一种表面清洁装置、温控台系统及表面清洁方法制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种表面清洁装置、温控台系统及表面清洁方法。该装置包括：可沿温控台的表面移动的支架，连接在所述支架上的喷头，以及向所述喷头输送气体的气体输入单元；所述喷头设置在所述温控台上方，所述喷头包括相对设置的第一表面和第二表面，所述喷头的第一表面上设置至少一个第一出风口；所述喷头的第二表面上设置至少一个第二出风口；所述第一出风口沿喷头移动方向向所述温控台的表面出风；所述第二出风口沿喷头移动方向向基板的表面出风。本发明专利技术实施例通过在喷头的第一表面上设置第一出风口，在喷头的第二表面上设置第二出风口，可同时去除温控台和基板的整个表面上的颗粒物，以便提高产线稼动率以及产品良率。

Surface cleaning device, temperature control table system and surface cleaning method

The embodiment of the invention provides a surface cleaning device, a temperature control table system and a surface cleaning method. The device comprises a bracket that can move along the surface temperature, the spray head is connected on the bracket, the gas input unit and to the gas nozzle; the nozzle is arranged in the temperature control, the nozzle includes opposite first surface and a second surface, at least one first the air outlet is arranged on the first surface of the nozzle; the second surface of the nozzle is provided with at least one second outlet; the first air outlet temperature to the nozzle along the moving direction of the surface; the second outlet nozzle along the movement direction of the wind to the surface of the substrate. The embodiment of the invention, by setting the first outlet nozzle on the first surface on the second surface of the nozzle is provided with second air outlet, can simultaneously remove the temperature control and the entire surface of the substrate particles, so as to improve the production line utilization rate and product yield.

【技术实现步骤摘要】
一种表面清洁装置、温控台系统及表面清洁方法
本专利技术涉及表面清洁
，特别是涉及一种表面清洁装置、温控台系统及表面清洁方法。
技术介绍
曝光机的温控台的表面上往往会残留颗粒物。这些颗粒物如果没有及时清理掉，则基板与温控台的表面在多次挤压后，可能会使颗粒物嵌入到温控台的表面的涂层中，使得基板与温控台的表面接触造成基板表面也产生凹点。现有技术中，为了解决该问题，定期清洁温控台的表面。但是，由于基板的表面也会有颗粒物，该清洁过程没有清洁基板的表面，并且在清洁的过程中又会引入新的颗粒物，从而使得清洁的效率较低，影响产能。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种表面清洁装置、温控台系统及表面清洁方法，以解决现有技术不能同时清洁温控台和基板表面的颗粒物的问题。第一方面，提供一种表面清洁装置，包括：可沿温控台的表面移动的支架，连接在所述支架上的喷头，以及向所述喷头输送气体的气体输入单元；所述喷头设置在所述温控台上方，所述喷头包括相对设置的第一表面和第二表面，所述喷头的第一表面上设置至少一个第一出风口；所述喷头的第二表面上设置至少一个第二出风口；所述第一出风口沿喷头移动方向向所述温控台的表面出风；所述第二出风口沿喷头移动方向向基板的表面出风。进一步，还包括：设置在所述喷头内部的高压放电单元，所述高压放电单元将所述气体输入单元输入的气体离子化后输入第一出风口和第二出风口。进一步：所述喷头的第一表面上设置至少一个第一吸附口；所述喷头的第二表面上设置至少一个第二吸附口。进一步，还包括：至少一个吸附单元，至少一个所述吸附单元用于设置在所述温控台的与所述喷头的移动方向同向的一侧，吸附所述第一出风口和所述第二出风口去除的颗粒物。进一步：所述第一出风口与所述喷头的第一表面的自由端之间隔有第一距离，所述喷头的第一表面的自由端为与所述喷头的移动方向同向的一端；所述第二出风口与所述喷头的第二表面的自由端之间隔有第二距离，所述喷头的第二表面的自由端为与所述喷头的移动方向同向的一端。进一步：所述喷头的第一表面上设置有至少一条与所述喷头的移动方向平行的第一导流槽，所述第一导流槽的一端延伸到所述第一出风口处，所述第一导流槽的另一端延伸到所述温控台的第一表面的自由端；所述喷头的第二表面上设置有至少一条与所述喷头的移动方向平行的第二导流槽，所述第二导流槽的一端延伸到所述第二出风口处，所述第二导流槽的另一端延伸到所述温控台的第二表面的自由端。进一步，还包括：控制单元，所述控制单元与所述喷头电连接，用于控制所述喷头的第一出风口和第二出风口的风力和/或所述第一出风口的出风温度。进一步，还包括：颗粒物检测单元和/或温度测量单元，其中，所述颗粒物检测单元与所述控制单元电连接，用于检测所述温控台的表面的颗粒物，并将所述温控台的表面的颗粒物的位置发送到所述控制单元；所述控制单元用于根据所述颗粒物的位置，控制所述喷头移动到所述颗粒物的位置处时，增大第一出风口的风力；所述温度测量单元与所述控制单元电连接，用于检测所述温控台的表面的温度，并将所述温控台的表面的温度发送到所述控制单元；所述控制单元用于根据所述温控台的表面的温度和所述温控台的表面的设定温度，调节所述第一出风口的出风温度。第二方面，提供一种温控台系统，包括：温控台和上述的表面清洁装置；所述温控台包括多个可升降的支撑针，所述多个可升降的支撑针与所述温控台的表面平行，所述多个可升降的支撑针用于支撑基板；所述表面清洁装置的喷头的第一表面正对所述温控台的表面。第三方面，一种表面清洁方法，用于上述的温控台系统，所述方法包括：将所述温控台的多个可升降的支撑针升高，使所述支撑针与所述温控台的表面分离，并使所述支撑针的高度高于表面清洁装置的喷头的高度；将基板放置在所述支撑针上；开启所述表面清洁装置的气体输入单元、所述喷头的第一出风口和所述喷头的第二出风口，使所述气体输入单元向所述喷头输送气体；开启表面清洁装置的支架，使所述支架带动所述支架上的喷头沿所述温控台的表面移动，所述第一出风口沿喷头移动方向向所述温控台的表面出风，所述第二出风口沿喷头移动方向向基板的表面出风。这样，本专利技术实施例中，通过在喷头的第一表面上设置第一出风口，以便去除温控台的表面上的颗粒物；在喷头的第二表面上设置第二出风口，以便去除基板的表面上的颗粒物；通过移动的支架带动喷头移动，可同时去除温控台和基板的整个表面上的颗粒物，以便提高产线稼动率以及产品良率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对本专利技术实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术第一实施例的表面清洁装置与温控台的结构示意图一；图2是本专利技术第一实施例的表面清洁装置与温控台的结构示意图二；图3是本专利技术第一实施例的表面清洁装置与温控台的俯视图；图4是本专利技术第一实施例的表面清洁装置的喷头的第一表面的示意图；图5是本专利技术第一实施例的表面清洁装置的一端的端面的示意图；图6是本专利技术第一实施例的表面清洁装置的喷头的第一表面的局部结构示意图；图7是本专利技术第一实施例的表面清洁装置的第一导流槽的结构示意图一；图8是本专利技术第一实施例的表面清洁装置的第一导流槽的结构示意图二；图9是本专利技术第一实施例的表面清洁装置的颗粒物检测单元的一种结构示意图；图10是本专利技术第一实施例的表面清洁装置的颗粒物检测单元的另一种结构示意图；图11是本专利技术第二实施例的温控台系统的温控台的辅助支撑针支撑基板的结构示意图；图12是本专利技术第二实施例的温控台系统的温控台的支撑针支撑基板的结构示意图；图13是本专利技术第二实施例的温控台系统的温控台温度测量单元的分布示意图；图14是本专利技术第二实施例的温控台系统的温控台温度测量单元和温度调节单元的分布是有图；图15是本专利技术第三实施例的表面清洁方法的流程图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。第一实施例本专利技术第一实施例公开了一种表面清洁装置。如图1～10所示，该表面清洁装置包括：可沿温控台8的表面移动的支架1，连接在支架1上的喷头2，以及向喷头2输送气体的气体输入单元。例如，该支架1具体可由两个支撑杆组成。每一支撑杆设置在温控台8的两端。本实施例中，该温控台8的两端为垂直于支架1的移动方向的两端。喷头2的两端分别与两个支撑杆连接，则喷头2的两端所在的平面平行于喷头2的移动方向。支架1可在轨道3上进行移动。具体的，该支架1可以向一个方向移动，也可以向两个相对的方向移动，如图3的箭头所示。该喷头2设置在温控台8上方。该喷头2包括相对设置的第一表面和第二表面。喷头2的第一表面上设置至少一个第一出风口21。例如，该第一出风口21的形状可以为从喷头2的一端延伸到另一端的狭长的条形。该喷头2上还设置有进气口25。气体输入单元与进气口25连通，通过进气口25将气体输送到喷头2内。例如，进气口25可以设置在喷头2的两端的表本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面清洁装置，其特征在于，包括：可沿温控台的表面移动的支架，连接在所述支架上的喷头，以及向所述喷头输送气体的气体输入单元；所述喷头设置在所述温控台上方，所述喷头包括相对设置的第一表面和第二表面，所述喷头的第一表面上设置至少一个第一出风口；所述喷头的第二表面上设置至少一个第二出风口；所述第一出风口沿喷头移动方向向所述温控台的表面出风；所述第二出风口沿喷头移动方向向基板的表面出风。

