转换透镜及其制备方法、二维-三维显示基板及显示装置制造方法及图纸

技术编号:8452341 阅读:196 留言:0更新日期:2013-03-21 09:00
本发明专利技术的实施例提供了一种转换透镜及其制备方法、二维-三维显示面基板及显示装置及其制备方法,涉及显示领域,能够降低驱动功率。所述转换透镜用于对显示图像进行二维-三维转换,包括:至少一金属电极;所述金属电极设置为:所述金属电极的位置与显示所述显示图像的显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应。本发明专利技术可用于显示设备中。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示领域,尤其涉及一种转换透镜及其制备方法、二维-三维图像显示基板和显示装置。
技术介绍
液晶透镜3D显示基板技术通过在普通的二维图像显示基板上设置转换透镜(Switch Cell),实现3D显示。对于液晶透镜3D显示基板的这种结构,为了避免遮挡像素,转换透镜中的电极需选用透明材料ITCKIndium Tin Oxide,氧化铟锡)。然而,由透明材料制成的透明电极ITO的电阻率很大,造成了整个显示基板的阻抗很大,进而所需要的驱动功率增大。在制备大尺寸的显示基板时,这种弊端尤其凸显。
技术实现思路
本专利技术的实施例的主要目的在于,提供一种转换透镜及其制备方法、二维-三维图像显示基板和显示装置,能够降低驱动功率。为达到上述目的,本专利技术的实施例采用如下技术方案一种转换透镜,用于对显示图像进行二维-三维转换,所述转换透镜包括至少一金属电极;所述金属电极设置为所述金属电极的位置与显示所述显示图像的显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应。可选的,所述金属电极的位置与所述显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应,是沿观看方向,所述金属电极在所述显示基板上的投影区域不超过所述黑矩阵在所述显示基板上所占的区域,所述观看方向与所述显示基板的夹角为80-90度。进一步可选的,所述金属电极的位置与所述显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应,是所述金属电极在所述显示基板上的正投影区域与所述黑矩阵在所述显示基板上所占的区域重合。进一步可选的,所述转换透镜包括公共电极基板和转换基板,所述金属电极设置在所述转换基板上。本专利技术实施例还提供了一种二维-三维图像显示基板,包括前述任一项转换透镜,以及二维图像显示基板。进一步可选的,从观看方向看,所述转换透镜设置在所述二维图像显示基板之后。进一步可选的,所述金属电极设置在所述转换透镜的远离所述二维图像显示基板的一侧上。本专利技术实施例还提供了一种显示装置,包括上述任一项二维-三维图像显示基板。本专利技术实施例还提供了一种转换透镜的制备方法,所述转换透镜用于对显示图像进行二维-三维转换,所述方法包括在衬底基板上形成至少一金属电极,使得所述金属电极的位置与显示所述显示图像的显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应。进一步可选的,在所述在衬底基板上形成至少一金属电极的步骤中,使得所述金属电极的位置与所述显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应,是沿观看方向,所述金属电极在所述显示基板上的投影区域不超过所述黑矩阵在所述显示基板上所占的区域,所述观看方向与所述显示基板的夹角为80-90度。进一步可选的,在所述在衬底基板上形成至少一金属电极的步骤中,使得所述金属电极的位置与所述显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应,是使得所述金属电极在所述显示基板上的正投影区域与所述黑矩阵在所述显示基板上所占的区域重合。本专利技术实施例提供的转换透镜及其制备方法、二维-三维图像显示基板和显示装置,通过金属电极的位置与黑矩阵所占区域的至少一部分相对应,实现黑矩阵I遮挡转换透镜中的该至少一金属电极,使得能够在不影响显示基板开口率的情况下大大降低转换透镜的总电阻值,进而节省了驱动功率,尤其适合大尺寸的二维-三维图像显示基板。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图I为本专利技术一实施例提供的转换透镜的显示原理示意图;图2为本专利技术另一实施例提供的转换透镜的结构示意图;图3为本专利技术又一实施例提供的转换透镜的结构示意图;图4为本专利技术又一实施例提供的转换透镜的结构示意图。具体实施例方式下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员所做出的合理的修改和变型都属于本专利技术保护的范围。下面结合附图对本专利技术实施例提供的转换透镜及其制备方法、二维-三维图像显示基板和显示装置进行详细描述。本专利技术实施例提供了一种转换透镜20,用于对显示图像进行二维-三维转换,如图I所示,为了更好的说明转换透镜20,图I中还示出了用于显示所述显示图像的显示基板30。可以理解的是,图中所示的显示基板30并不限制本专利技术的转换透镜20,本领域技术人员可根据公知常识或常用技术手段具体设置转换透镜20和显示基板30以形成所述二维-三维图像显示基板(下文称为显示基板)10,本专利技术实施例对此亦不作限定。其中,显示基板30用于显示图像,转换透镜20用于对显示图像进行二维-三维转换,从而控制所述显示图像为2D还是3D。其中,转换透镜20包括至少一金属电极201。金属电极201设置为所述金属电极201的位置与显示所述显示图像的显示基板30上的黑矩阵301所占区域的至少一部分相对应,能够在一定程度上将金属电极201遮蔽在黑矩阵301内。优选的,金属电极201可设置为多个,例如在转换透镜20上与黑矩阵相对应的每一位置上均设置有一金属电极。如图I和图2所示,显示基板30上设置有黑矩阵301、302、303。则在转换透镜20上的对应的每一位置上分别设置有金属电极201、202、203,图2还用连接黑矩阵和金属电极的虚线表示黑矩阵和金属电极的对应关系。此外,在本专利技术提供的其他实施例中,如图I所示,在转换透镜20的其他位置上还可设置有透明电极ITO 204。金属电极的电阻远小于透明电极ITO的电阻,例如为透明电极ITO的电阻的六百分之一。透明电极ITO及金属电极201并联设置,总电阻以最小电阻为准,从而使得转换透镜20整体的电阻大大降低。当然本专利技术实施例对此不作具体限定,本领域技术人员可根据公知常识或常用技术手段设置或不设置透明电极IT0。本专利技术实施例提供的转换透镜20,通过金属电极201的位置与黑矩阵301所占区域的至少一部分相对应,实现黑矩阵301在一定程度上遮挡转换透镜20中的至少一金属电极201,使得能够在不影响显示基板开口率的情况下大大降低转换透镜的总电阻值,进而节省了驱动功率,尤其适合大尺寸的二维-三维图像显示基板。进一步优选的,在本专利技术提供的一个实施例中,如图I所示,所述金属电极的位置与所述显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应,具体可包括沿观看方向,金属电极201在显示基板30上的投影区域201a不超过黑矩阵301在显示基板30上所占的区域301a。所述观看方向与所述显示基板30的夹角为80-90度。图I示出了表示用户观看显示基板30的视线方向的箭头。所述金属电极201沿显示基板的观看方向(如箭头所示)在显示基板30上的投影区域不超过黑矩阵30在显示基板30上所占的区域。当金属电极设置为多个时,则如图I所示,金属电极201、202、203沿观看方向在显示基板30上的投影区域均各自不超过黑矩阵30在显示基板30上所占的区域。此外,所述显示基板的观看方向与所述显示基板的夹角为80-90度。例如85度、95度等。通过几何原理可知,观看方向越趋近于垂直显示基板,则可允许的转换透镜中金属电极本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种转换透镜,用于对显示图像进行二维?三维转换,其特征在于,所述转换透镜包括:至少一金属电极;所述金属电极设置为:所述金属电极的位置与显示所述显示图像的显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:姚星
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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