显微镜制造技术

根据本发明专利技术的显微镜包括成像单元，该成像单元包括第一照射单元、成像元件和投影光学系统，所述第一照射单元包括照射第一对象的光源，所述成像元件执行所述第一对象的成像，所述投影光学系统将所述第一对象的图像投影到所述成像元件上；测量单元，被配置为测量第二对象，以用于设定在所述成像单元处执行第二对象的成像时使用的成像条件；以及控制器，被配置为同时执行在所述成像单元处的所述第一对象的成像以及在所述测量单元处的所述第二对象的测量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及显微镜的系统配置。
技术介绍
作为与包含显微镜的测量器件有关的相关系统，提供了 PTLl和PTL2中讨论的那些系统。在PTLl中，在执行用于可视地观察晶片表面的微伤(scratch)和变形(strain)的宏检查之后，执行微检查以便利用显微镜精密地检查进行特征的确认的位置。在用于执行这样的检查的结构中，能够使晶片旋转/倾斜的宏检查单元被设置在承载件和微检查单元之间。尽管常常使用分离的器件(即，宏检查器件和微检查器件)来检查晶片，但是用于执行这样的检查的这样的结构使得能够简化检查过程。在PTL2中，一种结构包括在同一光轴上的物镜和焦点设定物镜，并且对象被设置在它们之间。这里，在使用焦点设定物镜执行初步测量之后，使用该物镜执行实际测量。因此，即使对象的玻璃层的厚度改变，仍可以高的精度来设定物镜的焦点。因此，在这样的包含显微镜的测量器件中，常常使用如下这样的系统配置，在该系统配置中，通过作为预先测量对象的各种特性的结果确定观察条件来执行实际测量。这是因为当从初步测量的结果预先确定观察条件时，可使得除实际测量期间执行的观察之外的操作最少。但是，近年来，当将使用显微镜测量大量的对象时，已经存在对于花费比如PTLl和PTL2中的依次执行每个对象的初步测量和实际测量(成像)的方法更短的时间的方法的 需求。[引文列表][专利文献][PTL1]日本专利登记 N0.02915864[PTL2]日本专利登记 N0.03715013因此，本专利技术提供了能够增加显微镜的测量的吞吐量(throughput)的结构。
技术实现思路
一种显微镜包括成像单元，该成像单元包括第一照射单元、成像元件和投影光学系统，所述第一照射单元包括照射第一对象的光源，所述成像元件执行所述第一对象的成像，所述投影光学系统将所述第一对象投影到所述成像元件上；测量单元，被配置为测量第二对象，以用于设定在所述成像单元处执行第二对象的成像时使用的成像条件；以及控制器，被配置为同时执行在所述成像单元处的所述第一对象的成像以及在所述测量单元处的所述第二对象的测量。附图说明图1示出根据本专利技术的第一实施例的显微镜的示例性系统配置。图2A示出根据本专利技术的第一实施例的显微镜的示例性测量序列中的步骤I。图2B示出根据本专利技术的第一实施例的显微镜的示例性测量序列中的步骤2。图2C示出根据本专利技术的第一实施例的显微镜的示例性测量序列中的步骤3。图2D示出根据本专利技术的第一实施例的显微镜的示例性测量序列中的步骤4。图2E示出根据本专利技术的第一实施例的显微镜的示例性测量序列中的步骤5。图3示出根据本专利技术的第二实施例的显微镜的示例性系统配置。图4A示出根据本专利技术的第二实施例的显微镜的示例性测量序列中的步骤I。图4B示出根据本专利技术的第二实施例的显微镜的示例性测量序列中的步骤2。图4C示出根据本专利技术的第二实施例的显微镜的示例性测量序列中的步骤3。图4D示出根据本专利技术的第二实施例的显微镜的示例性测量序列中的步骤4。图4E示出根据本专利技术的第二实施例的显微镜的示例性测量序列中的步骤5。具体实施例方式[第一实施例]下文将参照附图描述根据本专利技术的第一实施例的显微镜的示例性系统配置。图1至2E均示出用于同时执行对象的成像以及执行对象的初步测量的系统配置。如图1至2E所示，用于执行对象的成像的成像单元I包括照射第一对象10的第一照射单元20，执行通过投影单元40获得的投影图像的成像的第一成像单元50，以及处理在第一成像单元50处获得的图像的第一图像处理系统51。这里，第一成像单元50可以是其中并排布置多个成像元件(成像元件为例如电荷耦合器件(CCD)传感器、互补金属氧化物半导体(CMOS)传感器或光电管，并且它们例如成直线地或者以矩阵形式设置)的单元，或者是包含一个成像元件的单元。第一对象10包括第一盖玻璃(cover glass) 11、第一样本(specimen) 12、以及第一滑动玻璃13。