一种极紫外多层膜反射镜及其制作方法技术

本发明专利技术涉及一种极紫外多层膜反射镜及其制作方法，该反射镜包括基底、硅铝合金薄膜层及锆薄膜层，硅铝合金薄膜层和锆薄膜层依次交替的沉积在基底上，直至最上层为锆薄膜层，硅铝合金薄膜层及锆薄膜层分别设有35～40层，硅铝合金薄膜层共分为五层，从上到下依次为：硅铝合金超薄膜层、硅超薄膜层、硅铝合金超薄膜层、硅超薄膜层及硅铝合金超薄膜层；制作方法包括以下步骤：首先对基底进行清洗，然后采用直流磁控溅射方法在基底上依次镀制硅铝合金薄膜层和锆薄膜层。与现有技术相比，本发明专利技术制备的极紫外多层膜反射镜具有成膜质量好、光学性能满足需求等优势，更适于对反射率要求较高的极紫外光学系统。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于精密光学元件制作
，尤其是涉及。
技术介绍
在极紫外(EUV)波段，基于纳米厚度多层膜的反射式光学元件已经在科学研究和工程
得到了广泛应用。极紫外多层膜反射镜的膜层材料选择是研制多层膜反射镜的重点，经过几十年的研究，一些非常好的膜层材料被提出。在12. 5 30nm极紫外波段，Si/Mo多层膜反射镜被广泛应用于极紫外分束镜、反射镜、极紫外光刻和天文观测装置中。但是，在波长超过25nm的极紫外波段，由于硅和钥对极紫外辐射的吸收快速增大，导致硅/钥多层膜的反射率相对较低、光谱分辨率较差，难以满足应用需求。因此，在波长较长的EUV波段(17.1 29nm)，需要寻找更好的多层膜材料。由于铝的L吸收边在17. 06nm，因此在17.1 19nm波段，铝具有较小的吸收系数，相比硅，更适于作为多层膜的间隔层材料。近年来，铝基极紫外多层膜反射镜日渐成为国际研究热点。目前为止，已经公开发表的铝基多层膜主要包括铝/钥、铝/碳化硅和铝/锆多层膜。铝/钥多层膜从理论上具有相比钥/硅多层膜更高的峰值反射率，但是铝/钥多层膜表面容易氧化，且铝/钥多层膜的膜层界面间粗糙度比较大，如工本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种极紫外多层膜反射镜，其特征在于，该反射镜包括基底、硅铝合金薄膜层及锆薄膜层，所述的硅铝合金薄膜层和锆薄膜层依次交替的沉积在基底上，直至最上层为锆薄膜层，所述的硅铝合金薄膜层及锆薄膜层分别设有35～45层，所述的硅铝合金薄膜层共分为五层，从上到下依次为：硅铝合金超薄膜层、硅超薄膜层、硅铝合金超薄膜层、硅超薄膜层及硅铝合金超薄膜层。

【技术特征摘要】
1.ー种极紫外多层膜反射镜，其特征在于，该反射镜包括基底、硅铝合金薄膜层及锆薄膜层，所述的硅铝合金薄膜层和锆薄膜层依次交替的沉积在基底上，直至最上层为锆薄膜层，所述的硅铝合金薄膜层及锆薄膜层分别设有35 45层，所述的硅铝合金薄膜层共分为五层，从上到下依次为硅铝合金超薄膜层、硅超薄膜层、硅铝合金超薄膜层、硅超薄膜层及硅铝合金超薄膜层。2.根据权利要求1所述的ー种极紫外多层膜反射镜，其特征在于，硅铝合金薄膜层及锆薄膜层的总厚度为262. 5 486. O纳米，所述的硅铝合金薄膜层的厚度为4. 7 7. 5纳米，所述的锆薄膜层的厚度为2. 8 3. 3纳米，所述的硅铝合金超薄膜层的厚度为1. 3 2.1纳米，所述的硅超薄膜层的厚度为0. 4 0. 6纳米。3.根据权利要求1所述的ー种极紫外多层膜反射镜，其特征在于，所述的硅铝合金超薄膜层中，铝占99%的重量份，硅占I %的重量份；所述的硅超薄膜层由纯度为99. 999%的硅材料制成；所述的锆薄膜层由纯度为99. 999%的锆金属材料制成。4.根据权利要求1所述的ー种极紫外多层膜反射镜，其特征在于，所述的基底为光学玻璃或超光滑硅基底，所述的基底表面的均方根粗糙度大于Onm，小于0. 5nm。5.—种如权利要求1 4中任一所述的极紫外多层膜反射镜的制作方法,其特征在于，该方法包括以下步骤首先对基底进行清洗，然后采用直流磁控溅射方法在基底上依次镀制硅铝合金薄膜层和锆薄膜层。6.根据权利要求5所述的ー种极紫外多层膜反射镜的制作方法，其特征在干，所述的对基底进行清洗依次包括以下步骤采用去离子水超声波清洗8 12分钟、有机清洗液超声波清洗8 12分钟、去离子水超声波清洗3 8分钟、MOS级丙酮超声波清洗8 12分钟、去离子水超声波清洗8-12分钟、MOS级こ醇超声波清洗8-12分钟、去离子水超声波清...

【专利技术属性】
技术研发人员：张众，钟奇，王占山，
申请(专利权)人：同济大学，
类型：发明
国别省市：