一种切片研磨抛光机的过滤水槽制造技术

本实用新型专利技术提供了一种切片研磨抛光机的过滤水槽，包括本体，所述本体分别设有进水管和出水管，所述本体被隔离板分为沉淀区和净水区，所述隔离板高度低于所述本体的高度，所述隔离板上部连接有隔离网。本实用新型专利技术优点是：本实用新型专利技术结构简单、制作方便、制作成本低，有效对污水中的杂质进行沉淀，从而避免了研磨抛光机排水管道的堵塞，提高了金相切片实验的工作效率。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种污水处理装置，特别是一种用于切片研磨抛光机的污水过滤>J-U ρ α装直。
技术介绍
切片研磨抛光机作为金相切片试验中的常用实验仪器，其使用频率高。但是，在金相切片的研磨抛光过程中，通常会产生大量的亚克力树脂、PCB板、金属材料、元器件等物质的研磨粉末，这些粉末通过水流冲走，而这种研磨后的粉末会沉淀累积在管道中，造成管道堵塞，从而影响设备的正常使用，影响实验的进程。因此，如何有效处理金相切片研磨抛光过程中产生的粉末，减少或者阻止研磨抛光机管道的堵塞，成为金相切片制作领域亟待解决的问题。
技术实现思路
为解决研磨抛光机在进行金相切片研磨抛光时容易使得研磨抛光机的排水管道堵塞的问题，本技术提供以下技术方案:一种切片研磨抛光机的过滤水槽，包括本体，所述本体分别设有进水管和出水管，所述本体被隔离板分为沉淀区和净水区，所述隔离板高度低于所述本体的高度，所述隔离板上部连接有隔离网，所述隔离板与所述隔离网位于同一平面内，所述隔离网顶部高度与所述本体顶部高度相等。作为本技术的一种优选方案，所述进水管高度低于所述出水管的高度。作为本技术的另一种优选方案，所述隔离板高度高于所述进水管的高度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种切片研磨抛光机的过滤水槽，包括本体（1），所述本体（1）分别设有进水管（31）和出水管（32），其特征在于：所述本体（1）被隔离板（21）分为沉淀区（11）和净水区（12），所述隔离板（21）高度低于所述本体（1）的高度，所述隔离板（21）上部连接有隔离网（22），所述隔离板（21）与所述隔离网（22）位于同一平面内，所述隔离网（22）顶部高度与所述本体（1）顶部高度相等。

【技术特征摘要】
1.种切片研磨抛光机的过滤水槽，包括本体(I )，所述本体(I)分别设有进水管(31)和出水管(32)，其特征在于:所述本体(I)被隔离板(21)分为沉淀区(11)和净水区(12)，所述隔离板(21)高度低于所述本体(I)的高度，所述隔离板(21)上部连接有隔离网(22)，所述隔离板(21)与所述隔离网(2...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐同庆，
申请(专利权)人：苏州华碧微科检测技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：