第一照射单兀20包括例如第一光源21、将从第一光源21发射的光束整形的第一准直器22、以及包含例如透镜和反射镜的第一照射光学系统23。对于第一光源21,例如，使用汞灯或者发光二极管(LED)。投影单元40包括投影光学系统41和透镜筒43。投影光学系统41包括仅包含透镜的光学系统或者包含透镜和反射镜的组合的光学系统。对于用于通过调整例如透镜和反射镜的位置和朝向来校正例如光学系统的像差的光学元件，可使用驱动调整机构42。此外，可提供如下这样的机构，该机构将诸如用于校正光路长度的平行板44的光学元件移入和移出例如透镜筒43的内部、透镜筒43和第一成像单元50之间的光路、以及透镜筒43和对象10之间的光路。这使得当例如盖玻璃的厚度改变时可校正光路长度。例如，当盖玻璃薄时设置厚的平行板，而当盖玻璃厚时设置薄的平行板。测量单元2包括例如位移计60、第二照射单元25、第二成像单元61、第二图像处理系统62、和位移信号处理系统63。测量单元2执行用于设定在成像部I处执行第二对象15的成像时使用的成像条件的测量(初步测量)。第二对象15包括第二盖玻璃16、第二样本17以及第二滑动玻璃18。第二照射单元25包括例如第二光源26、将从第二光源26发射的光束整形的第二准直器27、以及包含例如透镜和反射镜的第二照射光学系统28。图像处理系统62处理在第二成像单元61处获得的图像。这里，第二成像单元61可以是其中并排布置多个成像元件(它们例如是C⑶传感器、CMOS传感器或光电管并且它们例如被成直线地或者以矩阵形式设置)的单元，或者是包含一个成像元件的单元。通过这样的器件配置，当成像单元I处的成像以及测量单元2处的初步测量被同时执行时，可提高当依次测量多个对象时的测量吞吐量。用于执行同时操作的控制由控制器100执行。在成像单元I处执行成像的位置与在测量单元2处执行测量的位置之间的对象的传送由传送器件70执行,该传送器件70包括粗略旋转台架71、第一微动(fine motion)台架72、以及第二微动台架73。第一微动台架72和第二微动台架73通过真空吸引或者机械方法来保持相应的对象。通过例如线性马达使第一微动台架72和第二微动台架73相对于粗略旋转台架71在方向X、y和z上移动。对于粗略旋转台架71的驱动源，例如，可使用线性马达、USM、AC马达或者DC马达。这里，尽管描述了包含粗动台架(coarse stage)和微动台架的传送器件，但是可使用不使用微动台架的结构，只要粗略旋转台架71的定位精度令人满意即可。粗略旋转台架71、第一微动台架72和第二微动台架73设置有开口，以便允许来自照射单元的光照射对象。当对多个对象执行依次操作时的序列在图2A至2E中示出。在步骤I (图2A)中，将对象A传送至第一微动台架72上以通过测量单元2执行初步测量。这里，如果对象A是例如对于显微镜观察准备的样品(sample)A，则通过位移计60测量其位置、朝向、波度(waviness)等。对于位移计60,例如,可使用激光位移计、超声位移计、或者光学位移计。在光学位移计中，从倾斜入射到准备的样品上的光获得的反射光被取入传感器中。第二照射单元25和第二成像单元61被用于测量准备的样品中包含的样本的尺寸、透射光的量或者反射光的量，以及准备的样品的盖玻璃的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.08.18 JP 2010-1830471.一种显微镜，包括: 成像单元，包括第一照射单元、成像元件和投影光学系统，所述第一照射单元包括照射第一对象的光源，所述成像元件执行所述第一对象的成像，所述投影光学系统将所述第一对象投影到所述成像元件上； 测量单元，被配置为测量第二对象，以用于设定在所述成像单元处执行第二对象的成像时使用的成像条件；以及 控制器，被配置为同时执行在所述成像单元处的所述第一对象的成像以及在所述测量单元处的所述第二对象的测量。2.根据权利要求1所述的显微镜，其中所述测量单元包括第二照射单元，所述第二照射单元包括照射所述第二对象的光源。3.根据权利要求1所述的显微镜，所述显微镜还包括传送器件，所述传送器件用于将所述第二对象从通过所述测量单元执行测量的位置传送至通过所述成像单元执行成像的位置， 其中，与所述第二对象从通过所述测...

【专利技术属性】
技术研发人员：矢野胜士，藤井宏文，柳泽通雄，德田幸夫，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：
国别省市：