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本实用新型涉及一种用于清洁硅衬底的设备。特别地，本实用新型涉及一种用于清洁由清洁液体包围并运输通过处理池的硅衬底的设备。根据本实用新型，用于单侧清洁硅衬底(1)的设备包括容纳清洁液体(F)的处理池(2)、用于通过处理池(2)沿着清洁平面(4...
该专利属于睿纳有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过睿纳有限责任公司授权不得商用。

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