连续电镀装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供不使用多个分割阴极轨道地以与设定电流值相应的膜厚在各工件形成电镀覆膜的连续电镀装置。连续电镀装置，具有：电镀槽（10），容纳电镀液（11），同时地电镀沿输送路径连续输送的多个工件（W）；共同阴极电极（30），经由分别保持多个工件（W）的多个输送夹具（20）而与多个工件（W）电连接；多个分割阳极电极（40），在电镀槽（10）内与输送路径对置配置；以及多个电源（50），与多个分割阳极电极（40）的各一个和共同阴极电极（30）连接，分别独立地控制供给至多个分割阳极电极（40）的电流。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及供电至在电镀槽内连续输送的工件并电镀工件的连续电镀装置。
技术介绍
在本申请的申请人的专利文献I中，公开了使用共同阳极电极和分割阴极轨道的电流控制方法。该方法为，如专利文献I的图1所示，例如5个单元经由对应的5个分割阴极轨道(阴极中继部件)而供电至在电镀槽单元内连续输送的最大5个工件，从而成为一定的电流密度(A/dm2)。5个电源单元，在工件整面与共同阳极电极对置的全部浸溃状态下，以设定电流值进行恒定电流控制。而且，最上游的电源单元，根据与送入电镀槽内的部分浸溃状态的工件和共同阳极电极对置的电解面积，对电流进行渐增控制。最下游的电源单元，根据从电镀槽单元内送出的部分浸溃状态的工件和共同阳极电极对置的电解面积，对电流进行渐减控制。这样，能够以针对每个工件而设定的电流值进行连续电镀，能够以与所设定的电流密度相应的膜厚在各工件形成均匀且高品质的电镀覆膜。专利文献1:日本特开2009 - 132999号公报。
技术实现思路
在专利文献I中，有必要与电镀槽并列地配置分割阴极轨道，连续电镀槽装置的横宽增大。由此，装置的设置面积增大。在专利文献I中，有必要以按照批单位流动的全部的工件作为对象而在部分浸溃状态下对电流值进行渐增或渐减控制，控制复杂化。另外，如果将在电镀槽内成为全部浸溃状态的工件的数量设为N，那么，在电镀槽内的上游侧和下游侧成为部分浸溃状态的情况的工件数成为(N+1)。因而，分割阴极轨道和电源单元的数量分别需要成为(N+1)个。本专利技术的几个方式能够提供不使用多个分割阴极轨道地以与设定电流值相应的膜厚在各工件形成电镀覆膜的连续电镀装置。本专利技术的其他几个方式能够提供进一步使电源数减少的连续电镀装置。本专利技术的再一个方式能够提供仅对批单位的最初和最后的工件进行电流值的渐增或渐减控制即可而没有必要进行以按照批单位流动的全部的工件作为对象的电流值的渐增或渐减控制的连续电镀装置。本专利技术的再一个方式能够提供即使变更工件尺寸，也没有必要变更阳极电极且没有必要进行电流值的渐增或渐减控制的连续电镀装置。(I)本专利技术的一个形态，涉及一种连续电镀装置，该装置具有 电镀槽，容纳电镀液，同时地电镀沿输送路径连续输送的多个工件； 共同阴极电极，经由分别保持所述多个工件的多个输送夹具而与所述多个工件电连接；多个分割阳极电极，在所述电镀槽内与所述输送路径对置配置；以及多个电源，与所述多个分割阳极电极的各一个和所述共同阴极电极连接，分别独立地控制供给至所述多个分割阳极电极的电流。依照本专利技术的一个形态，由于与现有技术不同地分割阳极电极，因而不需要与工件连接的分割阴极轨道，工件经由输送夹具而与共同阴极电极连接即可。因而，能够缩窄连续电镀装置的横宽。另外，由于与共同阴极电极连接的多个工件，相邻的工件彼此拥有微小的间隙地连续输送，因而在I个工件与分割阳极电极对置时和2个工件与分割阳极电极对置时，与一个分割阳极电极对置的工件的总电解面积大致相等。因而，在连续输送中，对分割阳极电极进行恒定电流控制即可。(2)在本专利技术的一个形态中，能够是，所述多个分割阳极电极的各个包括与所述多个工件的各个的第I面对置的第I电极和与所述多个工件的各个的第2面对置的第2电极。这样的话，能够电镀工件的两面。(3)在本专利技术的一个形态中，能够是，所述多个电源的各个包括通电至所述第I电极的第I电源和通电至所述第2电极的第2电源，所述第I电源和所述第2电源分别独立地设定电流值。这样的话，在电镀对象面积在工件的两面不同的情况下，能够在工件的两面设定为不同的电流值。(4)在本专利技术的一个形态中，能够是，在将所述工件的沿所述输送方向的长度设为LI并将所述多个阳极电极的各个的沿所述输送方向的长度设为L2时，实质上满足L1=L2。如果将在电镀槽内成为全部浸溃状态的工件的数量设为N，那么，即使在电镀槽内的上游侧和下游侧成为部分浸溃状态的情况下配置于电镀槽内的工件总数成为(N+1)，分割阳极电极和电源的数量也可以分别是N个，如果与像专利文献I那样需要(N+1)个电源的情况相比较，则能够使高价的电源的数量减少。即，实质上满足L1=L2，由此，能够使电源的必要个数成为最小限度。