单眼立体摄像装置、单眼立体摄像装置用阴影校正方法及单眼立体摄像装置用程序制造方法及图纸

能够对单眼立体摄像装置所特有的阴影特性进行校正。获取焦距（步骤S11），从多个所存储的1维校正表格中获取与焦距相对应的表格（步骤S12、S13、S14…）。使用所获取的1维校正表格进行阴影校正（步骤S15）。即，从主像素选择任意像素，从所获取的主像素用1维校正表格中读取与所选择的像素位置相对应的校正值，利用该校正值和任意像素的像素值进行阴影校正。对主像素、副像素的全部像素进行该处理。2维SD校正部（67B）使用2维校正表格，对进行了上述阴影校正（步骤S15）的数据进行通常的阴影校正（步骤S16）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种单眼立体摄像装置，其特征在于，具有：单一的拍摄光学系统；光瞳分割单元，其将穿过所述拍摄光学系统的光束分割为多条光束；单一的摄像元件，其由分别对所述多条光束受光的多个像素组构成；第1阴影校正单元，其使用2维校正表格，对从所述单一摄像元件输出的摄像信号整体进行阴影校正，该2维校正表格是在左右上下方向上，将对至少由拍摄光学系统引起的阴影进行校正用的校正值排列而成；以及第2阴影校正单元，其使用1维校正表格，分别对从所述多个像素组输出的摄像信号进行阴影校正，该1维校正表格是在由所述光瞳分割单元的光瞳分割引起的浓度不均匀的梯度方向上，将阴影校正用的校正值排列而成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：长谷川亮，林健吉，田中诚二，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP