【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光电子
具体涉及一种用于制备DFB激光器相移光栅的反射镜装置及其制备方法，利用全息曝光方法，制作DFB激光器的光栅结构。
技术介绍
DFB激光器(分布式反馈激光器)由于其稳定的动态单纵模和波长温度特性好等优点，被大量应用于光纤通信系统。影响DFB激光器成品率的最大因素是光谱的双模问题。光栅作为DFB激光器的选模机构，其类型及质量好坏直接影响成品率。光栅制作一般分为两种全息曝光法和E-beam曝光法。光栅类型分为两种均勻光栅和相移光栅。由于相移光栅的结构中引入了 λ /4相移，能够很好解决DFB激光器光谱中的双模问题，可以大大提高DFB激光器芯片的成品率，被广泛应用于高端DFB激光器制作工艺中。传统工艺中，全息曝光法只能制作均匀光栅，但制作成本低，制作速度快，一般用于中低端DFB激光器芯片的制作。E-beam曝光是通过电脑控制，可以刻写任何类型的光栅，但是刻写速度慢，设备成本高，通常用来制作高端DFB激光器芯片。
技术实现思路
针对现有技术中存在的问题，本专利技术所要解决的技术问题为提供一种用于制备DFB激光器相移光栅的反射镜装置及其制备方法，既解决了 DFB激光器光谱双模问题，又解决了采用E-beam制作相移光栅成本高，速度慢的问题。本专利技术提出一种用于制备DFB激光器相移光栅的反射镜装置，包括反射镜，该反射镜的反射膜表面具有增透膜，所述的增透膜由多个相间的条形结构构成。每个条形结构的宽度L1与相邻条形结构的间距L2之间的比例满足1:5 5:1。每个条形结构的宽度L1与相邻条形结构的间距L2之间的比例满足1:1。所述的增透膜的周期为...
【技术保护点】
一种用于制备DFB激光器相移光栅的反射镜装置，其特征在于，包括反射镜，该反射镜的反射膜表面具有增透膜，所述的增透膜由多个相间的条形结构构成。
【技术特征摘要】
1.一种用于制备DFB激光器相移光栅的反射镜装置，其特征在于，包括反射镜，该反射镜的反射膜表面具有增透膜，所述的增透膜由多个相间的条形结构构成。2.根据权利要求1所述的用于制备DFB激光器相移光栅的反射镜装置，其特征在于，每个条形结构的宽度L1与相邻条形结构的间距L2之间的比例满足1:5 5:1。3.根据权利要求2所述的用于制备DFB激光器相移光栅的反射镜装置，其特征在于，每个条形结构的宽度L1与相邻条形结构的间距1^2之间的比例满足1:1。4.根据权利要求2所述的用于制备DFB激光器相移光栅的反射镜装置，其特征在于，所述的增透膜的周期为DFB激光器的腔长，该增透膜的周期为条形结构的宽度L1与相邻条形结构的间距L2之和。5.根据权利要求2所述的用于制备DFB激光器相移光栅的反射镜装置，其特征在于，所述的增透膜的厚度为d与增透膜的折射率为η之间的关系满足6.根据权利要求4所述的用于制备DFB激光器相移光栅的反射镜装置，其特征在于，所述的增透膜的厚度为10(T200nm，增透膜的折射率为1. Γ . 5。7.一种用于制备DFB激光器相移光栅的反射镜装置的制备方法，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘应军，王任凡，阳红涛，胡忞远，
申请(专利权)人：武汉电信器件有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。