可长效保存的半导体用焊线制造技术

技术编号:8700216 阅读:163 留言:0更新日期:2013-05-13 04:17
一种可长效保存的半导体用焊线,包含:一铜芯材;以及一抗氧化包覆层,其包覆铜芯材,用以阻绝铜芯材与存放环境的接触以防止其氧化。如此,通过抗氧化包覆层的保护,有效地提升了半导体用焊线的保存时间,并节省损耗成本,提升制程合格率。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

可长效保存的半导体用焊线
本技术是关于一种半导体用焊线,特别是一种可长效保存的半导体用焊线。
技术介绍
现有的半导体用焊线,大多采用金线,因其具有稳定性高、导电度高及延展性佳等特点。然而,随着国际间金价的上涨,生产成本不断提高,于是半导体封装业者开始寻求替代方案,目前最佳的方式乃是改用铜打线制程。铜具有更高的电导率且材料成本低,机械强度较佳,然而最大的问题在于铜容易氧化。氧化会影响到半导体封装内的打线强度跟导电度,因此会降低产品的合格率跟耐用度。另一方面,易氧化的特性使其不易保存;一旦氧化则无法继续使用,造成材料的浪费。有鉴于此,如何加强铜焊线的抗氧化特性,以利于铜打线制程及保存线材,为目前亟需努力的目标。
技术实现思路
本技术提供一种可长效保存的半导体用焊线,其在一铜芯材外面包覆一抗氧化包覆层,阻绝了铜芯材与外在环境的接触,以防止其氧化。本技术一实施例的一种可长效保存的半导体用焊线,包含:一铜芯材;以及一抗氧化包覆层,其包覆铜芯材,用以阻绝铜芯材与存放环境的接触以防止其氧化。以下通过具体实施例配合所附的图式详加说明,当更容易了解本技术的目的、
技术实现思路
、特点及其所达成的功效。附图说明`图1为本技术一实施例的可长效保存的半导体用焊线横截面示意图。主要元件符号说明I铜芯材2抗氧化包覆层具体实施方式请参考图1,图1为本技术一实施例的可长效保存的半导体用焊线横截面示意图。本技术一实施例的可长效保存的半导体用焊线包含一铜芯材I以及一抗氧化包覆层2。抗氧化包覆层2包覆铜芯材1,用以阻绝铜芯材I与存放环境的接触以防止其氧化。请继续参考图1,根据本专利技术的一实施例,制造铜焊线的第一步骤是先制造铜芯材1,其将铜块材进行伸线加工至适当线径后,再进行下一步骤。承接上述,当铜芯材I的线径加工至75 μ m以下,为了消除铜芯材I的内应力以及得到良好的拉伸性质,需对铜芯材I进行退火处理。可以理解的是,铜芯材I最终的伸线加工线径可依客制化订作,加工至75 μ m以下的特定线径,例如50 μ m或25 μ m等等。再者,当所有的加工过程结束,于铜芯材I的外表面会涂布一层5 μ m以下的抗氧化包覆层2,用以隔绝铜芯材I与外界环境的空气接触以抗氧化。其中抗氧化包覆层2可为透明材质。表I为本技术的一实施例与
技术介绍
焊线的保存时间比较表,如表所示,于一般环境中裸铜线的保存时间约一周;加上抗氧化包覆层的铜线,可延长至半年左右。因此,通过抗氧化包覆层2的覆盖,阻绝铜芯材I与外在环境的接触,可确实有效延长其保存期限。权利要求1.种可长效保存的半导体用焊线,其特征在于,包含: 一铜芯材;以及 一抗氧化包覆层,其包覆该铜芯材,用以阻绝该铜芯材与存放环境的接触以防止其氧化。2.据权利要求1所述的可长效保存的半导体用焊线,其特征在于,该铜芯材的平均线径为75 μ m以下。3.据权利要求1所述的可长效保存的半导体用焊线,其特征在于,该抗氧化包覆层为透明材质。4.据权利要求1所述的可长效保存的半导体用焊线,其特征在于,该抗氧化包覆层的平均厚度为5 μ m以下。专利摘要一种可长效保存的半导体用焊线,包含一铜芯材;以及一抗氧化包覆层,其包覆铜芯材,用以阻绝铜芯材与存放环境的接触以防止其氧化。如此,通过抗氧化包覆层的保护,有效地提升了半导体用焊线的保存时间,并节省损耗成本,提升制程合格率。文档编号H01L23/498GK202930377SQ20122031035公开日2013年5月8日 申请日期2012年6月29日 优先权日2012年6月29日专利技术者陈福得, 陈燕然, 蔡玉贤 申请人:风青实业股份有限公司本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种可长效保存的半导体用焊线,其特征在于,包含:?一铜芯材;以及?一抗氧化包覆层,其包覆该铜芯材,用以阻绝该铜芯材与存放环境的接触以防止其氧化。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈福得陈燕然蔡玉贤
申请(专利权)人:风青实业股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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