表面处理装置制造方法及图纸

表面处理装置(1)具有：处理槽(3‑1～3‑n)，其配置有多个喷管(60)，所述多个喷管(60)对浸渍在处理液中的多个工件(2)喷出处理液；以及多个处理液循环装置(100)。多个处理液循环装置各自与多个分割区域(6)中的各一个连接，其中，所述多个分割区域(6)是将处理槽在长度方向上分割成多个而成的，各个分割区域(6)包含多个喷管中的至少一个，所述多个处理液循环装置各自对从分割区域(6)中的各一个回收的处理液进行调整，然后将所述处理液回流供给到在分割区域(6)的各一个中设置的至少一个喷管。

Surface treatment device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】表面处理装置
本专利技术涉及电镀装置等表面处理装置，尤其涉及对从处理槽回收的处理液进行调整后使其返回到处理槽中的处理液的循环系统。
技术介绍
电镀装置在处理槽内容纳有电镀液。专利文献1公开了这样的电镀装置：在电镀槽外设置有由泵和过滤器构成的杂质去除部件。电镀液从电镀槽的底部排出，通过杂质去除部件使没有泥垢的干净的电镀液从电镀槽的底部回流到电镀槽内进行循环。并且，由于氧化铜等电镀成分被电镀到工件上而被消耗，因此，以往，从较长的电镀槽的一部分供给氧化铜。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2003-013291号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题在专利文献1中，若使从电镀槽的底部排出并通过杂质去除部件去除了泥垢后的干净的电镀液从电镀槽的底部回流循环到电镀槽内，则干净的电镀液没有被均等地分配到电镀槽内。并且，以往，从较长的电镀槽的一部分供给所消耗的氧化铜，因此，存在处理槽内的电镀液的浓度发生偏差的课题。本专利技术的至少一个方式的目的在于，提供能够使新鲜的处理液的浓度在处理槽内大致均等的表面处理装置。用于解决课题的手段(1)本专利技术的一个方式涉及一种表面处理装置，其具有：处理槽，其配置有多个喷管，所述多个喷管对浸渍在处理液中的多个工件喷出所述处理液；和多个处理液循环装置，所述多个处理液循环装置各自与多个分割区域中的各一个连接，其中，所述多个分割区域是将所述处理槽在长度方向上分割成多个而成的，各个分割区域包含所述多个喷管中的至少一个，所述多个处理液循环装置各自对从所述多个分割区域中的各一个回收的处理液进行调整，进而将所述处理液回流供给到在所述多个分割区域的各一个中设置的所述至少一个喷管。根据本专利技术的一个方式，多个处理液循环装置各自能够对从沿长度方向分割处理槽而成的多个分割区域中的各一个回收的处理液进行调整，然后使该处理液回流供给到在多个分割区域的各一个分割区域中设置的至少一个喷管。由此，调整后的新鲜的处理液的浓度在多个分割区域之间大致均等。而且，由于在处理槽的各分割区域内，从至少一个喷管朝向工件喷出新鲜的处理液，因此新鲜的处理液分散在各分割区域内，处理液的浓度即使在各分割区域内也大致均等。另外，处理槽的分割区域并不限于在物理上分割的情况，只要至少具有按照每个分割区域回收处理液的结构即可。(2)在本专利技术的一个方式(1)中，可以是，所述多个处理液循环装置各自包含：循环泵；和调整槽，其将通过所述循环泵从所述多个分割区域中的一个回收的处理液调整为再供给用处理液，通过所述循环泵将来自所述调整槽的所述再供给用处理液回流供给到所述至少一个喷管。这样，通过循环泵回收的处理液在调整槽内被统一调整，并且能够通过循环泵将来自调整槽的再供给用处理液回流供给到至少一个喷管。(3)在本专利技术的一个方式(2)中，可以是，所述调整槽对被回收的处理液实施如下操作中的至少一个：投入所消耗的成分；以及调整温度。在表面处理例如为电镀的情况下，所消耗的成分是处理液中的电镀成分或添加剂等。在表面处理例如为镀铜的情况下，电镀成分是氧化铜。在表面处理例如为电镀的情况下，添加剂是光泽剂、平滑剂等。就温度调整而言，将处理液的温度调整为表面处理所固有的最佳温度。通过这些中的任一调整，被回收的处理液被调整为新鲜的再供给用处理液。例如，也可以通过传感器监视被回收的处理液中的电镀成分、添加剂等的浓度或处理液的温度，在偏离适当值的情况下，对浓度或温度进行调整。(4)在本专利技术的一个方式(2)中，可以是，所述处理槽内的处理液从所述处理槽的底部侧排出而被回收，所述多个处理液循环装置各自还具有对来自所述调整槽的所述再供给用处理液进行过滤的过滤器。混入处理槽内的处理液中的比重较重的垃圾等杂质积存在处理槽的底部。这些杂质能够与从处理槽的底部侧排出的处理液一同被回收，并被过滤器去除。(5)在本专利技术的一个方式(4)中，可以是，所述表面处理装置还具有与所述处理槽相邻的溢流槽，所述处理槽内的处理液经由所述溢流槽排出而被回收。