【技术特征摘要】
1.一种表面清洁装置，其特征在于，包括：可沿温控台的表面移动的支架，连接在所述支架上的喷头，以及向所述喷头输送气体的气体输入单元；所述喷头设置在所述温控台上方，所述喷头包括相对设置的第一表面和第二表面，所述喷头的第一表面上设置至少一个第一出风口；所述喷头的第二表面上设置至少一个第二出风口；所述第一出风口沿喷头移动方向向所述温控台的表面出风；所述第二出风口沿喷头移动方向向基板的表面出风。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：设置在所述喷头内部的高压放电单元，所述高压放电单元将所述气体输入单元输入的气体离子化后输入第一出风口和第二出风口。3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述喷头的第一表面上设置至少一个第一吸附口；所述喷头的第二表面上设置至少一个第二吸附口。4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：至少一个吸附单元，至少一个所述吸附单元用于设置在所述温控台的与所述喷头的移动方向同向的一侧，吸附所述第一出风口和所述第二出风口去除的颗粒物。5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述第一出风口与所述喷头的第一表面的自由端之间隔有第一距离，所述喷头的第一表面的自由端为与所述喷头的移动方向同向的一端；所述第二出风口与所述喷头的第二表面的自由端之间隔有第二距离，所述喷头的第二表面的自由端为与所述喷头的移动方向同向的一端。6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于：所述喷头的第一表面上设置有至少一条与所述喷头的移动方向平行的第一导流槽，所述第一导流槽的一端延伸到所述第一出风口处，所述第一导流槽的另一端延伸到所述温控台的第一表面的自由端；所述喷头的第二表面上设置有至少一条与所述喷头的移动方向平行的第二导流槽，所述第二导流槽的一端延伸到所述第二出风口处，所述第二导流槽的另一端延伸到所...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙全龙，李志宾，丁秀娟，郑云蛟，林发庆，曹振洋，韩俊，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11