接触检测装置、记录显示装置和接触检测方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了接触检测装置、记录显示装置和接触检测方法。该接触检测装置包括多个检测元件、生成单元和判定单元。多个检测元件在预定接触面上的二维构造中彼此相关，并各自检测物体与接触面的接触。生成单元根据多个检测单元的检测结果生成特征信息，该特征信息代表基于物体与接触面的接触所绘制的轨迹的特征。判定单元判定生成单元所生成的特征信息是否对应于预先登记的特定接触特征信息，该特定接触特征信息代表基于物体与接触面的特定接触所绘制的轨迹的特征。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
日本未审查专利申请公开第8-110830号公开了一种坐标输入装置的数据处理方法，其中在按压输入表面的预定位置时，该坐标输入装置顺序获取被按压位置所对应的坐标数据项并仅将所获取坐标数据项中的有效数据进行输出。该数据处理方法的特征在于进行初始设定处理和输入数据处理。初始设定处理以均匀定时获取预定条件下通过手写输入所得到的坐标数据项，通过顺序使用三个坐标数据项来计算第二和第三坐标数据项之间的移动距离、以及第一和第二坐标数据项之间的直线轴与第二和第三坐标数据项之间的直线轴所形成的角的角度变化量，分别累计计算出的移动距离的频率和计算出的角的角度变化量的频率，并参照因此所得到的累记频率设置一预定的角度变化基准值及其对应的移动距离作为确定有效数据的阈值。在正常的输入操作中，输入数据处理通过使用书写后即刻获得的第一坐标数据项和紧随其后输入的两个坐标数据项来计算第一和第二坐标数据项之前的移动距离以及第一和第二坐标数据项之间的直线轴与第二和第三坐标数据项之间的直线轴所形成的角的角度变化量，将计算结果与初始设定处理设定的用于确定有效数据的阈值进行比较，并且如果至少一项计算结果本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种接触检测装置，包括：多个检测元件，其在预定接触面上的二维构造中彼此相关，并各自检测物体与所述接触面的接触；生成单元，其基于所述多个检测元件的检测结果生成特征信息，所述特征信息代表基于物体与所述接触面的接触所绘制轨迹的特征；和判定单元，其判定所述生成单元所生成的特征信息是否对应于预先登记的特定接触特征信息，所述特定接触特征信息代表基于物体与所述接触面的特定接触所绘制的轨迹的特征。

【技术特征摘要】
2011.10.12 JP 2011-2252021.一种接触检测装置，包括: 多个检测元件，其在预定接触面上的二维构造中彼此相关，并各自检测物体与所述接触面的接触； 生成单元，其基于所述多个检测元件的检测结果生成特征信息，所述特征信息代表基于物体与所述接触面的接触所绘制轨迹的特征；和 判定单元，其判定所述生成单元所生成的特征信息是否对应于预先登记的特定接触特征信息，所述特定接触特征信息代表基于物体与所述接触面的特定接触所绘制的轨迹的特征。2.根据权利要求1所述的接触检测装置，其中所述特定接触对应于被预定为与所述接触面正确接触的正确接触或者被预定为与所述接触面误接触的误接触。3.根据权利要求1或2所述的接触检测装置，还包括: 关联单元，其关联用以识别所述轨迹的识别信息和所述轨迹， 其中，对于所述识别信息所识别的各轨迹，所述判定单元判定所述生成单元所生成的特征信息是否对应于所述特定接触特征信息。4.根据权利要求1或2所述的接触检测装置，还包括: 识别单元，其基于所述判定单元所做出的判定结果识别代表与所述接触面的特定接触的轨迹。5.根据权利要求3所述的接触检测装置，还包括: 识别单元，其基于所述判定单 元所做出的判定结果识别代表与所述接触面的特定接触的轨迹。6.根据权利要求4所述的接触检测装置，其中，根据所述判定单元在预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息对应于所述特定接触特征信息的判定次数，所述识别单元识别出代表与所述接触面的特定接触的轨迹。7.根据权利要求5所述的接触检测装置，其中，根据所述判定单元在预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息对应于所述特定接触特征信息的判定次数，所述识别单元识别出代表与所述接触面的特定接触的轨迹。8.根据权利要求6所述的接触检测装置，其中，如果所述判定单元在所述预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息对应于所述特定接触特征信息的判定次数大于所述判定单元在所述预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息不对应于所述特定接触特征信息的判定次数，则所述识别单元将在所述预定期间内在所述接触面上所绘制的轨迹识别为代表所述特定接触的轨迹。9.根据权利要求7所述的接触检测装置，其中，如果所述判定单元在所述预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息对应于所述特定接触特征信息的判定次数大于所述判定单元在所述预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息不对应于所述特定接触特征信息的判定次数，则所述识别单元将在所述预定期间内在所述接触面上所绘制的轨迹识别为代表所述特定接触的轨迹。10.根据权利要求6所述的接触检测装置，其中，所述预定期间对应于自物体与所述接触面接触至所述物体与所述接触面分开之间的时间段。11.根据权利要求7所述的接触检测装置，其中，所述预定期间对应于自物体与所述接触面接触至所述物体与所述接触面分开之间的时间段。12.根据权利要求8所述的接触检测装置，其中，所述预定期间对应于自物体与所述接触面接触至所述物体与所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：一星彰，石井努，竹内孝行，佐佐木茂彦，佐藤政宽，友田恭太郎，内藤孝雄，三井实，
申请(专利权)人：富士施乐株式会社，
类型：发明
国别省市：