接触检测装置、记录显示装置和接触检测方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了接触检测装置、记录显示装置和接触检测方法。该接触检测装置包括多个检测元件、生成单元和判定单元。多个检测元件在预定接触面上的二维构造中彼此相关，并各自检测物体与接触面的接触。生成单元根据多个检测单元的检测结果生成特征信息，该特征信息代表基于物体与接触面的接触所绘制的轨迹的特征。判定单元判定生成单元所生成的特征信息是否对应于预先登记的特定接触特征信息，该特定接触特征信息代表基于物体与接触面的特定接触所绘制的轨迹的特征。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
日本未审查专利申请公开第8-110830号公开了一种坐标输入装置的数据处理方法，其中在按压输入表面的预定位置时，该坐标输入装置顺序获取被按压位置所对应的坐标数据项并仅将所获取坐标数据项中的有效数据进行输出。该数据处理方法的特征在于进行初始设定处理和输入数据处理。初始设定处理以均匀定时获取预定条件下通过手写输入所得到的坐标数据项，通过顺序使用三个坐标数据项来计算第二和第三坐标数据项之间的移动距离、以及第一和第二坐标数据项之间的直线轴与第二和第三坐标数据项之间的直线轴所形成的角的角度变化量，分别累计计算出的移动距离的频率和计算出的角的角度变化量的频率，并参照因此所得到的累记频率设置一预定的角度变化基准值及其对应的移动距离作为确定有效数据的阈值。在正常的输入操作中，输入数据处理通过使用书写后即刻获得的第一坐标数据项和紧随其后输入的两个坐标数据项来计算第一和第二坐标数据项之前的移动距离以及第一和第二坐标数据项之间的直线轴与第二和第三坐标数据项之间的直线轴所形成的角的角度变化量，将计算结果与初始设定处理设定的用于确定有效数据的阈值进行比较，并且如果至少一项计算结果等于或者小于相应的阈值，则将书写后即刻获得的该第一坐标数据项为有效数据进行输出。日本未审查专利申请公开第2011-70658号公开了一种显示装置，该显示装置包括在多个像素中包含光敏元件的触摸板和图像处理单元。光敏元件在触摸板和目标物体之间产生接触图像。图像处理单元通过接触图像的颜色信息来计算接触部分的面积，并根据面积判定对触摸板是否有输入。日本未审查专利申请公开第9-44293号公开了一种包括手写笔输入装置的电子设备，该电子设备包括与显示装置集成的书写板并允许用笔对手写输入框进行手写输入。该电子设备的特征在于包括:手写输入框显示器，其显示手写输入框；输入坐标识别单元，其识别输入至书写板的坐标；以及输入无效区域设定单元，其设置输入无效区域，该输入无效区域针对各手写输入框而设，用于使持笔的手与书写板的接触而导致的不正确输入无效，并取消输入至输入无效区域的坐标数据。
技术实现思路
本专利技术的一个目的是提供一种接触检测装置，一种记录显示装置和一种接触检测方法，以高准确地判定正确接触和误接触。为了实现上述目的，根据本专利技术的第一方面，提供了 一种接触检测装置，其被配置为包括多个检测元件、生成单元和判定单元。多个检测元件在预定接触面上的二维构造中彼此相关，并各自检测物体与接触面的接触。生成单元根据多个检测元件的检测结果生成特征信息，该特征信息代表基于物体与接触面的接触所绘制轨迹的特征。判定单元判定生成单元所生成的特征信息是否对应于预先登记的特定接触特征信息，其代表基于物体与接触面的特定接触所绘制轨迹的特征。根据本专利技术的第二方面，在根据第一方面所述的接触检测装置中，所述特定接触对应于预先确定为与接触面正确接触的正确接触或者为预先确定为与接触面非正确接触的误接触。根据本专利技术的第三方面，根据第一或第二方面所述的接触检测装置还包括关联单元，其关联用以识别轨迹的识别信息和轨迹，对于识别信息所识别的各轨迹，判定单元判定生成单元所生成的特征信息是否对应于特定接触特征信息。根据本专利技术的第四方面，根据第一或第二方面所述的接触检测装置被配置为还包括识别单元，其根据判定单元所做出的判定结果识别表示与接触面的特定接触的轨迹。