纤维素酰化膜制造技术

本发明专利技术提供了一种纤维素酰化膜。更具体地，本发明专利技术涉及一种具有低光散射效率（雾度）的纤维素酰化膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的以下内容涉及一种纤维素酰化膜。更具体地，本专利技术涉及一种具有低的光散射效率(雾度)的纤维素酰化膜。
技术介绍
由于纤维素酰化膜具有高的强度和防火性，因此纤维素酰化膜用于各种照相或光学材料。与其它聚合物膜相比，纤维素酰化膜具有低的光学各向异性，从而提供较低的阻滞。因此，纤维素酰化膜已被用于偏光器等。最近，由于对液晶显不器(IXD)的闻功能如提闻图像质量需求的增加,在用于偏光器(其为LCD的一种材料)的纤维素酰化膜中也需要满足该要求的特性。然而，根据在延伸处理中所用的添加剂，纤维素酰化膜的雾度倾向于增大，结果是正面对比度可能变差。因此，为了降低纤维素酰化膜的雾度，在日本专利公开N0.2008-213469中公开了通过在延伸时控制伸长率和温度以防止雾度增大的制备纤维素酯的方法。然而，该方法在控制中具有局限性。因此，本专利技术人试图控制添加剂以制造具有低雾度的纤维素酰化膜。[相关领域文献][专利文献]日本专利公开N0.2008-213469 (2008.09.18)
技术实现思路
本专利技术一个实施方案涉及提供一种纤维素酰化膜，其中当将所述膜延伸10-30%时，光散射效率(雾度)本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纤维素酰化膜，包含在室温下为液态并具有－50℃?50℃的熔点、300℃或更高沸点且其自身折射指数为1.4?1.6的添加剂。

【技术特征摘要】
2011.11.08 KR 10-2011-01155561.一种纤维素酰化膜，包含在室温下为液态并具有一 50°C -50°C的熔点、300°C或更高沸点且其自身折射指数为1.4-1.6的添加剂。2.按权利要求1所述的纤维素酰化膜，其中，其具有延伸前满足以下方程式I的雾度和延伸10-30%后满足以下方程式2的雾度，并且延伸前的雾度和延伸后的雾度之间的差异可满足以下方程式3: [方程式I] 延伸前膜的雾度(Hi) ( 0.3% [方程式2] 延伸10-30%后膜的雾度(Hs) ( 0.3% [方程式3] Hs=Hii (0.001 0.2%) 在所述方程式中，Hs是延伸10-30%后的雾度，且Hi是延伸前的雾度。3.按权利要求1所述的纤维素酰化膜，其中，所述添加剂选自化学式I的化合物: [化学式I] R1_ (R3) a_L「(R5) b_ (L2) c- (R4) d_R2 在化学式中，R1选自(C1-C50)烷基、(C6-C20)芳基、(C3-C20)环烷基、(C2-C7)烯基、(C6-C20)芳基(C1-C20)烷基、包含选自N、O和S的至少一个原子的(C1-C50)杂烷基，包含选自N、O和S的至少一个原子的5-7元杂环烷基，和包含选自N、O和S的至少一个原子的(C4-C20)杂芳基， L1和L2各自独立地为选自酯、酰胺、醚、尿素、硫酯、羧基和氨基甲酸酯的桥连基， R2 选自(C1-C50)烷基、(C6-C20)芳基、(C3-C20)环烷基、(C2-C7)烯基、(C6-C20)芳基(C1-C20)烷基、包含选自N、0和S的至少一个原子的(C1-C50)杂烷基，包含选自N、0和S的至少一个原子的5-7元杂环烷基，和包含选自N、0和S的至少一个原子的(C4-C20)杂芳基， R3> R4和R5各自独立地选自(C1-C50)亚烷基、(C6-C20)亚芳基、包含选自N、O和S的至少一个原子的(C1-C50)杂亚烷基和包含选自N、0和S的至少一个原子的(C4-C20)杂亚芳基， R1^ R2> R3> R4和R5的烷基、芳基、环烷基、烯基、芳烷基、杂烷基、杂环烷基和杂芳基进一步被(C1-C50)烷基、(C6-C20)芳基、(C3-C20)环烷基、(C2-C7)烯基、(C6-C20)芳基(C1-C20)烷基、包含选自N、0和S的至少一个原子的(C1-C50)杂环烷基，包含选自N、0和S的至少一个原子的5-7元杂环烷基，和包含选自N、0和S的至少一个原子的(C4-C20)杂芳基取代，且 a、b、c和d的各自独立地为O或I。4.按权利要求3所述的纤维素酰化膜，其中，所述化学式I的化合物选自化学式2的化合物: [化学式2] R1-L1-R2 在化学式中，R1选自(C1-C20)烷基、(C6-C20)芳基、包含选自N、O和S的至少一个原子的(C1-C20)杂烷基，和包含选自N、O和S的至少一个原子的(C4-C20)杂芳基，L1为选自酯、酰胺、醚、尿素、硫酯、羧基和氨基甲酸酯的桥连基， R2选自(C1-C20)烷基、(C6-C20)芳基、包含选自N、0和S的至少一个原子的(C1-C50)杂烷基，和包含选自N、0和S的至少一个原子的(C4-C20)杂芳基，且 R1和R2的烷基、芳基、杂烷基和杂芳基进一步被(C1-C50)烷基、(C6-C20)芳基、(C3-C20)环烷基、(C2-C7)烯基、(C6-C20)芳基(C1-C20)烷基、包含选自N、O和S的至少一个原子的(C1-C50)杂烷基，包含选自N、O和S的至少一个原子的5-7元杂环烷基，和包含选自N、O和S的至少一个原子的(C4-C20)杂芳基取代。5.按权利要求3所述的纤维素酰化膜，其中，所述化学式I的化合物选自化学式3的化合物: [化学式3] RfHR2 在化学式中，R1选自(C1-C20)烷基、(C6-C20)芳基、包含选自N、O和S的至少一个原子的(C1-C20)杂烷基，和包含选自N、O和S的至少一个原子的(C4-C20)杂芳基， L1为选自酯、酰胺、醚、尿素、硫酯、羧基和氨基甲酸酯的桥连基， R2选自(C1-C20)烷基、(C6-C20)芳基、包含选自N、0和S的至少一个原子的(C1-C50)杂烷基，和包含选自N、0和S的至少一个原子的(C4-C20)杂芳基，以及 R3选自(C1-C20)亚烷基、(C6-C20)亚芳基、包含选自N、O和S的至少一个原子的(C1-C20)杂亚烷基，和包含选自N、0和S的至少一个原子的(C4-C20)杂亚芳基，且 R1^ R2和R3的烷基、芳基、杂烷基和杂芳基进一步被(C1-C50)烷基、(C6-C20)芳基、(C3-C20)环烷基、(C2-C7)烯基、(C6-C20)芳基(C1-C20)烷基、包含选自N、O和S的至少一个原子的(C1-C50)杂烷基，包含选自N、O和S的至少一个原子的5-7元杂环烷基，和包含选自N、O和S的至少一个原子的(C4-C20)杂芳基取代。6.按权利要求3所述的纤维素酰化膜，其中，所述化学式I的化合物选自化学式4的化合物: [化学式4] R1-L1-R4-R2 在化学式中，R1选自(C1-C20)烷基、(C6-C20)芳基、包含选自N、O和S的至少一个原子的(C1-C20)杂烷基，和包含选自N、...

【专利技术属性】
技术研发人员：李相烨，李慧珍，金琦烨，赵容均，
申请(专利权)人：SK新技术株式会社，
类型：发明
国别省市：