【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及ー种多电极束流聚焦调节装置，尤其的涉及离子注入机，属于半导体器件制造设备领域。
技术介绍
在半导体制造エ艺设备离子注入机中，离子束从离子源引出后，由于离子间相互电荷カ的作用机离子初始运动方向的不同，导致离子束在传输过程中会发生发散，为了使最終打在靶上的离子束流满足生产的要求，需要对离子束进行聚焦。本专利所涉及的宽带束离子束流宽度超过了 300_，为了满足这么大宽度的束流中离子运动方向的一致性及束流大小的均匀性，本专利设计了ー种多电极束流聚焦调节装置，能够对宽带离子束流经过的空间电场強度分布进行调节，改变离子运动的方向，调整宽带离子束流分布的均匀性。
技术实现思路
本专利技术即是针对上述要求而提出的ー种结构简单、可靠性高的多电极束流聚焦调节装置。本专利技术的技术方案是通过改变离子束传输路径空间的电场分布，对宽带离子束在空间不同位置的离子产生不同大小和方向的电场力，从而改变离子束中不同位置的离子运动的偏转方向，达到调节离子束束流径向分布均匀性的目的。本专利技术中上电极组⑵、下电极组(3)中的每个电极和左电极⑷及右电极(5)分别连接程控数字电源(6)的ー个电...
【技术保护点】
本专利技术提供一种多电极束流聚焦调节装置，包括：绝缘腔体(1)、上电极组(2)、下电极组(3)、左电极(4)、右电极(5)、程控数字电源(6)。
【技术特征摘要】
1.本发明提供ー种多电极束流聚焦调节装置，包括:绝缘腔体(I)、上电极组(2)、下电极组(3)、左电极(4)、右电极(5)、程控数字电源(6)。2.权利I中所述的上电极组(2)、下电极组(3)、左电极(4)、右电极(5)安装固定在绝缘腔...
【专利技术属性】
技术研发人员：张继恒，
申请(专利权)人：北京中科信电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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