根据本专利技术的第五方面，根据第三方面所述的接触检测装置被配置为还包括识别单元，其根据判定单元所做出的判定结果识别表示与接触面的特定接触的轨迹。根据本专利技术的第六方面，在根据第四方面所述的接触检测装置中，根据判定单元在预定期间内做出的生成单元所生成的特征信息对应于特定接触特征信息的判定次数，识别单元识别出代表与接触面的特定接触的轨迹。根据本专利技术的第七方面，在根据第五方面所述的接触检测装置中，根据判定单元在预定期间内做出的生成单元所生成的特征信息对应于特定接触特征信息的判定次数，识别单元识别表示与接触面的特定接触的轨迹。根据本专利技术的第八方面，在根据第六方面所述的接触检测装置中，如果判定单元在预定期间内做出的生成单元所生成的特征信息对应于特定接触特征信息的判定次数大于判定单元在所述预定期间内做出的生成单元所生成的特征信息不对应于特定接触特征信息的判定次数，则识别单元将在此预定期间内在接触面上所绘制的轨迹识别为代表特定接触的轨迹。根据本专利技术的第九方面，在根据第七方面所述的接触检测装置中，如果判定单元在预定期间内做出的生成单元所生成的特征信息对应于特定接触特征信息的判定次数大于判定单元在预定期间内做出的生成单元所生成的特征信息不对应于特定接触特征信息的判定次数，则识别单元将在此预定期间内在接触面上所绘制的轨迹识别为代表特定接触的轨迹。根据本专利技术的第十方面，在根据第六方面所述的接触检测装置中，所述预定期间对应于自物体与接触面接触至物体与接触面分开之间的时间段。根据本专利技术的第十一方面，在根据第七方面所述的接触检测装置中，所述预定期间对应于自物体与接触面接触至物体与接触面分开之间的时间段。根据本专利技术的第十二方面，在根据第八方面所述的接触检测装置中，所述预定期间对应于自物体与接触面接触至物体与接触面分开之间的时间段。根据本专利技术的第十三方面，在根据第九方面所述的接触检测装置中，所述预定期间对应于自物体与接触面接触至物体与接触面分开之间的时间段。根据本专利技术的第十四方面，在根据第一或第二方面所述的接触检测装置中，特征信息对应于表示轨迹幅度的幅度信息、表示轨迹幅度变化程度的程度信息、以及根据物体与接触面持续接触时间而获得的基于持续时间的信息中的至少一项。根据本专利技术的第十五方面，在根据第一或第二方面所述的接触检测装置中，幅度信息对应于表不轨迹面积和轨迹长度中的至少一项的信息，程度信息对应于表不轨迹的面积方差(variance)或标准偏差的轨迹面积统计信息和表示轨迹的长度方差或标准偏差的轨迹长度统计信息中的至少一项，基于持续时间的信息对应于表示轨迹中接触点数目的轨迹数目信息。根据本专利技术的第十六方面，在根据第一或第二方面所述的接触检测装置中，判定单元采用被配置为包括特定接触特征信息的决策树来判定生成单元所生成的特征信息是否对应于特定接触特征信息。根据本专利技术的第十七方面，根据第一或第二方面所述的接触检测装置还包括施加单元，其根据接触时间将一权值施加给轨迹，判定单元进一步判定施加单元所施加的权值是否等于或者大于预定的权值。同时，为了实现上述目的，根据本专利技术的第十八方面，提供了一种接触检测装置，其被配置为包括多个检测元件、生成单元和判定单元。多个检测元件在预定接触面上的二维构造中彼此相关，并各自检测物体与接触面的接触。生成单元根据多个检测单元的检测结果生成特征信息，该特征信息代表基于物体与接触面的接触所绘制轨迹的特征。判定单元判定生成单元所生成的特征信息是否已包括于预先登记的特定接触特征区域内，该特定接触特征区域代表基于物体与接触面的特定接触所绘制的轨迹的特征。同时，为了实现上述目的，根据本专利技术的第十九方面，提供了一种记录显示装置，其被配置为包括:根据第一或第二方面所述的接触检测装置；和显示器，其具有叠加于其屏幕上的接触检测装置，且其根据接触检测装置的检测结果在屏幕上显示图像。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种接触检测装置，包括：多个检测元件，其在预定接触面上的二维构造中彼此相关，并各自检测物体与所述接触面的接触；生成单元，其基于所述多个检测元件的检测结果生成特征信息，所述特征信息代表基于物体与所述接触面的接触所绘制轨迹的特征；和判定单元，其判定所述生成单元所生成的特征信息是否对应于预先登记的特定接触特征信息，所述特定接触特征信息代表基于物体与所述接触面的特定接触所绘制的轨迹的特征。

