一种全液位控制的气体顶压给水设备制造技术

技术编号:8770148 阅读:154 留言:0更新日期:2013-06-08 05:18
本实用新型专利技术提供一种全液位控制的气体顶压给水设备,包括气压水罐、气瓶组管路、气瓶组、补水泵、水管和液位控制装置,气瓶组通过气瓶组管路与气压水罐连通,水管与气压水罐底部连通,补水泵设置在水管上,液位控制装置位于气压水罐内,其特征在于所述液位控制装置为全液位控制装置。本实用新型专利技术的有益效果为:使用全液位控制装置替代磁翻转液位计与低液位开关,及时气压水罐产生渗漏或漏气,全液位控制装置也能对气压水罐进行控制。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术属于给水设备领域,尤其涉及一种全液位控制的气体顶压给水设备
技术介绍
目前气体顶压给水设备的气压水罐的补水方式是采用磁翻转液位计与低液位开关共同控制的方式,当磁翻转液位计与低液位开关检测到气压水罐中的水位下降,补水泵向气压水罐中补水,因低液位开关安装在气压水罐罐体底部,如气压水罐产生渗漏或漏气会导致其对水位控制不当,造成控制失灵。
技术实现思路
为了解决上述技术问题,本技术提供一种全液位控制的气体顶压给水设备,包括气压水罐、气瓶组管路、气瓶组、补水泵、水管和液位控制装置,气瓶组通过气瓶组管路与气压水罐连通,水管与气压水罐底部连通,补水泵设置在水管上,液位控制装置位于气压水罐内,其特征在于所述液位控制装置为全液位控制装置。所述液位控制装置为浮球式全液位控制装置。本技术的有益效果为:使用全液位控制装置替代磁翻转液位计与低液位开关,及时气压水罐产生渗漏或漏气,全液位控制装置也能对气压水罐进行控制。附图说明图1为本技术的结构示意图。具体实施方式以下结合附图对本技术做进一步说明:图中,1、气压水;2、气瓶组管路;3、气瓶组;4、补水栗;5、水管;6、液位控制装置。如图1所示,气瓶组3通过气瓶组管路2与气压水罐I连通,水管5与气压水罐I底部连通,补水泵4设置在水管5上,液位控制装置6位于气压水罐I内,所述液位控制装置6为全液位控制装置。以上对本技术的一个实施例进行了详细说明,但所述内容仅为本技术的较佳实施例,不能被认为用于限定本技术的实施范围。凡依本技术申请范围所作的均等变化与改进等,均应仍归属于本技术的专利涵盖范围之内。权利要求1.一种全液位控制的气体顶压给水设备,包括气压水罐(I)、气瓶组管路(2)、气瓶组(3)、补水泵(4)、水管(5)和液位控制装置(6),气瓶组(3)通过气瓶组管路(2)与气压水罐(I)连通,水管(5 )与气压水罐(I)底部连通,补水泵(4 )设置在水管(5 )上,液位控制装置(6 )位于气压水罐(I)内,其特征在于所述液位控制装置(6 )为全液位控制装置。2.如权利要求1所述的一种全液位控制的气体顶压给水设备,其特征在于所述液位控制装置(6)为浮球式全液位控制装置。专利摘要本技术提供一种全液位控制的气体顶压给水设备,包括气压水罐、气瓶组管路、气瓶组、补水泵、水管和液位控制装置,气瓶组通过气瓶组管路与气压水罐连通,水管与气压水罐底部连通,补水泵设置在水管上,液位控制装置位于气压水罐内,其特征在于所述液位控制装置为全液位控制装置。本技术的有益效果为使用全液位控制装置替代磁翻转液位计与低液位开关,及时气压水罐产生渗漏或漏气,全液位控制装置也能对气压水罐进行控制。文档编号E03B11/06GK202969468SQ201220601118公开日2013年6月5日 申请日期2012年11月14日 优先权日2012年11月14日专利技术者董玉亮 申请人:天津今誉源科技发展有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全液位控制的气体顶压给水设备,包括气压水罐(1)、气瓶组管路(2)、气瓶组(3)、补水泵(4)、水管(5)和液位控制装置(6),气瓶组(3)通过气瓶组管路(2)与气压水罐(1)连通,水管(5)与气压水罐(1)底部连通,补水泵(4)设置在水管(5)上,液位控制装置(6)位于气压水罐(1)内,其特征在于所述液位控制装置(6)为全液位控制装置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:董玉亮
申请(专利权)人:天津今誉源科技发展有限公司
类型:实用新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1