用于清洁硅衬底的设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于清洁硅衬底的设备。特别地，本实用新型专利技术涉及一种用于清洁由清洁液体包围并运输通过处理池的硅衬底的设备。根据本实用新型专利技术，用于单侧清洁硅衬底(1)的设备包括容纳清洁液体(F)的处理池(2)、用于通过处理池(2)沿着清洁平面(4)水平运输硅衬底(1)的运输设备(3)、用于产生声波场的至少一个振动器(5)以及用于将清洁的液体输出到待清洁衬底表面上的至少一个喷嘴(6)，其中至少一个振动器(5)设置在处理池(2)中，使得由所述振动器发射的声波能到达非待清洁的衬底表面上，且其中至少一个喷嘴(6)设置并定向成使得由喷嘴输出的液体在由振动器发射的声波的作用区域(W)中能到达待清洁衬底表面上。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种用于清洁硅衬底的设备。特别地，本技术涉及一种用于清洁由清洁液体包围并通过处理池运输的硅衬底的设备。
技术介绍
例如，需要如硅晶圆或者由如玻璃、塑料、金属或者陶瓷的材料制成的晶圆的平坦的物体来制造太阳能电池，而且也制造作为衬底的半导体器件。所述平坦的物体的处理通常还包括例如借助如蚀刻膏、掺杂保护膏或诸如此类的膏状的药剂来对至少一个衬底侧进行覆层，所述膏状的药剂在稍晚的时间点必须再次完全地从衬底移除。所述工艺步骤下面简短地称作“清洁”。对此已知不同的清洁设备。这种设备例如在参考文献PCT/DE2006/000468中公开。板形的超声波振动器位于处理池中。待清洁的衬底沿着超声波振动器的发射超声波的一侧运输。优选地，一个或多个超声波振动器的表面相对于衬底的表面略微倾斜。在优选借助辊子实现的经过处理池期间，进行朝向或者背离一个或多个超声波振动器的衬底面的清洁。然而，试验已经表明，借助超声波进行的清洁仅仅在朝向振动器的一侧上是足够的。尤其关于高粘度(膏状)的层的清洗，仅在耗费大量时间和功率的情况下，清洁才是可能的。此外，悬浮在衬底下侧上的并且在衬底上侧上“跳动”的杂质颗粒妨碍清洁本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于单侧地清洁硅衬底(1)的设备，所述设备包括用于容纳清洁液体(F)的处理池(2)、用于将所述硅衬底(1)沿着清洁平面(4)水平地运输通过所述处理池(2)的运输设备(3)、用于产生声波场的至少一个振动器(5)以及用于将清洁的液体输出到待清洁的衬底表面上的至少一个喷嘴(6)，其中所述至少一个振动器(5)在所述处理池(2)中设置成，使得由所述至少一个振动器发射的声波能够到达非待清洁的衬底表面上，并且其中所述至少一个喷嘴(6)设置并定向成，使得由所述至少一个喷嘴输出的所述液体在由所述振动器发射的所述声波的作用区域(W)中能够到达待清洁的所述衬底表面上。

【技术特征摘要】
1.用于单侧地清洁硅衬底(I)的设备，所述设备包括用于容纳清洁液体(F)的处理池(2)、用于将所述硅衬底(I)沿着清洁平面(4)水平地运输通过所述处理池(2)的运输设备(3)、用于产生声波场的至少一个振动器(5)以及用于将清洁的液体输出到待清洁的衬底表面上的至少一个喷嘴￠)，其中所述至少一个振动器(5)在所述处理池(2)中设置成，使得由所述至少一个振动器发射的声波能够到达非待清洁的衬底表面上，并且其中所述至少一个喷嘴(6)设置并定向成，使得由所述至少一个喷嘴输出的所述液体在由所述振动器发射的所述声波的作用区域(W)中能够到达待清洁的所述衬底表面上。2.根据权利要求1所述的设备，其中所述至少一个喷嘴(6)设置在所述清洁液体(F)之外。3.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述至少一个喷...

【专利技术属性】
技术研发人员：马库斯·乌伊莱因，斯特凡·海因里希·韦内特，帕特里克·甘特尔，克劳迪娅·沙夫纳，马丁·韦伯，
申请(专利权)人：睿纳有限责任公司，
类型：实用新型
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