【技术特征摘要】
2011.10.12 JP 2011-2252021.一种接触检测装置，包括: 多个检测元件，其在预定接触面上的二维构造中彼此相关，并各自检测物体与所述接触面的接触； 生成单元，其基于所述多个检测元件的检测结果生成特征信息，所述特征信息代表基于物体与所述接触面的接触所绘制轨迹的特征；和 判定单元，其判定所述生成单元所生成的特征信息是否对应于预先登记的特定接触特征信息，所述特定接触特征信息代表基于物体与所述接触面的特定接触所绘制的轨迹的特征。2.根据权利要求1所述的接触检测装置，其中所述特定接触对应于被预定为与所述接触面正确接触的正确接触或者被预定为与所述接触面误接触的误接触。3.根据权利要求1或2所述的接触检测装置，还包括: 关联单元，其关联用以识别所述轨迹的识别信息和所述轨迹， 其中，对于所述识别信息所识别的各轨迹，所述判定单元判定所述生成单元所生成的特征信息是否对应于所述特定接触特征信息。4.根据权利要求1或2所述的接触检测装置，还包括: 识别单元，其基于所述判定单元所做出的判定结果识别代表与所述接触面的特定接触的轨迹。5.根据权利要求3所述的接触检测装置，还包括: 识别单元，其基于所述判定单 元所做出的判定结果识别代表与所述接触面的特定接触的轨迹。6.根据权利要求4所述的接触检测装置，其中，根据所述判定单元在预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息对应于所述特定接触特征信息的判定次数，所述识别单元识别出代表与所述接触面的特定接触的轨迹。7.根据权利要求5所述的接触检测装置，其中，根据所述判定单元在预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息对应于所述特定接触特征信息的判定次数，所述识别单元识别出代表与所述接触面的特定接触的轨迹。8.根据权利要求6所述的接触检测装置，其中，如果所述判定单元在所述预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息对应于所述特定接触特征信息的判定次数大于所述判定单元在所述预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息不对应于所述特定接触特征信息的判定次数，则所述识别单元将在所述预定期间内在所述接触面上所绘制的轨迹识别为代表所述特定接触的轨迹。9.根据权利要求7所述的接触检测装置，其中，如果所述判定单元在所述预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息对应于所述特定接触特征信息的判定次数大于所述判定单元在所述预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息不对应于所述特定接触特征信息的判定次数，则所述识别单元将在所述预定期间内在所述接触面上所绘制的轨迹识别为代表所述特定接触的轨迹。10.根据权利要求6所述的接触检测装置，其中，所述预定期间对应于自物体与所述接触面接触至所述物体与所述接触面分开之间的时间段。11.根据权利要求7所述的接触检测装置，其中，所述预定期间对应于自物体与所述接触面接触至所述物体与所述接触面分开之间的时间段。12.根据权利要求8所述的接触检测装置，其中，所述预定期间对应于自物体与所述接触面接触至所述物体与所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：一星彰，石井努，竹内孝行，佐佐木茂彦，佐藤政宽，友田恭太郎，内藤孝雄，三井实，
申请(专利权)人：富士施乐株式会社，
类型：发明
国别省市：