基于声表面波的微阵列无模成型装置及成型方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种基于声表面波的微阵列无模成型装置及成型方法。在正方形的压电基体板上光刻有两对叉指换能器，每对以正方形的压电基体板中心轴为轴线对称布置，在压电基体板中间放置正方形的玻璃液槽并与压电基体板胶结，被成型的液态材料置于玻璃液槽中。超声表面波在压电基体板中传播，其能量以一定角度泄露到被成型的液态材料中形成声场，调节信号发生器和功率放大器改变超声表面波的幅值、频率和相位，从而使成型的液态材料表面形成稳定的所需微阵列结构，通过紫外光照射使其固化成型。本发明专利技术利用声场对液态材料快速成型制造出表面微阵列结构，不需要模具，制造工艺简单，设备要求低，操作简便，生产成本低，材料利用率高，生产效率高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及微成型装置及成型方法，尤其是涉及一种。
技术介绍
随着科技的进步，产品不断向微型化发展。微系统作为多学科交叉的研究领域，融合机械、电子、材料、力学等学科，在生物医学、航空航天、电子信息等领域得到广泛应用，特别是微机电系统(MEMS)的发展应用开拓了一个全新的
和产业。微小构件作为微系统的重要组成部分，其成型制造方法一直是研究的热点。微阵列结构是指表面具有微小凸台或波纹阵列的结构，由于其特殊的表面微阵列形貌，具有比表面积大的特点，因此适用于作为化学反应催化剂的载体以增大反应接触面积，此外，表面微阵列形貌能产生较大的摩擦力，因此适用于作为一般微小构件的外表层，如仿生皮肤的外表层。目前，传统的微小构件的成型制造技术主要有光刻技术、LIGA技术、超精密微机械制造技术、快速光固化方法坐寸ο光刻技术主要应用在微电子中。它一般是对半导体进行加工，采用一个部分透光的掩模板，通过曝光、显影、刻蚀等技术获得和掩模板一样的图形。由于掩膜板的磨损，光刻技术制造寿命很低，此外其工艺步骤多，生产效率低。LIGA工艺是一种基于X射线光刻技术的MEMS加工技术，主要包括X光深度同步辐射光刻，电本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于声表面波的微阵列无模成型装置，其特征在于：在正方形的压电基体板（1）上光刻有两对叉指换能器，每对叉指换能器以正方形的压电基体板（1）中心轴为轴线对称布置，在压电基体板（1）中间放置正方形的玻璃液槽（3）并与压电基体板（1）胶结，被成型的液态材料（4）置于玻璃液槽（3）中。

【技术特征摘要】
1.一种基于声表面波的微阵列无模成型装置，其特征在于在正方形的压电基体板 (I)上光刻有两对叉指换能器，每对叉指换能器以正方形的压电基体板(I)中心轴为轴线对称布置，在压电基体板(I)中间放置正方形的玻璃液槽(3)并与压电基体板(I)胶结，被成型的液态材料(4)置于玻璃液槽(3)中。2.根据权利要求1所述的一种基于声表面波的微阵列无模成型装置，其特征在于所述两对叉指换能器中，每对叉指电极与各自压电基体板(I)边缘平行的一边贴有吸声材料 (5)。3.根据权利要求1所述的一种基于声表面波的微阵列无模成型装置，其特征在于所述正方形的玻璃液槽(3)为无底玻璃液槽，通过其玻璃壁面与正方形的压电基体板(I)胶结。4.根据权利要求1所述的一种基于声表面波的微阵列无模成型装置，其特征在于所述正方形的玻璃液槽(3)的边长小于等于叉指换能器(2)的孔径。5.一种基于声表面波的微阵列无模成型方法，其特征在于，该方法包括以下各步骤1)将基于声表面波的微阵列无模成型装置放置在水平的平面上，使被成...

【专利技术属性】
技术研发人员：梅德庆，梁灵威，姚喆赫，孟坚鑫，范宗尉，杨克己，陈子辰，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：