一种用于干粘附的两级结构的电场诱导制备工艺制造技术

一种用于干粘附的两级结构的电场诱导制备工艺，先进行诱导模板的制备，再进行基材的选择及处理，然后进行电场诱导UV光固化聚合物材料流变成型，最后进行UV光固化聚合物材料的固化及脱模，从而得到具有微-微或微-纳两级结构晶体结构，可以广泛地应用在输送带、机械手、微吸盘等方面。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微纳制造中的干粘附两级结构领域，具体涉及一种用于干粘附的两级结构的电场诱导制备工艺。
技术介绍
美国的Kellar Autumn等人研究壁虎脚掌发现,其表面的两级结构具有极强的吸附能力，能够有效地增强物体表面的摩擦力，可广泛应用于带式输送机、机械手、微吸盘等方面。目前，常规的两级结构的制备方法主要包括:AFM (原子力)刻蚀法、利用氧化铝模板孔洞注入成形、等离子体刻蚀法、光刻技术以及阵列纳米碳管制备等方法。然而，传统制备方法在大面积制备及成形效率方面具有许多不足之处:(I)工艺复杂，例如AFM刻蚀法，需要采用AFM在石蜡表面逐点刻孔，然后注入液态材料，待冷却后去除石蜡；(2)设备精密，例如等离子刻蚀以及光刻技术，需要昂贵复杂的加工设备；(3)工艺参数需要精确控制，例如氧化铝模板孔洞成形，要求通过改变电压以及溶液酸度实现对氧化铝孔的孔径和孔隙的控制；(4)材料适应性差，例如阵列碳纳米管制备方法，需要利用CVD (化学气相沉积)的方法实现碳纳米管的制备，但是CVD工艺中的高温环境限制了部分聚合物等材料的应用。
技术实现思路
为了克服上述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于干粘附的两级结构的电场诱导制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：第一步，诱导模板的制备：利用光刻与刻蚀工艺在Si片表面制备所需要的两级结构中的第二级图形结构模板，然后采用翻模的方式，在FTO或ITO玻璃表面制备一层具有微纳结构的PDMS或氟树脂，得到透明的诱导模板；第二步，基材的选择及处理：采用FTO或ITO玻璃作为基材，利用匀胶机在其表面旋涂一层厚度为微米级别的UV光固化聚合物材料；第三步，电场诱导两级结构流变成型：施加压力将诱导模板压在PI（聚酰亚胺）膜上，令PI膜穿过UV光固化聚合物材料层与基材接触，施加外接直流电源50V~1000V，诱导模板的FTO或ITO层接电源的正极，基材的...

【技术特征摘要】
1.一种用于干粘附的两级结构的电场诱导制备工艺，其特征在于，包括以下步骤:第一步，诱导模板的制备:利用光刻与刻蚀工艺在Si片表面制备所需要的两级结构中的第二级图形结构模板，然后采用翻模的方式，在FTO或ITO玻璃表面制备一层具有微纳结构的PDMS或氟树脂，得到透明的诱导模板； 第二步，基材的选择及处理:采用FTO或ITO玻璃作为基材，利用匀胶机在其表面旋涂一层厚度为微米级别的UV光固化聚合物材料； 第三步，电场诱导两级结构流变成型:施加压力将诱导模板压在PI (聚酰亚胺)膜上，令PI膜穿过UV光固化聚合物材料层与基材接触，施加外...

【专利技术属性】
技术研发人员：邵金友，丁玉成，田洪淼，李祥明，胡鸿，姜承宝，
申请(专利权)人：西安交通大学，
类型：发明
国别省市：