【技术实现步骤摘要】
本技术属等离子体聚合
,特别是涉及一种用于大气压等离子体聚合的装置。
技术介绍
一般用于材料处理的等离子体可通过气体放电产生,但多数等离子体都是在低气压下进行,如低气压辉光放电等。到目前为止低气压辉光放电等离子体已经得到较好研究并已广泛应用于材料加工领域,这与其具有明显的优点是分不开的,比如这种放电有比较低的击穿电压,容易实现稳定放电,还可以在较大尺度内实现均匀以及相对高的活性粒子浓度等。但另一方面由于低气压放电离不开真空系统,而且代价昂贵。介质阻挡放电通常可在大气压下进行,由于其独特的优越性,已经越来越多地被应用于材料改性领域。等离子体聚合是单体处于等离子体状态时进行的聚合,是利用气体放电使其产生各种活性基团,这些活性基团之间或活性基团与单体之间进行反应,从而形成了聚合膜。ZL02131978. 2公开了一种高密度等离子体化学气相沉积设备,它的底座由金属材料制成,腔内放置一个基板支座,上面盖有陶瓷圈,在陶瓷圈顶外壁放置一个射频线圈,来实现对腔内材料放电处理。这种方法沉积功率高,能够得到较为致密的薄膜。ZL02151229.9公开了一种用于纤维表面改性的常压低温等离子体处理装置,这种方法主要通过介质阻挡放电来实现。如果对于不同的放电类型,分别采取不同的装置,这样会造成整个处理过程的繁琐,而且选择性也相应减弱。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种用于大气压等离子体聚合的装置,能够选择不同的单体来进行等离子体聚合,从而形成多种薄膜。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是提供一种用于大气压等离子体聚合的装置,包括聚合反应系统、电源控制系统、进气 ...
【技术保护点】
一种用于大气压等离子体聚合的装置,包括聚合反应系统、电源控制系统(5)、进气系统,其特征在于:所述的聚合反应系统包括反应容器(3)、反应基材(8)、上电极(1)、下电极(2),所述的反应容器(3)内前部放置反应基材(8),反应容器(3)外表面后部上方覆盖有上电极(1),下方覆盖有下电极(2),且所述的反应基材(8)置于上电极(1)和下电极(2)之间间隙区域以外;所述的上电极(1)、下电极(2)分别连接电源控制系统(5)的两端;所述的反应容器(3)前端设有出气管(7),后端通过进气管(6)连接进气系统的溶液瓶(11);所述的进气系统包括溶液瓶(11)、气瓶(9),所述的气瓶(9)内装有载气,所述的气瓶(9)通过连接管(4)连接溶液瓶(11),所述的连接管(4)上设有气阀;所述的溶液瓶(11)内装有用于聚合的单体溶液,所述的进气管(6)末端高度位于溶液瓶(11)内液面以上,所述的连接管(4)末端高度位于溶液瓶(11)内液面以下。
【技术特征摘要】
1.一种用于大气压等离子体聚合的装置,包括聚合反应系统、电源控制系统(5)、进气系统,其特征在于所述的聚合反应系统包括反应容器(3)、反应基材(8)、上电极(I)、下电极(2 ),所述的反应容器(3 )内前部放置反应基材(8 ),反应容器(3 )外表面后部上方覆盖有上电极(I),下方覆盖有下电极(2 ),且所述的反应基材(8 )置于上电极(I)和下电极(2 )之间间隙区域以外;所述的上电极(I)、下电极(2)分别连接电源控制系统(5)的两端;所述的反应容器(3)前端设有出气管(7),后端通过进气管(6)连接进气系统的溶液瓶(11);所述的进气系统包括溶液瓶(11)、气瓶(9),所述的气瓶(9)内装有载气,所述的气瓶(9)通过连接管(4)连接溶液瓶(11),所述的连接管(4)上设有气阀;所述的溶液瓶(11)内装有用于聚合的単体溶液,所述的进气管(6)末端高度位于溶液瓶(11)内液面以上,所述的连接管(4)末端高度位于溶液瓶(11)内液面以下。2.如权利要求1所述的ー种用于大...
【专利技术属性】
技术研发人员:唐晓亮,陈阳,程曼丽,陈宝同,邱高,
申请(专利权)人:东华大学,
类型:实用新型
国别省市:
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