混入处理槽内的处理液中的比重较轻的杂质悬浮在处理槽内的处理液的上部。这些杂质能够与从处理槽溢流的处理液一同经由溢流槽排出而被回收，并同样地被过滤器去除。(6)在本专利技术的一个方式(1)～(5)中，可以是，所述表面处理装置是在所述长度方向上连结多个处理单元而形成的，所述多个处理单元各自包含容纳所述处理液的分割处理槽，所述多个处理液循环装置各自与所述多个处理单元各自的所述分割处理槽连接。这样，在表面处理装置是连结多个处理单元而构成的情况下，能够对各处理单元附设处理液循环装置。其中，也可以对各处理单元附设2个以上的处理液循环装置。附图说明图1是本专利技术的实施方式所涉及的间歇输送方式的电镀装置中的电镀处理部的概略剖视图。图2是图1所示的电镀装置的一个处理单元的概略俯视图。图3是示出在一个处理单元内停止的工件与阳极之间的位置关系的图。图4是输送工件的输送夹具的立体图。图5是示意性地示出阳极、阴极轨道上的导电部以及整流器的连接的图。图6的(A)、(B)是阴极轨道的主视图以及剖视图。图7是示出在单元内往复水平扫描移动的喷管的平面。图8是示出喷管的喷出口的排列间距的图。图9是示意性地示出与分割处理槽连接的处理液循环装置的图。具体实施方式以下，对本专利技术的优选的实施方式进行详细说明。另外，以下说明的本实施方式并非对权利要求书所记载的本专利技术的内容进行不当限定，作为本专利技术的解决手段，本实施方式中说明的结构不一定全部是必须的。1.多个处理单元图1是本实施方式所涉及的电镀装置(广义上为表面处理装置)的剖视图。在图1中，在该电镀装置1中，对电路基板等工件2进行电镀的电镀处理部通过连接1个以上的处理单元3-1～3-n(n为自然数)而构成。多个处理单元3-1～3-n能够具有实质上相同的结构。在多个处理单元3-1～3-n的各个处理单元中，可以连续输送工件2，也可以间歇地输送工件2。在设成间歇输送式的电镀装置1的情况下，在多个处理单元3-1～3-n中的各个处理单元中，能够使至少一个、在图1中为M(M是2以上的整数)个(例如M＝4个)工件2间歇地停止。图1示出了最大尺寸的工件2，电镀装置1具有能够对该最大尺寸以下的工件2进行处理的通用性。以下，列举间歇输送式的电镀装置1为例进行说明。工件2通过推进器等间歇输送装置被从当前的停止位置朝向接下来的停止位置在A方向上依次间歇地输送。在本实施方式中，一个工件2在各处理单元内在4个部位停止。也可以在最上游的处理单元3-1的上游侧连接有通过朝向B方向的下降移动而将工件2搬入的搬入单元4。当处理单元3-1内的工件2被间歇地输送时，搬入单元4内的工件2也被间歇地输送而移动到处理单元3-1。也可以在最下游的处理单元3-n的下游侧连接有搬出单元5，所述搬出单元5使从处理单元3-n水平移动的工件2朝向C方向上升而搬出。在处理单元3-n内的工件2被间歇地输本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种表面处理装置，其特征在于，/n所述表面处理装置具有：/n处理槽，其配置有多个喷管，所述多个喷管对浸渍在处理液中的多个工件喷出所述处理液；和/n多个处理液循环装置，/n所述多个处理液循环装置各自与多个分割区域中的各一个连接，其中，所述多个分割区域是将所述处理槽在长度方向上分割成多个而成的，各个分割区域包含所述多个喷管中的至少一个，所述多个处理液循环装置各自对从所述多个分割区域中的各一个回收的处理液进行调整，进而将所述处理液回流供给到在所述多个分割区域的各一个中设置的所述至少一个喷管。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171020 JP 2017-2038681.一种表面处理装置，其特征在于，
所述表面处理装置具有：
处理槽，其配置有多个喷管，所述多个喷管对浸渍在处理液中的多个工件喷出所述处理液；和
多个处理液循环装置，
所述多个处理液循环装置各自与多个分割区域中的各一个连接，其中，所述多个分割区域是将所述处理槽在长度方向上分割成多个而成的，各个分割区域包含所述多个喷管中的至少一个，所述多个处理液循环装置各自对从所述多个分割区域中的各一个回收的处理液进行调整，进而将所述处理液回流供给到在所述多个分割区域的各一个中设置的所述至少一个喷管。


2.根据权利要求1所述的表面处理装置，其特征在于，
所述多个处理液循环装置各自包含：
循环泵；和
调整槽，其将通过所述循环泵从所述多个分割区域中的一个回收的处理液调整为再供给用处理液，
来自所述调整槽的所述再供给用处理液被所述循环泵回流供给到所...

【专利技术属性】
技术研发人员：石井胜己，渡边重幸，
申请(专利权)人：ALMEXPE株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP