【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种半导体器件的封装结构及制造方法,特别涉及一种。
技术介绍
在功率晶体管的应用中,器件的尺寸及散热是两个重要的参数。通常通过暴露晶体管的栅极和漏极来改善器件的散热性能,但是实现过程往往比较复杂。在一些开关电路,例如同步降压变流器、半桥式变流器和逆变器中,需要两个功率 MOSFET以互补方式切换。如图1所示的开关电路中,包含连接在电压源3上的两个串联的 M0SFET,通常分别称这两个MOSFET为高端和低端的MOSFET芯片(简称为高端芯片I和低端芯片2)。其中,高端芯片I的源极,经由若干寄生电感0)肥、1^肥、0)1^、1^1^,连接至低端芯片2的漏极。对于这些器件来说,如果可以同时封装高端芯片和低端芯片,在封装体内部以引线连接这两个芯片,就能够减小引线电感。实际操作时,一般将高端芯片和低端芯片并排布置在引线框架的同一边,但是这样的平面布置使得整个器件的尺寸会比较大。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种, 通过将高端芯片和低端芯片分别连接在引线框架的两边,使三者堆叠起来以减小整个器件的尺寸;并且,可以将芯片背面直接暴露或经由散热片暴露在封装体以外,来改善散热性倉泛。为了达到上述目的,本专利技术的一个技术方案是提供一种联合封装高端和低端芯片的半导体器件,其包含导电的引线框架,其设置有载片基座;高端芯片和低端芯片,其各自设置有顶部源极、顶部栅极和底部漏极;其中所述高端芯片的顶部源极上植设有若干导电的源极焊球,顶部栅极上植设有若干导电的栅极焊球;所述低端芯片的背面固定连接至引线框架的正面,并且使该低端芯片的底部漏极电性连接在载片基座的顶面;所 ...
【技术保护点】
一种联合封装高端和低端芯片的半导体器件,其特征在于,包含导电的引线框架(100),其设置有载片基座(110);低端芯片(200)和高端芯片(300),其各自设置有顶部源极、顶部栅极和底部漏极;其中所述高端芯片(300)的顶部源极上植设有若干导电的源极焊球(311),顶部栅极上植设有若干导电的栅极焊球(312);所述低端芯片(200)的背面固定连接至引线框架(100)的正面,并且使该低端芯片(200)的底部漏极电性连接在载片基座(110)的顶面;所述高端芯片(300)的正面固定连接至引线框架(100)的背面,并且使该高端芯片(300)的顶部源极通过所述若干源极焊球(311)电性连接至载片基座(110)的底面;所述半导体器件还包含封装体(400),将依次堆叠布置的低端芯片(200)、引线框架(100)的载片基座(110)、高端芯片(300)塑封在所述封装体(400)中,而使所述高端芯片(300)的背面暴露在所述半导体器件背面的封装体(400)以外来进行散热。
【技术特征摘要】
1.一种联合封装高端和低端芯片的半导体器件,其特征在于,包含 导电的引线框架(100),其设置有载片基座(110); 低端芯片(200)和高端芯片(300),其各自设置有顶部源极、顶部栅极和底部漏极;其中所述高端芯片(300)的顶部源极上植设有若干导电的源极焊球(311),顶部栅极上植设有若干导电的栅极焊球(312); 所述低端芯片(200)的背面固定连接至引线框架(100)的正面,并且使该低端芯片(200)的底部漏极电性连接在载片基座(110)的顶面;所述高端芯片(300)的正面固定连接至引线框架(100)的背面,并且使该高端芯片(300)的顶部源极通过所述若干源极焊球(311)电性连接至载片基座(110)的底面; 所述半导体器件还包含封装体(400),将依次堆叠布置的低端芯片(200)、引线框架(100)的载片基座(110)、高端芯片(300)塑封在所述封装体(400)中,而使所述高端芯片(300)的背面暴露在所述半导体器件背面的封装体(400)以外来进行散热。2.如权利要求1所述联合封装高端和低端芯片的半导体器件,其特征在于, 所述引线框架(100)还包含与所述载片基座(110)分隔开且无电性连接的第一、第二、第三引脚(121、122、123),以及与所述载片基座(110)电性连接的第四引脚(124)。3.如权利要求2所述联合封装高端和低端芯片的半导体器件,其特征在于, 所述低端芯片(200)的底部漏极与所述高端芯片(300)的顶部源极,分别连接在载片基座(110)的两面,从而一起通过所述第四引脚(124)与外部器件进行电性连接。4.如权利要求2所述联合封装高端和低端芯片的半导体器件,其特征在于, 所述高端芯片(300)的顶部栅极通过若干栅极焊球(312),电性连接至所述第三引脚(123)。5.如权利要求1所述联合封装高端和低端芯片的半导体器件,其特征在于, 在所述高端芯片(300)的背面覆盖有一散热件;器件封装后,所述散热件暴露在器件背面的封装体(400)以外;所述高端芯片(300)的底部漏极通过所述暴露的散热件与外部器件电性连接。6.如权利要求5所述联合封装高端和低端芯片的半导体器件,其特征在于, 所述散热件是在所述高端芯片(300)背面,通过蒸发溅射形成的具有一定厚度的金属层(320)。7.如权利要求5所述联合封装高端和低端芯片的半导体器件,其特征在于, 所述散热件是在所述高端芯片(300)背面粘贴的一个导电的金属贴片(320’)。8.如权利要求2所述联合封装高端和低端芯片的半导体器件,其特征在于, 所述低端芯片(200)的顶部源极,通过设置的一个金属连接片(230),电性连接至所述第一引脚(121);所述低端芯片(200)的顶部栅极,通过设置的另一个金属连接片(230),电性连接至所述第二引脚(122)。9.如权利要求8所述联合封装高端和低端芯片的半导体器件,其特征在于, 所述金属连接片(230)与所述低端芯片(200)之间,所述金属连接片(230)与所述第一引脚(121)、第二引脚(122)之间,分别设置有使其对应粘贴并电性连接的高温合金(220)。10.如权利要求1所述联合封装高端和低端芯片的半导体器件,其特征在于,在所述低端芯片(200)与所述引线框架(100)的载片基座(110)之间,设置有使两者相互粘贴并电性连接的高温合金(220)。11.如权利要求1所述联合封装高端和低端芯片的半导体器件,其特征在于, 所述高端芯片(300)的顶部源极、顶部栅极上,对应植设的若干焊球分别是由低温合金制成。12.—种联合封装高端和低端芯片的半导体器件的制作方法,其特征在于,包含以下步骤 步骤1、由导电材料制作一条引线框架(100);对应每个半导体器件,在所述引线框架(100)上设置有载片基座(110); 步骤2、...
【专利技术属性】
技术研发人员:龚玉平,薛彦迅,赵良,
申请(专利权)人:万国半导体开曼股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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