用于保护皮肤免受高能可见光损伤的化合物、组合物及方法技术

本申请公开了用于保护皮肤免受辐射的有害作用，并且特别是高能可见（HEV）辐射的有害作用损伤的化合物、组合物和方法。所述化合物是可以配制成含有黑色素衍生物和适当的载体的组合物的黑色素衍生物。所述组合物局部施用于皮肤以降低光老化的风险和改善由辐射造成的损伤引起的皮肤修复。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于保护皮肤免受高能可见光损伤的化合物、组合物及方相关申请的交叉参考本申请要求2010年3月12日提交的美国临时专利申请号61/313，456的权益，并将其整体结合至本文中作为参考。
本申请涉及使皮肤免受高能可见(HEV)光的有害作用损伤的保护。更特别地，本专利技术涉及一种黑色素衍生物，其降低HEV光导致的皮肤光老化的风险，并且克服日光导致的皮肤损伤的修复中的延迟以及延缓皮肤的光损伤和光老化。所述黑色素衍生物可以配制成各种局部施用的皮肤护理组合物，包括防晒组合物。
技术介绍
皮肤护理工业长期以来就认识到日光暴露会增加皱纹、老年斑和皮肤松弛的风险。这样的皮肤损伤在本质上是光化学的并且是与高能量、短波长的光相关的。所述光导致不期望的生物化学变化，诸如炎症以及DNA和细胞的细胞器的损伤。直到20世纪70年代，皮肤护理工业才意识到过滤除去UVB辐射足以保护皮肤抵抗来自日光暴露的光损伤。 这个结论的基础是a)单独的UVB导致皮肤发红(红斑)和b)在到达地球的辐射的波长中， 在280nm和320nm之间的区间(即UVB)是最具能量的，并且因此最具有损伤力。防晒活性成分因此已经被定义为吸收至少85本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：N达彦，JM加拉斯，
申请(专利权)人：利珀化学公司，照片保护技术公司，
类型：
国别省市：