬底构成的树状结构,所述测试信号线的所述一端与该树状结构的根节点连接。优选所述子衬底之间的间隔距离设置为:使得任意相邻的两个子衬底均能够同时与所述探针4相接触,一种方法可以是使相邻子衬底8之间的间隔距离小于等于探针的探测面的最大尺寸。这样,即使当探针4误探入相邻子衬底之间的间隙时,也不会因接触不到子衬底8而导致信号无法输入,能有效保证探针接入信号的可靠性。当然,所述子衬底之间的间隔距离可同时参考阵列基板的工艺精度来做适当调整。为简化工艺,相邻的所述子衬底8之间的间隔距离相同。所述子衬底可以采用现有技术中制作衬底的本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种测试单元,该测试单元包括用于与探针相接触的末端模块,其特征在于,所述末端模块为分叉结构。

【技术特征摘要】
1.一种测试单元,该测试单元包括用于与探针相接触的末端模块,其特征在于,所述末端模块为分叉结构。2.根据权利要求1所述的测试单元,其特征在于,所述末端模块包括与所述探针接触的衬底以及测试信号线,所述测试信号线的一端与所述衬底连接,另一端与待测试对象连接。3.根据权利要求2所述的测试单元,其特征在于,所述衬底为由多个条状子衬底构成的栅状结构,所述测试信号线的所述一端与该多个子衬底的一端连接。4.根据权利要求2所述的测试单元,其特征在于,所述衬底为由多个条状子衬底构成的树状结构,所述测试信号线的所述一端与该树状结构的根节点连接。5.根据权利要求2所述的测试单元,其特征在于,所述测试信号线为单条线,该单条线的一端与所述衬底连接,另一...

【专利技术属性】
技术研发人员:范延江
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司北京京东方显示技术有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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