(5)在本专利技术的一个形态中，能够是，按照批单位将所述多个工件供给至所述电镀槽，在同一批的最前的工件与所述多个分割阳极电极的各一个对置时，根据所述多个分割阳极电极的各一个和所述最前的工件对置的电解面积，所述多个电源的对应的各一个针对所述多个分割阳极电极的各一个而对电流值进行渐增控制，在同一批的最后的工件与所述多个分割阳极电极的各一个对置时，根据所述多个分割阳极电极的各一个和所述最后的工件对置的电解面积，所述多个电源的对应的各一个针对所述多个分割阳极电极的各一个而对电流值进行渐减控制。S卩，仅对批单位的最初和最后的工件进行电流值的渐增或渐减控制即可，没有必要进行以按照批单位流动的全部的工件作为对象的电流值的渐增或渐减控制。(6)在本专利技术的一个形态中，能够是，在将所述工件的沿所述输送方向的长度设为L1、将所述多个分割阳极电极的各个的沿所述输送方向的长度设为L2并将n设为2以上(包括该值)的整数时，满足L2 < Ll/n。这样的话，由于没有必要使分割阳极电极的长度与工件尺寸一致，因而即使变更工件尺寸，也没有必要更换分割阳极电极。(7)在本专利技术的一个形态中，能够是，按照批单位将所述多个工件供给至所述电镀槽，所述多个电源的各个从所述批单位的最初至最后对所述多个分割阳极电极的各个进行恒定电流控制。在工件的长度LI和阳极电极的长度L2满足L2 < Ll/n的情况下，各个阳极电极所担当的电解面积变窄，因而即使在批单位的最初或最后的工件通过的情况下，也没有必要使电流值渐增或渐减。(8)在本专利技术的一个形态中，能够是，所述电镀槽，在与所述多个工件的各一个对置的位置，沿所述输送方向设有朝向所述工件喷射所述电镀液的多个喷嘴，将所述多个分割阳极电极中的至少各一个分割阳极电极配置于所述多个喷嘴中的相邻的各2个喷嘴之间。在工件的长度LI和分割阳极电极的长度L2满足L2 < Ll/n的情况下，分割阳极电极的长度L2能够比2个喷嘴之间的距离L5更短。因而，能够将多个分割阳极电极中的至少各一个分割阳极电极配置于多个喷嘴中的相邻的各2个喷嘴之间。由此，分割阳极电极与工件之间的距离变短，介于分割阳极电极与工件之间的电镀液的电阻变小，能够提高从分割阳极电极供给至工件的电流密度而进行高速电镀。(9)在本专利技术的一个形态中，能够是，所述多个分割阳极电极的各个以横剖面的轮廓作为圆。如果分割阳极电极俯视时为矩形，那么，从工件的被处理面至分割阳极电极的距离变得一定，所喷出的电镀液集中于该一定距离的窄范围，没有逃避的地方。如果以分割阳极电极的横剖面的轮廓作为圆，那么，越是从分割阳极电极的中心线离开，工件W的被处理面与分割阳极电极之间的距离就越是扩大，由此，确保电镀液的逃避的地方。附图说明图1是本专利技术的第I实施方式所涉及的连续电镀装置的概略平面图。图2是连续电镀装置的概略剖面图。图3 (A) (B)是说明在仅I个工件与一个分割阳极电极对置和2个以上(包括该值)的工件与一个分割阳极电极对置这两种情况下电解面积实质上相等的图。图4是示出仅I个工件与一个分本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种连续电镀装置，其特征在于，具有：电镀槽，容纳电镀液，同时地电镀沿输送路径连续输送的多个工件；共同阴极电极，经由分别保持所述多个工件的多个输送夹具而与所述多个工件电连接；多个分割阳极电极，在所述电镀槽内与所述输送路径对置配置；以及多个电源，与所述多个分割阳极电极的各一个和所述共同阴极电极连接，分别独立地控制供给至所述多个分割阳极电极的电流。

【技术特征摘要】
2011.09.29 JP 2011-2143011.一种连续电镀装置，其特征在于，具有电镀槽，容纳电镀液，同时地电镀沿输送路径连续输送的多个工件；共同阴极电极，经由分别保持所述多个工件的多个输送夹具而与所述多个工件电连接;多个分割阳极电极，在所述电镀槽内与所述输送路径对置配置；以及多个电源，与所述多个分割阳极电极的各一个和所述共同阴极电极连接，分别独立地控制供给至所述多个分割阳极电极的电流。2.如权利要求1所述的连续电镀装置，其特征在于，所述多个分割阳极电极的各个包括与所述多个工件的各个的第I面对置的第I电极和与所述多个工件的各个的第2面对置的第2电极。3.如权利要求2所述的连续电镀装置，其特征在于，所述多个电源的各个包括通电至所述第I电极的第I电源和通电至所述第2电极的第 2电源，所述第I电源和所述第2电源分别独立地设定电流值。4.如权利要求1至3的任一项所述的连续电镀装置，其特征在于，在将所述工件的沿所述输送方向的长度设为LI并将所述多个分割阳极电极的各个的沿所述输送方向的长度设为L2时，实质上满足L1=L2。5.如权利要求4所述的连续电镀装置，其特征在于，按照批单位将所述多个工件供给至所述电镀槽，在同一批的最前的工件与所述多个分割阳极电极的...

【专利技术属性】
技术研发人员：野田朝裕，
申请(专利权)人：ALMEXPE株式会社，
类型：发明
国别省市：