一种LED衬底基片去蜡清洗剂制造技术

本发明专利技术公开了一种LED衬底基片去蜡清洗剂，包括如下组分：分散剂、异构醇醚羧酸盐、油酸三乙醇胺、有机溶剂、苯骈三氮唑、异丙基化磷酸三苯酯、2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮、异构醇聚氧乙烯醚、烯醇醚、渗透剂以及乙酸乙酯。本发明专利技术提供一种LED衬底基片去蜡清洗剂，该清洗剂可以应用在各种LED衬底基材上，且清洗效率高，去蜡能力强；安全性能好，不污染环境；节约能源，洗涤成本低；洗涤过程对基片无损伤。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种清洗剂，具体地说，本专利技术涉及一种LED衬底基片去蜡清洗剂。
技术介绍
随着LED衬底基片直径向大尺寸发展，有蜡抛光方式成为LED衬底基片抛光的一项主流技术，从而需要引入LED衬底基片去蜡技术。对LED衬底基片去蜡工艺中一些常用的技术，以前通常的除蜡方法是使用卤代烃溶剂，其中包括三氯乙烯、二氯甲烷、四氯乙烯、三氯三氟乙烷等有机溶液清洗。卤代烃溶剂是密度大于水，难溶于水的液体。他具有不燃性或难燃性。卤代烃溶剂清洗效果好，成本低，但由于它对大气臭氧层有破坏作用，目前正面临被禁止使用的处境，各国都在加紧研究替代这种有机溶剂的清洗剂。中国专利CN101974377A公开了一种LED砷化镓衬底基片去蜡清洗剂，该清洗剂包括下列组成部分：有机溶剂，有机碱，表面活性剂，无机盐和余量的去离子水，其中，所说的有机溶剂为烷烃、环烷烃或芳香烃溶剂；所说的有机碱为多羟多胺、胺碱、羟胺或醇胺，所说的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、多元醇酯和高分子及元素有机化合物中的一种或多种，所说的无机盐是碱性盐，该清洗剂能替代卤代烃溶剂，既能达到卤代烃溶剂的清洗效果，除蜡效果明显，又对砷化镓衬底基片无影响，但是该清洗剂仅限于LED基片为砷化镓衬底时除蜡效果好，对其他衬底比如硅衬底时清除蜡的效果不是很好。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种LED衬底基片去蜡清洗剂，该清洗剂可以应用在各种LED衬底基材上，且清洗效率高，去蜡能力强；安全性能好，不污染环境；节约能源，洗涤成本低，洗涤过程对基片无损伤。本专利技术采用的技术方案为一种LED衬底基片去蜡清洗剂，包括如下重量份的组分：优选的是，所述异构醇聚氧乙烯醚为碳原子数为8～15的异构脂肪醇经乙氧基化得到的产物，其乙氧基数为3～6。优选的是，所述有机溶剂为D-柠檬烯或者丙二醇醚。优选的是，所述分散剂为乙二胺四乙酸二钠、羟基乙叉二膦酸四钠、二乙烯三胺五乙酸五钠及柠檬酸钠中的两种或三种的混合物。优选的是，所述烯醇醚选自乙烯基二乙二醇醚、乙烯基乙二醇醚、丙烯基乙二醇醚中的一种或多种。优选的是，所述渗透剂选自月桂酸、油酸、薄荷脑中的一种。优选的是，所述异构醇醚羧酸盐为碳原子数为8～13的异构脂肪醇先经乙氧基化、再经羧酸化得到的产物，其乙氧基数为3～6。本专利技术至少包括以下有益效果：(1)本专利技术采用异构醇聚氧乙烯醚和异构醇醚羧酸盐，相同的碳原子数和乙氧基数，可以协调增效两者的相容性，配伍性，添加其他组分复配而成，既能产生增效作用，提高清洗剂的去蜡能力，同时还能去除基片上其他的污垢，清洗效率高，加入有机溶剂和乙酸乙酯，不仅具有良好的溶解性，有效地溶解多种表面活性剂和其他助剂，此外具有良好的去油污能力，可以去除多种油污和蜡；(2)本专利技术可以用于LED衬底基片蜡的去除，同时对于基片基本没有腐蚀，且成本低，清洗简单，本专利技术的清洗剂能够在基片表面形成保护膜，隔绝空气，防止大气中水及其他分子腐蚀基片，抗氧化，方便下一步制作工艺进行。