【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及牙根种植体基体及其制备方法,特别涉及含硅、钙、磷、钠微弧氧化涂层牙根种植体基体及其制备方法。
技术介绍
牙根种植体被广泛应用于临床牙列缺损级缺失病人的修复,但因种植体与骨结合时间久,金属离子易 溶出造成肌组织坏死,导致失败病例出现,极大地限制了其广泛应用。使用微弧氧化方法可在种植体表面生成生物活性涂层,从而改善种植体材料的生物性能,在抑制金属离子溶出的同时,还可起到诱导磷灰石形成的作用,从而使种植体具有生物活性。然而,通常微弧氧化制备过程中夹具需要与试样进行点接触或面接触,必将导致接触区域涂层不完整,在造成植入后为金属离子的溶出提供通道,导致病例失败。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决现有牙根种植体及其配件的金属离子易溶出造成肌组织坏死以及在种植体表面微弧氧化制备的涂层不完整的问题,而提供。本专利技术的含硅、钙、磷、钠微弧氧化涂层的牙根种植体基体,由牙根种植体和夹具构成,其中,所述的牙根种植体上端设置有螺钉插入槽,所述的夹具由螺钉和配件构成,螺钉与配件底部螺纹连接,其中,配件侧端开通有孔洞,螺钉螺旋旋入到螺钉插入槽中。本专利技术的含硅、钙、磷、 ...
【技术保护点】
含硅、钙、磷、钠微弧氧化涂层的牙根种植体基体,其特征在于:所述的含硅、钙、磷、钠微弧氧化涂层的牙根种植体基体由牙根种植体(1)和夹具(2)构成,其中,所述的牙根种植体(1)上端设置有螺钉插入槽(3),所述的夹具(2)由螺钉(4)和配件(5)构成,螺钉(4)与配件(5)底部螺纹连接,其中,配件(5)侧端开通有孔洞(6),螺钉(4)螺旋旋入到螺钉插入槽(3)中。
【技术特征摘要】
1.硅、钙、磷、钠微弧氧化涂层的牙根种植体基体,其特征在于:所述的含硅、钙、磷、钠微弧氧化涂层的牙根种植体基体由牙根种植体(I)和夹具(2)构成,其中,所述的牙根种植体(I)上端设置有螺钉插入槽(3),所述的夹具(2)由螺钉(4)和配件(5)构成,螺钉(4)与配件(5 )底部螺纹连接,其中,配件(5 )侧端开通有孔洞(6 ),螺钉(4 )螺旋旋入到螺钉插入槽(3)中。2.根据权利要求1所述的含硅、钙、磷、钠微弧氧化涂层的牙根种植体基体,其特征在于所述的根种植体(I)和夹具(2)的材质均为纯钛TA2、TA4或钛合金T2448。3.根据权利要求1所述的含硅、钙、磷、钠微弧氧化涂层的牙根种植体基体,其特征在于所述的螺钉(4)与螺钉插入槽(3 )通过螺帽(7 )固定。4.备权利要求1所述的含硅、钙、磷、钠微弧氧化涂层的牙根种植体基体的方法,其特征在于它包括以下步骤: 一、取牙根种植体基体,将牙根种植体基体表面抛光,然后依次使用丙酮、质量百分含量为95%的乙醇溶液和去离子水进行超声清洗5min,在烘箱为40°C条件下烘干30min ; 二、配制微弧氧化电解液:以去离子水为溶剂,微弧氧化电解液由浓度为5 15的硅酸钠溶液、浓度为5 15的磷酸二氢钙溶液、浓度为5 15的乙酸钙溶液、浓度为5 30的EDTA-2Na溶液和浓度为1 25的氢氧化钠溶液组成; 三、以步骤一的烘干后的牙根种植体基体为正极,并将正极完全浸没于...
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