波长板的制造方法技术

本发明专利技术制造保持高耐湿性而耐久性和稳定性优良的波长板。在基板上倾斜沉积介质材料，形成具有介质材料的微粒层叠为柱状的柱状部(12)、和设在该柱状部间的间隙部(13)的双折射层(14)，在100℃以上300℃以下的温度对双折射层(14)进行退火处理。然后，通过在退火处理的双折射层(14)上高密度地形成无机化合物，形成低湿度透过性的保护膜(15)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有由倾斜沉积形成的双折射层所导致的双折射率的。本申请主张以2010年6月25日在日本申请的日本专利申请号特愿2010-144559作为基础的优先权，该申请通过参照在本申请中被引用。
技术介绍
以往，波长板大部分是由石英等无机光学单晶体、高分子延伸膜制作的。然而，尽管无机光学单晶体作为波长板，其性能、耐久性、可靠性较好，但原材料费、加工成本较高。另外，高分子延伸膜对于热量、UV光线容易劣化，耐久性不佳。 因此，例如提出了专利文献I 4所记载的那样的，从相对于基板面倾斜的方向沉积粒子来形成斜柱状构造，对于与该基板面垂直入射的光线具有双折射性的光学元件。形成有具有该斜柱状构造的斜向沉积膜的斜向沉积波长板，原理上通过调整膜厚能够设定任意的相位差。另外，比较能够进行大面积化，通过批量生产能够降低成本。专利文献I记载的斜向沉积膜，由倾斜沉积在相位差中显示高波长色散的材料和显示低波长色散的材料的、至少2层构成，适用于在可见光线的宽频带下的波长板。该专利文献I的斜向沉积膜，分别使用在相位差中显示高波长色散的材料和显示低波长色散的材料，层叠各层，以使各层介质材料相对于基板的沉积方向不本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：小池伸幸，山田隆俊，高田昭夫，佐佐木正俊，
申请(专利权)人：迪睿合电子材料有限公司，
类型：
国别省市：