本实用新型专利技术公开了一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:塑料介质膜两侧蒸镀金属膜形成双面金属化膜结构,金属膜中间形成留边,两侧金属镀层膜方阻范围为3-100Ω/□,在两端设有金属镀层部分。本实用新型专利技术提供一种高方阻多内串双面金属化膜脉冲电容器通过改进,能够提高电容器电容量的稳定性、提高工作电流和提高工作电压;整体结构简单,应用广泛,便于实施。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种电容器,具体来讲是一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器。
技术介绍
随着科技水平的不断提高,极大地加速了各行各业的发展。脉冲电容器体积小,重量轻。适用于冲击电流发生器,激光设备,避雷针测试设备等线路中。脉冲电容器在核聚变、电磁加速器、脉冲激光电源、冲击电流和冲击电压发生器等地方被广泛应用,主要用于军用整机,能库能源系统,作为主要储能元件。随着客户对整机小形化的需求越来越高,对脉冲电容器的整体稳定性要求也越来越高,传统脉冲电容器采用单镀层结构,稳定性较差, 因此利用现有的产品结构已远远无法满足客户的需求,故需要加以改进。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的不足在此提供一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,提高电容器电容量稳定性。本技术是这样实现的,构造一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于塑料介质膜两侧蒸镀金属膜形成双面金属化膜结构,金属膜中间形成留边,两侧金属镀层膜方阻范围为3 — 100 Ω / 口,在两端设有金属镀层,通过改进,能够提高电容器容量稳定性,增强电流强度。根据本技术所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于端面两侧金属镀层方阻范围为O. I - 20 Ω/ □,端面两侧金属镀层宽度为O. 5-5mm ο根据本技术所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于塑料介质膜为聚丙烯(PP)或聚酯。根据本技术所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于金属膜为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。根据本技术所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于塑料介质膜宽10 - 160 IM。根据本技术所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于塑料介质膜厚1 一 20μηι。根据本技术所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于金属镀层部分为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。根据本技术所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于留边宽度为 l-6mm,如 lmm、l. 5 mm、2mm、2· 5 mm、3mm、3· 5 mm、4mm、4· 5 mm、5mm、5· 5mm-6mmn本技术所述双面金属化膜生产脉冲电容器可形成多内串双面金属化膜结构,比如内串数量2 - 50串或者更多。本技术的优点在于本技术提供一种高方阻多内串双面金属化膜脉冲电容器通过改进,能够提高电容器电容量的稳定性、提高工作电流和提高工作电压;整体结构简单,应用广泛,便于实施。附图说明图I是本技术实施例I (2内串双面金属化膜)结构示意图图2是本技术实施例2 (3内串双面金属化膜)结构示意图·图3是本技术实施例3 (4内串双面金属化膜)结构示意图图4是本技术实施例4 (5内串双面金属化膜)结构示意图图5是本技术实施例5 (7内串双面金属化膜)结构示意图图6是本技术6内串双面金属化膜结构示意图图7是6内串波浪分切示意图图8是6内串普通分切示意图图中101、塑料介质膜,102、金属膜,103、留边,104、金属镀层。具体实施方式以下结合附图对本技术做出详细说明本技术通过改进在此提供一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,按照如下方式实施实施例I :高方阻2内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,塑料介质膜101两侧蒸镀金属膜102形成双面金属化膜结构,金属膜102中间留边103,两侧金属膜102方阻范围为3 - 100 Ω/ □,在下层两端设有金属镀层104。所述的塑料介质膜101为聚丙烯(PP)或聚酯。金属膜102以及金属镀层104可以为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。塑料介质膜101宽10 — 160 mm,塑料介质膜 101 厚1 一 20μπι。实施例2 :高方阻3内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,塑料介质膜101两侧蒸镀金属镀膜102形成双面金属化膜结构,两侧金属膜102中间留边103,两侧金属膜102方阻范围为3 - 100 Ω/ □,在下端设有金属镀层104。所述的塑料介质膜101为聚丙烯(PP)或聚酯。金属镀层膜102以及金属镀层104可以为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。塑料介质膜101宽10 — 160 mm,塑料介质膜101厚1 — 20μπι。实施例3 :高方阻4内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,塑料介质膜101两侧蒸镀金属镀层膜102形成双面金属化膜结构,两侧金属镀层膜102中间留边103,两侧金属镀层膜102方阻范围为3 — 100 Ω/ □,在下两端设有金属镀层104。塑料介质膜101为聚丙烯(PP)或聚酯。金属镀层膜102以及金属镀层104为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。塑料介质膜101宽10 — 160 mm,塑料介质膜101厚1 一 20μπι。实施例4 :高方阻5内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,塑料介质膜101两侧蒸镀金属镀层膜102形成双面金属化膜结构,两侧金属镀层膜102中间留边103,两侧金属镀层膜102方阻范围为3 — 100 Ω/ □,在上端设有金属镀层104。塑料介质膜101为聚丙烯(PP)或聚酯。金属镀层膜102以及金属镀层104可以为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。塑料介质膜101宽10 — 160IM,塑料介质膜101厚1 一 20μπι。实施例5 :高方阻7内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,塑料介质膜101两侧蒸镀金属镀层膜102形成双面金属化膜结构,两侧金属镀层膜102中间留边103,两侧金属镀层膜102方阻范围为3 — 100 Ω/ □,在下端设有金属镀层104。塑料介质膜101为聚丙烯(PP)或聚酯。金属镀层膜102以及金属镀层104可为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。塑料 介质膜101宽10 — 160 mm,塑料介质膜101厚1 一 20μπι。同理本技术所述双面金属化膜生产脉冲电容器可形成多内串双面金属化膜结构,比如内串数量2 - 50串或者更多。本技术各内串可按照波浪分切或普通分切方式进行实施。权利要求1.一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于塑料介质膜(101)两侧蒸镀金属膜(102)形成双面金属化膜结构,在两端设有金属镀层(104),所述金属膜(102)中间形成留边(103),两侧金属镀层膜(102)方阻范围为3 — 100Ω/ 口。2.根据权利要求I所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于端面两侧金属镀层(104)方阻范围为O. I — 20 Ω/ □,端面两侧金属镀层(104)宽度为O. 5-5腿。3.根据权利要求I所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于塑料介质膜(101)为聚丙烯或聚酯。4.根据权利要求I所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于金属膜(102)为锌、铝、锌铝合金或银锌铝合金。5.根据权利要求I所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于塑料介质膜(101)宽10 — 160 IM。6.根据权利要求I所述的一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于塑料介质膜(本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种高方阻多内串双面金属化膜形成的脉冲电容器,其特征在于:塑料介质膜(101)两侧蒸镀金属膜(102)形成双面金属化膜结构,在两端设有金属镀层(104),所述金属膜(102)中间形成留边(103),两侧金属镀层膜(102)方阻范围为3-100Ω/□。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:欧名杰,杨明,胡银刚,
申请(专利权)人:四川省科学城久信科技有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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