一种等离子反应器制造技术

本实用新型专利技术提供一种等离子反应器，具有电感耦合模式和电容耦合模式两者工作模式。所述反应器包括一个反应腔侧壁和一个覆盖在所述侧壁上方的绝缘材料窗，所述反应器内下方包括一个基座，所述绝缘材料窗上方依次叠放有导电屏蔽板和电感线圈，其中导电屏蔽板和电感线圈之间由绝缘部件隔离，其特征在于：一个射频电源电连接到第一切换开关，所述第一切换开关选择性的电连接到所述电感线圈或导电屏蔽板，所述导电屏蔽板连接到一个第二切换开关所述第二切换开关选择性的连接到接地端。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

一种等离子反应器
本技术涉及等离子体处理领域，尤其涉及一种等离子反应器能够在电感耦合 和电容耦合模式之间转换。
技术介绍
半导体制造
中，广泛应用等离子来对半导体晶圆或基片进行加工。等离 子源包括多个种类，最常用的有电容稱合型CCP(capacitively coupled plasma) sources 和电感I禹合型ICP (inductively coupled plasma) sources。电容f禹合型的等离子源相对 其它类型具有很多优点，平板形的几何形状与待处理的晶圆对应，所以施加到晶圆上方的 电场具有很高的均一性，所以能够获得更高均一性的刻蚀或沉积效果。而且在进行上述等 离子处理时具有较小的滞留时间(residence times)从而使得等离子反应腔具有较高处理 效率和更简单的结构。同时CCP型的等离子反应器在能量耦合的效率上并不是很有效，由 等离子造成的损害也是要解决的问题之一。而且产生的等离子浓度也不及其它类型的等离 子反应器。电感耦合型(ICP)反应器也有自己的优势，主要的优点是在低压情况下产生较 高的等离子浓度和较高的能源利用效率。电感耦合型(I本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子反应器，所述反应器包括一个反应腔侧壁和一个覆盖在所述侧壁上方的绝缘材料窗，所述反应器内下方包括一个基座，所述绝缘材料窗上方依次叠放有导电屏蔽板和电感线圈，其中导电屏蔽板和电感线圈之间由绝缘部件隔离，其特征在于：一个射频电源电连接到第一切换开关，所述第一切换开关选择性的电连接到所述电感线圈或导电屏蔽板，所述导电屏蔽板连接到一个第二切换开关所述第二切换开关选择性的连接到接地端。

【技术特征摘要】
1.一种等离子反应器，所述反应器包括一个反应腔侧壁和一个覆盖在所述侧壁上方的绝缘材料窗，所述反应器内下方包括ー个基座，所述绝缘材料窗上方依次叠放有导电屏蔽板和电感线圈，其中导电屏蔽板和电感线圈之间由绝缘部件隔离，其特征在干 一个射频电源电连接到第一切换开关，所述第一切换开关选择性的电连接到所述电感线圈或导电屏蔽板，所述导电屏蔽板连接到ー个第二切换开关所述第二切换开关选择性的连接到接地端。2.如权利要求1所述的等离子反应器，其特征在于所述基座中包括一个下电极电连接到一个偏置射频电源。3.如权利要求1所述的等离子反应器，其特征在于所述导电屏蔽板上包括多条从中心向边缘放射状排布的通槽。4.如权利要求1所述的等离子反应器，其特征在于所述反应器中的第一切换开关使得所述射频电源连接到电感线圈时所述第二切换开关电连接到接地端。5.如权利要求1所述的等离子反应器，其特征在于所述反应器中第一切换开关使得所述射频电源电连接到导电屏蔽板时所述第二切换开关使导电屏蔽板与接地端断开。6.如权利要求1所述的等离子反应...

【专利技术属性】
技术研发人员：周旭升，梁洁，左涛涛，
申请(专利权)人：中微半导体设备上海有限公司，
类型：实用新型
国别省市：