显微镜制造技术

根据本发明专利技术的显微镜包括成像单元，该成像单元包括第一照射单元、成像元件和投影光学系统，所述第一照射单元包括照射第一对象的光源，所述成像元件执行所述第一对象的成像，所述投影光学系统将所述第一对象的图像投影到所述成像元件上；测量单元，被配置为测量第二对象，以用于设定在所述成像单元处执行第二对象的成像时使用的成像条件；以及控制器，被配置为同时执行在所述成像单元处的所述第一对象的成像以及在所述测量单元处的所述第二对象的测量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及显微镜的系统配置。
技术介绍
作为与包含显微镜的测量器件有关的相关系统，提供了 PTLl和PTL2中讨论的那些系统。在PTLl中，在执行用于可视地观察晶片表面的微伤(scratch)和变形(strain)的宏检查之后，执行微检查以便利用显微镜精密地检查进行特征的确认的位置。在用于执行这样的检查的结构中，能够使晶片旋转/倾斜的宏检查单元被设置在承载件和微检查单元之间。尽管常常使用分离的器件(即，宏检查器件和微检查器件)来检查晶片，但是用于执行这样的检查的这样的结构使得能够简化检查过程。在PTL2中，一种结构包括在同一光轴上的物镜和焦点设定物镜，并且对象被设置在它们之间。这里，在使用焦点设定物镜执行初步测量之后，使用该物镜执行实际测量。因此，即使对象的玻璃层的厚度改变，仍可以高的精度来设定物镜的焦点。因此，在这样的包含显微镜的测量器件中，常常使用如下这样的系统配置，在该系统配置中，通过作为预先测量对象的各种特性的结果确定观察条件来执行实际测量。这是因为当从初步测量的结果预先确定观察条件时，可使得除实际测量期间执行的观察之外的操作最少。但是，近年来，当将使用显微镜测量大量的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.08.18 JP 2010-1830471.一种显微镜，包括: 成像单元，包括第一照射单元、成像元件和投影光学系统，所述第一照射单元包括照射第一对象的光源，所述成像元件执行所述第一对象的成像，所述投影光学系统将所述第一对象投影到所述成像元件上； 测量单元，被配置为测量第二对象，以用于设定在所述成像单元处执行第二对象的成像时使用的成像条件；以及 控制器，被配置为同时执行在所述成像单元处的所述第一对象的成像以及在所述测量单元处的所述第二对象的测量。2.根据权利要求1所述的显微镜，其中所述测量单元包括第二照射单元，所述第二照射单元包括照射所述第二对象的光源。3.根据权利要求1所述的显微镜，所述显微镜还包括传送器件，所述传送器件用于将所述第二对象从通过所述测量单元执行测量的位置传送至通过所述成像单元执行成像的位置， 其中，与所述第二对象从通过所述测...

【专利技术属性】
技术研发人员：矢野胜士，藤井宏文，柳泽通雄，德田幸夫，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：
国别省市：