【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种栅内阻及其制造方法,具体涉及一种IGBT芯片可变栅内阻。
技术介绍
IGBT (绝缘栅双极晶体管)同时具有单极性器件和双极性器件的优点,驱动电路简单,控制电路功耗和成本低,通态压降低,器件自身损耗小,是未来高压大电流的发展方向。IGBT为3端器件,包括正面发射极,栅极及背面集电极。IGBT芯片有源区剖面图详见图1。包括低浓度的N-衬底区;衬底表面的栅极氧化层2,沉积在栅极氧化层2上的多晶硅栅极I ;栅极氧化层与N-衬底区之间的P-阱区3 ;位于P-阱区与栅极氧化层之间的N+区4 ;位于N-衬底区下方的背面注入区5 ;位于注入区下方的集电极7及位于栅极氧化层上方的发射极6。IGBT芯片由功能划分为有源区、终端区和栅极区三部分,其俯视图见图2。有源区又称元胞区,为芯片的功能区域;主要影响芯片的电流相关参数,如导通电压,阈值电压参数;终端区位于芯片的边缘区域,主要影响芯片的耐压参数;栅极区又可分为栅焊盘区及栅汇流条区,为芯片的栅极控制区域,影响器件的开关特性。IGBT芯片常用的栅极结构有平面型、沟槽型。IGBT芯片在串联适用时,通常会在栅焊盘区及栅汇流条 ...
【技术保护点】
一种IGBT芯片可变栅内阻,所述IGBT芯片包括栅极区,所述栅极区集成IGBT芯片的开关特性;所述栅极区包括栅焊盘区和栅汇流条区;其特征在于,所述栅内阻串联在所述栅焊盘区和栅汇流条区之间。
【技术特征摘要】
1.ー种IGBT芯片可变栅内阻,所述IGBT芯片包括栅极区,所述栅极区集成IGBT芯片的开关特性;所述栅极区包括栅焊盘区和栅汇流条区; 其特征在于,所述栅内阻串联在所述栅焊盘区和栅汇流条区之间。2.如权利要求1所述的IGBT芯片可变栅内阻,其特征在于,所述栅内阻设置在IGBT芯片栅极区,与IGBT芯片的外接电路栅外阻共同构成栅电阻。3.如权利要求1所述的IGBT芯片可变栅内阻,其特征在于,所述栅内阻为多晶电阻,分别与IGBT芯片制造时的孔掩模版和金属掩模版连接;所述栅内阻包含在IGBT芯片制造时多晶掩模版中。4.如权利要求3所述的IGBT芯片可变栅内阻,其特征在于,所述多晶电阻的大小由多晶的长和宽决定;多晶电阻的大小决定棚内阻的大小。5.如权利要求1所述的IGBT芯片可...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘江,高明超,赵哿,金锐,
申请(专利权)人:中国电力科学研究院,国家电网公司,
类型:实用新型
国别省市:
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