具体实施方式以下将结合具体实施例来详细说明本专利技术的实施方式，借此对本专利技术如何应用技术手段来解决技术问题，并达到技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。若未特别指明，实施例中所采用的技术手段为本领域技术人员所熟知的常规手段，所采用的原料也均为可商业获得的。未详细描述的各种过程和方法是本领域中公知的常规方法。一种LED衬底基片去蜡清洗剂，包括如下重量份的组分：作为本专利技术进一步改进，所述异构醇聚氧乙烯醚为碳原子数为8～15的异构脂肪醇经乙氧基化得到的产物，其乙氧基数为3～6。作为本专利技术进一步改进，所述有机溶剂为D-柠檬烯或者丙二醇醚，该有机溶剂具有良好的溶解性，有效地溶解多种表面活性剂和其他助剂，此外本身也具有良好的去油污能力，可以去除多种油污。作为本专利技术进一步改进，所述分散剂为乙二胺四乙酸二钠、羟基乙叉二膦酸四钠、二乙烯三胺五乙酸五钠及柠檬酸钠中的两种或三种的混合物。本专利技术的清洗剂采用安全且易于漂洗的分散剂代替表面活化剂，清洗速度快且没有毒挥发性物质产生，减少对操作者皮肤的伤害及对环境的污染，同时由于清洗的效率高、速度快，成本也更低。作为本专利技术进一步改进，所述烯醇醚选自乙烯基二乙二醇醚、乙烯基乙二醇醚、丙烯基乙二醇醚中的一种或多种。作为本专利技术进一步改进，所述渗透剂选自月桂酸、油酸、薄荷脑中的一种。作为本专利技术进一步改进，所述异构醇醚羧酸盐为碳原子数为8～13的异构脂肪醇先经乙氧基化、再经羧酸化得到的产物，其乙氧基数为3～6，疏水基选择中等长度的支链结构，可以增加其在有机溶剂的润湿性和渗透性，经乙氧基化引入非离子基团，可以增加与其他组分的相容性，最后进行羧酸化，可以使其耐碱性，乳化性能得到进一步提高。表1列出不同实施例和对比例的具体组分及其含量。表1实施例1～3和对比例1～4具体的组分注：3EO是指乙氧基数为3，其他类似的表示也指该含义。本案清洗剂的制备方法：称取配方量的各组分，加热至60℃，持续搅拌，直至完全混匀，即得。表2列出了实施例1～3和对比例1～4的测试结果。表2实施例1～3和对比例1～4的测试结果尽管本专利技术的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本专利技术的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本专利技术并不限于特定的细节。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种LED衬底基片去蜡清洗剂，其特征在于，包括如下重量份的组分：

【技术特征摘要】
1.一种LED衬底基片去蜡清洗剂，其特征在于，包括如下重量份的组分：
2.如权利要求1所述的LED衬底基片去蜡清洗剂，其特征在于，所述异构醇聚氧乙
烯醚为碳原子数为8～15的异构脂肪醇经乙氧基化得到的产物，其乙氧基数为3～6。
3.如权利要求1所述的LED衬底基片去蜡清洗剂，其特征在于，所述有机溶剂为
D-柠檬烯或者丙二醇醚。
4.如权利要求1所述的LED衬底基片去蜡清洗剂，其特征在于，所述分散剂为乙二
胺四乙酸二钠、羟基乙叉二膦酸四钠、二乙烯三胺五乙酸五钠及柠檬酸钠中的...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱桂林，
申请(专利权)人：苏州佳亿达电器有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32