【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及，尤其的涉及离子注入机，属于半导体器件制造设备领域。
技术介绍
在半导体制造工艺设备离子注入机中，离子束从离子源引出后，由于离子间相互电荷力的作用机离子初始运动方向的不同，导致离子束在传输过程中会发生发散，为了使最终打在靶上的离子束流满足生产的要求，需要对离子束进行聚焦。本专利所涉及的宽带束离子束流宽度超过了 300_，为了满足这么大宽度的束流中离子运动方向的一致性及束流大小的均匀性，本专利设计了一种多电极束流聚焦调节装置，能够对宽带离子束流经过的空间电场强度分布进行调节，改变离子运动的方向，调整宽带离子束流分布的均匀性。
技术实现思路
本专利技术即是针对上述要求而提出的一种结构简单、可靠性高的多电极束流聚焦调节装置。本专利技术通过以下技术方案来实现:，包括:主控计算机(I)、光纤通信卡(2)、I/O信号控制器(3)、程控多路输出直流电源(4)、柱状电极组(5)、绝缘腔体出)。其特征在于光纤通信卡(2)插在主控计算机(I)的PCI插槽上，光纤通信卡(2)和I/O信号控制器(3)之间通过光纤传输信号。I/O信号控制器(3)连接到程控多路输出直流电源(4)，负责给程控多路输出直流电源⑷发送电压输出命令和采集反馈电压。I/O信号控制器(3)和程控多路输出直流电源(4)之间使用电缆连接，传输信号。本专利技术具有如下显著优点:1.1/O信号控制器(3)到光纤通信卡(2)之间的连接使用光纤，有效的防止了离子源高压打火对信号传输的干扰。2.程控多路输出直流电源⑷的电压输出端分别连接到柱状电极组(5)的每个电极上，可以对这些个电极实施独立控制，能够有效地改变离...
【技术保护点】
本专利技术提供一种多电极束流聚焦调节装置与方法，包括：主控计算机(1)、光纤通信卡(2)、I/O信号控制器(3)、程控多路输出直流电源(4)、柱状电极组(5)、绝缘腔体(6)。
【技术特征摘要】
1.本发明提供一种多电极束流聚焦调节装置与方法，包括:主控计算机(I)、光纤通信卡(2)、I/O信号控制器(3)、程控多路输出直流电源(4)、柱状电极组(5)、绝缘腔体(6)。2.权利I中所述的光纤通信卡(2)插在主控计算机⑴的PCI插槽上，光纤通信卡(2)和I/O信号控制器(3)之间通过...
【专利技术属性】
技术研发人员：谢均宇，张继恒，孙勇，
申请(专利权)人：北京中科信电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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